苏住裕专利技术

苏住裕共有1项专利

  • 本发明公开了一种基底可被重复使用的结构及其处理方法。在基底与至少一层外延层之间形成至少一层分离层。使用本发明的方法,提供一种分离方式使对应的分离层发生反应而分解,以使基底与外延层中的一层分离,从而达到基底可重复使用的目的,因而能降低成本...
1