赛姆柯苏州智能科技有限公司专利技术

赛姆柯苏州智能科技有限公司共有17项专利

  • 本技术涉及一种废气处理装置,包括壳体和加热组件,壳体具有容置空间,壳体具有相对的第一侧、第二侧,第一侧、第二侧上均开设有与容置空间贯通的开孔,壳体的第一侧与主炉体连接,并通过该侧开孔与主炉体贯通;壳体的第二侧的开孔处设置有挡板;加热组件...
  • 本实用新型涉及一种上下料吸盘机构,其包括吸盘组件、吹气组件,吸盘组件包括安装板、一个或多个吸盘,吸盘与安装板固定连接,吸盘位于安装板下,每一个吸盘用于吸取硅片、将硅片堆叠至花篮上;吹气组件包括储气块、气嘴、气源,储气块设置在安装板下方并...
  • 本实用新型涉及一种石英炉门装置,包括支撑套、支撑弹力管、石英炉门,支撑弹力管的一端与支撑套通过连接法兰连接,支撑弹力管的另一端与石英炉门连接,石英炉门能够绕自身轴线方向转动,装置还包括第一挡板、弹性件、第二挡板,第一挡板与石英炉门连接并...
  • 本发明涉及一种晶体硅反应炉真空控制系统及控制方法,系统包括缓冲罐、用于向缓冲罐输送气体的通气机构、用于定量抽取缓冲罐内气体的真空泵、用于检测缓冲罐内的真空值的真空检测部件以及控制器,缓冲罐与通气机构、真空泵、晶体硅反应炉均连通,真空检测...
  • 本发明涉及一种输送机构,包括驱动部件、传动组件、第一位移组件、第二位移组件、第一连接组件、第二连接组件,传动组件包括第一传送带、第二传送带,驱动部件用于驱动第一传送带并带动第二传送带同步运行;第一连接组件与第一位移组件连接并用于支撑产品...
  • 本实用新型公开一种石英舟,所述石英舟包括上下相对设置的上固定板与下固定板、设在所述上固定板与下固定板之间的多个间隔设置的立柱,所述上固定板、立柱与下固定板之间具有中空空间,所述立柱用于放置硅片,每一个立柱上设置有多个卡槽,相邻两个立柱上...
  • 本发明公开一种硅片用石英舟及硅片放置方式,石英舟包括前后相对设置的前固定板与后固定板及设在两者之间的多个上安装柱与下安装柱,上安装柱与下安装柱一一对应设置;上安装柱与下安装柱上均设有卡槽,上安装柱上的卡槽与下安装柱上的卡槽一一对应设置,...
  • 本实用新型公开一种具有预加热功能的石英管反应室,其包括石英管反应腔、第一加热炉及第二加热炉,第一加热炉设置在石英管反应腔长度方向的一端,第一加热炉具有沿其轴向延伸的腔体,第一加热炉远离石英管反应腔的端部设置有至少一个进气管,进气管通过第...
  • 本发明公开一种石英舟输送安装装置及使用方法,石英舟左右两侧均设有一个外延部,其包括碳化硅桨组件及驱动机构,碳化硅桨组件包括固定座、设在固定座同一外侧面的两个碳化硅桨及用于连接两个碳化硅桨的连接件,每一个碳化硅桨的一端固定设在固定座上,其...
  • 本实用新型公开一种用于LYDOP设备的粉尘过滤装置,其包括具有进气口和出气口的过滤室,过滤室内设置有具有排气口的排气通道,排气通道的排气口与过滤室的出气口连通,排气通道上设置有多个用于供气体排出的排气孔;排气通道外设有多个间隔设置的过滤...
  • 本实用新型公开一种新型颗粒收集装置,其包括进口及出口的收集室,收集室内相对设置的两内侧壁之间设置有至少两个隔板,每相邻两个隔板之间保持间距,使得收集室内形成多个具有中空空间的腔室;隔板用于与进入腔室的气体中的颗粒抵触从而提供阻止颗粒移动...
  • 本实用新型公开一种新型碳化硅桨调整机构,其包括安装座、支撑组件、第一调整机构、第二调整机构、第三调整机构及第四调整机构,支撑组件包括第一支撑组件及第二支撑组件,第二支撑组件包括支撑座、第三支撑件及固定座,固定座用于固定碳化硅桨;第一调整...
  • 本实用新型公开一种新型硅片水平插片机构,其包括硅片输送机构、翻转机构、抓取机构及硅片检测机构,硅片输送机构一侧设有花篮,硅片检测机构用于检测硅片,抓取机构用于抓取硅片输送机构上传送的检测合格的硅片并将其放置到花篮上,硅片正面朝上;翻转机...
  • 本实用新型公开一种LPCVD双材质真空反应室,其包括反应室、进气组件及出气管,进气组件与外部气源连接,反应室包括外层腔体及设在外层腔体内的内层腔体;进气组件包括至少一个左进气管及至少一个右进气管,每一个左进气管的进气口设置在反应室长度方...
  • 本实用新型提供的加热炉隔热门,通过在隔热板上设置多个向内贯穿支架的石英板定位轴,并使石英板定位轴具有凸出于支架内表面的凸出部,通过在石英板上开设与该凸出部一一对应并用于避让该凸出部的腰型定位孔,便于对位;通过在支架上设置有多个向内凸出的...
  • 本实用新型提供的加热炉隔热门开合机构,通过在所述底座上设置无杆电缸,并将与隔热门连接的连接臂通过固定板和基板连接在无杆电缸的滑块上,实现了通过无杆电缸的动作带动隔热门移动的技术效果,通过在固定板上设置向内凸出的导向板,使基板可转动地连接...
  • 本发明公开一种LPCVD双材质真空反应室,其包括反应室、进气组件及出气管,进气组件与外部气源连接,反应室包括外层腔体及设在外层腔体内的内层腔体;进气组件包括至少一个左进气管及至少一个右进气管,每一个左进气管的进气口设置在反应室长度方向的...
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