本发明公开了一种用于双轴平台的旋转驱动装置，该双轴平台包括平台底座、位于该平台底座上方的晶圆吸盘组件、以及位于该平台底座下方的垂向驱动模块，该垂向驱动模块能够驱动该晶圆吸盘组件进行垂向运动，其中该旋转驱动装置包括：位于该平台底座上的直驱...

本公开涉及掩膜对准系统和方法、以及光刻机。本公开的掩膜对准系统可包括：掩膜对准模块；以及处理器。该处理器可被配置成：从数个距离传感器接收数个距离；确定数个距离之间的差异是否小于或等于第一阈值；在确定数个距离之间的差异小于或等于第一阈值的...

本发明公开了一种调平辅助装置，包括：用于吸附掩模板的掩模板吸附台，该掩模板吸附台的中心设置有通孔并且沿该通孔周向布置有多个滑槽，其中硅片能够通过该通孔从该掩模板吸附台下方上升，并且该多个滑槽的数目大于等于3个；以及多个调平组件，每个调平...

本发明公开了一种简易识别片盒规格的装置及方法，包括：固定板、推杆组件和距离传感器，固定板上设有输送辊，固定板上开设有出料部；推杆组件具有第一挡板、第二挡板、第一转轴和第二转轴，片盒可操作地置于第一挡板与第二挡板之间，第一挡板能够以第一转...

本发明公开了一种多尺寸晶片传输检测装置，涉及晶片检测相关领域，包括安装台

本发明公开了一种掩模对准光刻设备的对准系统，包括：晶圆

本发明公开了一种用于大翘曲度圆晶的吸附系统，涉及半导体相关领域，包括工作台，所述工作台顶部转动安装有放置台，设置了牵引装置于工作台的前后两端，通过牵引管对于圆晶进行牵引，这样有助于对大翘曲度圆晶进行吸附牵引，方便使大翘曲度圆晶的移动和放...

本发明公开了一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，涉及光刻标记相关领域，包括光刻机

本发明公开了一种晶圆交接结构及交接方法，涉及晶圆交接相关领域，包括吸盘底座、PIN驱动机构、承片台、PIN机构、晶圆和检测机构，所述吸盘底座顶部固定连接有PIN驱动机构，所述PIN驱动机构顶部设有连接盘，且该连接盘顶部通过连接杆固定连接...

本发明涉及光刻设备领域，公开了一种光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：晶圆设置标记点，视场中心对准标记点；晶圆移动时，获取晶圆的移动量

本发明公开了一种光刻设备照明用光源系统，涉及光刻光源相关领域，包括光源机构、光加强机构、滤波机构和匀光机构，所述光源机构左端固定连接有光加强机构，所述光加强机构顶部固定连接有滤波机构，所述滤波机构左端固定连接有匀光机构，设置光源机构，通...

本公开涉及用于硅片盒的凸片自纠正的系统和方法、以及光刻机。根据本公开的系统可包括：载台、凸片检测传感器、自纠正装置和控制器。自纠正装置可包括：导杆、导杆上的滑块、滑块上的两个夹爪、以及两个夹爪上的两个滚轮。控制器可与凸片检测传感器、滑块...

本发明提供了一种用于掩模对准光刻设备的照明系统，包括：光源模块，光源模块包括多个可独立控制的光源；光准直模块，光准直模块将光源模块中的每一个光源所发出的光准直成沿平行于照明系统的光轴的第一方向发射的第一多个平行光束；设置于光轴上的第一抛...

本发明公开了一种被动调平平台，包括：垂向电机；位于该垂向电机上方的定子组件，该定子组件包括定子底板、设置在该定子底板上的三个重力补偿气缸和三个锁定气缸；位于该定子组件上方的动子组件，该动子组件包括与该定子底板相连的三个导向销、带有支撑结...

本发明公开了一种用于pin位置检测的装置，包括：底板，该底板中设置有与第一气体传感器相连的第一气道；位于该底板上的基板，该基板中设置有与第二气体传感器相连的第二气道以及与第三气体传感器相连的第三气道；位于该基板上的吸盘，该吸盘用于吸附硅...

本公开涉及环形照明组件、成像装置、掩模对准系统和光刻机。根据本公开的环形照明组件，包括光源模块；光出射控制模块和多根光纤。在一些情形中，该光出射控制模块上开有多个孔。在一些情形中，该多根光纤的第一端与该光源模块对接，并且该多根光纤的第二...

本发明提供了一种掩模对准光刻设备及其照明系统和照明方法，其中照明系统包括：光源模块，用于提供光刻所需的照明；聚光模块，用于对光源模块发射的光进行聚光；光阑调节模块，用于提供光刻任务中所需要的通光孔径和角谱；均光模块，用于对经过光阑调节模...

本发明公开了一种上胶机构以及涂胶设备，其中，所述上胶机构包括：支架；连接环，连接环设置于支架上，连接环的上端设置有一注入口；第一球瓣腔，第一球瓣腔可转动地安装于连接环的一侧；第二球瓣腔，第二球瓣腔可转动地安装于连接环的另一侧；旋转驱动机...

本发明公开了一种用于涂胶显影设备的全自动供液系统，包括涂胶显影设备和螺栓在涂胶显影设备前端左顶侧的控制面板，通过第一贮留罐和气泡罐以及泄放罐等部件为涂胶显影药液提供存储，缓冲和回收作用，并通过第一气动阀和控制阀门等部件为涂胶显影药液提供...

本发明公开了一种多尺寸兼容光刻机的传输系统，包括工作台和螺栓安装在工作台顶部的第一限位导轨以及安装在工作台顶部左侧的光刻设备，所述第一限位导轨内轨滑动设置有第一电动滑块，通过设置了调节机构在安装板架顶部，通过调节气缸带动调节位移板进行长...