本发明涉及一种ODF工艺制程及其应用，所述ODF工艺制程包括如下步骤：(1)在CF基板的边缘涂布边框胶，预烘；(2)液晶滴下至CF基板表面；(3)将TFT基板和CF基板进行真空贴合，再进行固化；步骤(1)中，所述预烘的温度为70‑150...

本发明提供一种单组分环氧遮光胶及其制备方法和液晶显示器。所述单组分环氧遮光胶的制备原料按照重量份数计包括如下组分：多官能环氧树脂15‑55份、环氧树脂15‑55份、环氧稀释剂1‑10份、固化剂1‑15份、促进剂0.5‑5份、遮光剂1‑3...

本发明提供一种利用磁性氧化锆吸附剂去除有机物中金属离子的方法，所述方法包括：含金属离子的有机物在磁性氧化锆吸附剂作用下吸附去除金属离子，得到纯净有机物，所述磁性氧化锆为Fe3O4@ZrO2。本发明通过采用磁性氧化锆去除有机物中的金属离子...

本发明提供一种全氟聚合物表面活性剂及其制备方法和应用，所述全氟聚合物表面活性剂的分子结构中包含至少一种第一结构单元，所述第一结构单元具有如式I所示结构。所述全氟聚合物表面活性剂以全氟碳链作为主链，侧链含有带磺酸和/或磺酸盐的全氟烷基醚结...

本发明涉及一种光刻胶底部的抗反射涂层树脂及其制备方法和应用，所述抗反射涂层树脂的制备原料包括甘脲衍生物和芳香型羟基化合物；本发明所述的抗反射涂层树脂，配成的光刻胶底部涂层具有高折光率和高吸收率，可以有效阻止光刻胶辐射光穿透抗反射涂层，显...

本发明涉及一种具有高粘接高透湿特性的粘合剂组合物及其应用，以所述粘合剂组合物的总质量为100%计，所述粘合剂组合物包括如下组分：改性甲基丙烯酸酯10%

本发明涉及一种粘合剂组合物及其应用，以所述粘合剂组合物的总质量为100%计，所述粘合剂组合物包括如下组分：改性甲基丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯30%

本发明公开了一种用于193nm浸没式光刻胶顶层涂层的聚合物、制备方法及应用，尤其涉及一种含氟丙烯酸酯类聚合物及其制备方法，本发明提供了一种可以有效减少浸没式曝光时光致产酸剂对光学镜头的污染的顶层涂层用聚合物，该聚合物可提高光刻胶顶层涂层...

本发明公开了一种具有高透过率及低收缩率的LOCA胶水，所述LOCA胶水按照重量份数计，由以下组分的原料构成：95

本发明公开了一种高附着力的聚氨酯丙烯酸光学透明胶，按照重量份数计，由以下组分的原料构成：聚氨酯丙烯酸酯30

本发明公开了一种显影液组合物，所述显影液组合物包括有机胺、表面活性剂及有机溶剂，所述有机胺选自具有式Ⅰ、式Ⅱ或式Ⅲ结构的一种或多种有机胺。本发明的显影液，通过加入特定的有机胺，在确保分辨率的同时还可改善直线边缘的粗糙度及缺陷，扩大光刻工...

本发明公开了一种紫外光

本发明公开了一种粘度可控的封框胶制备方法，包括以下步骤：1）按照预定质量份数称取原料，所述原料包括双酚A环氧二丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯类化合物、二甲基苯胺、二氧化硅粉、偶联剂、有机填料及光引发剂，将上述原料投入到反应釜中进行混合搅拌至均匀...

本发明公开了一种低透湿性封框胶及其制备方法，所述封框胶按照重量份数计，包含以下组分的原料：丙烯酸聚合物40

本发明公开了一种高粘度液晶封框胶，所述封框胶按照重量份数计，包含以下组分的原料：环氧树脂10

本发明公开了一种顶部抗反射涂层组合物，该组合物的原料包括含氟聚合物、碱、表面活性剂及溶剂，且所述含氟聚合物的分子量控制在20

本实用新型公开了一种光学胶防漏搅拌装置，其包括：机架、浮动板、减速箱、搅拌桨、升降驱动装置、盖体和筒体，所述盖体设置在固定板底面，所述减速箱设置在固定板顶面进行搅拌桨的旋转驱动，所述盖体底部边缘设置有第一法兰，所述浮动板设置在升降驱动装...

本实用新型公开了一种便于添料的真空搅拌装置，其包括：反应釜、搅拌桨、抽真空管道、添料斗、震动马达、第一真空表和第二真空表，所述反应釜上部一侧设置有斜向上延伸的添料管，所述添料斗设置在添料管顶部，所述添料管上设置有添料阀门，所述震动马达设...

本实用新型公开了一种有利于粉料回收的洁净抽风除尘罩，其包括：抽风管、螺纹盖、过滤网、第一壳体和第二壳体，所述第一壳体包括第一筒体及第一倒锥形壳体，所述第二壳体包括第二筒体及第二倒锥形壳体，所述第二筒体同心设置在第一筒体中，所述抽风管设置...

本实用新型公开了一种光学胶防堵初滤装置，其包括：沉降箱体、闭环输送体、第一滤板、第二滤板和第三滤板，所述第一滤板水平设置在沉降箱体内腔左壁上，所述第二滤板设置在沉降箱体中并从第一滤板前端斜向上延伸，所述第三滤板设置在沉降箱体中并从第二滤...