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TAE技术公司专利技术
TAE技术公司共有8项专利
用于保护目标材料的材料和配置制造技术
本文描述了钝化区域和装置配置。钝化区域可以配置为密封防止目标材料从下方区域扩散到钝化区域中和/或扩散穿过钝化区域。钝化区域还可以配置为密封防止外部来源物质或环境物质扩散到钝化区域中和/或穿过钝化区域朝下方区域扩散。
用于在束系统中启动束输送的系统、装置和方法制造方法及图纸
系统、装置和方法的实施例涉及启动加速器系统的束输送。一种示例性方法包括将加速器系统的一个或多个电极的偏置电压升高到第一电压水平,以及从束源提取带电粒子束,使得该束被输送通过加速器系统。该束具有束电流,其引起在阈值以内的第一瞬态电压降。该...
用于束失准检测的系统、装置和方法制造方法及图纸
系统、装置和方法的实施例涉及一种束系统。检测束系统中的束失准的示例性方法包括检测所述束系统的注入器系统中的束失准。该示例性方法进一步包括检测所述束系统的加速器系统中的束失准。统中的束失准。统中的束失准。
用于束靶交换和挥发性物体储存的系统、装置和方法制造方法及图纸
提供了与用于束系统中的保持靶的装置(300)或组件的更换相关的实施例。通过这些实施例,用过的靶(200)可快速且安全地替换为新靶以允许在临床或其他环境中继续操作。还提供了具有相对较低的轮廓的阀(291,292)的实施例,所述相对较低的轮...
用于减少和抵抗金属体中的形变的系统、设备和方法技术方案
提供了金属体,其具有锂层和金属基材。所述金属体可显示出提高的对辐射诱导的形变如起泡的抵抗性。提供了将金属体转变为更抗空泡的结构的方法,作为我们的用于减小或消除先前形成的空泡的方法。还公开了使用所述金属体和方法的系统。方法的系统。方法的系统。
用于离子束调制的系统、装置和方法制造方法及图纸
系统、装置和方法的实施例涉及一种离子束源系统。离子源被配置为向离子源下游的串列式加速器系统提供负离子束,并且连接到离子源的引出电极的调制器系统被配置为在足以保持串列式加速器系统的加速电压稳定性的持续时间偏置提取电极。偏置提取电极。偏置提...
用于高质量离子束形成的系统、设备和方法技术方案
与光束系统有关的系统、设备和方法的实施例。一种示例光束系统,包括:带电粒子源,其被配置为产生带电粒子束;预加速器系统,其被配置为加速光束;以及加速器,其被配置为加速来自预加速器系统的光束。预加速器系统可以使得光束在它从源传播到加速器的输...
用于光束位置监测和光束成像的系统、设备和方法技术方案
系统、设备和方法的实施例涉及用于检测光束线中的光束未对准的快速光束位置监测。在示例中,快速光束位置监测器包括延伸到光束线的组件的内部的多个电极。快速光束位置监测器被配置为基于束晕电流检测穿过光束线的组件的光束的位置。系统、设备和方法的实...
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