一种靶材压框的喷砂装置，包括喷砂室，喷砂室的顶部具有除尘出风管连接，喷砂室安装有上下多对的喷枪，在两内部设有转动架，转动架，包括转轴，转轴的上下两端设有连接端，两个连接端之间连接有支杆，支杆以转轴为中心圆周整列围绕于两个连接端，支杆的直...

一种可快速清灰的滤芯除尘装置，主要由沉降室、除尘室、抽风机组成，沉降室的顶部通过连接管道连接于除尘室的侧壁下方，抽风机连接在除尘室的顶部的上盖上，沉降室和连接管道的连接处还设置有侧向开口的进气口，在除尘室的内部设置一隔板将除尘室分隔成相...

本实用新型涉及靶材技术领域，公开一种靶材均衡网。其包括：钨丝网、紧固环和承载环，钨丝网的边缘处连接在承载环上，紧固环放置在钨丝网上，且紧固环与承载环为固定连接，钨丝网稳定地连接在紧固环和承载环上。通过对半导体基片沉积材料方面进行合理设计...

本实用新型提供了一种储水过滤机构及其高压清洗设备，储水过滤机构包括一级过滤桶、二级过滤桶和压力泵，一级过滤桶包括第一容腔和第二容腔，第一容腔底部设置过滤槽，过滤槽内设置有滤袋，外部水源经第一容腔通过滤袋到第二容腔，完成第一道过滤；二级过...

一种晶圆载盘的整形装置，包括整形台，整形台包括一表面为平整的台面，在台面的中部设置一个横跨其台面两侧上部的支架，支架固定地设置一个或多个气缸，气缸的伸缩杆连接一个用于晶圆载盘整形的整形板，整形板，其底部表面为一个平整的表面，整形台的台面...

本实用新型提供了一种过滤除尘设备，包括依次设置的进气管、过滤机构、排风机构和出气管，过滤机构包括有进气室和出气室，所述排风机构包括风机和电机，进气管连通进气室的上侧，进气室内设置有若干个滤筒，进气室和出气室之间设置有出气孔，滤筒开口的一...

本实用新型公开了一种晶圆放置框架，放置框架包括两侧板，两侧板相对的一侧分别设置有多个齐平的放置台，晶圆容置于两侧板齐平的放置台上；一底板，底板的两端分别安装在两侧板的底部；一顶板，顶板的两端分别安装在两侧板的顶部；以及两限位圆杆，两限位...

本实用新型公开了一种晶圆厚度检测设备，所述检测设备包括设备框架，安装基板，托盘放置座，晶圆托盘，两Y轴气浮滑座，两Y轴气浮滑块，两Y轴直线电机，一X轴气浮滑座，一X轴气浮滑块，一X轴直线电机，以及测距仪。本实用新型的检测设备在移动测距仪...

本实用新型公开了一种立面式环状晶圆镀膜治具，镀膜治具包括一旋转机台；以及多个治具单元，治具单元安装在旋转机台的侧面，多个治具单元依次首尾连接闭合呈环状；治具单元包括一治具面板，治具面板上弯折成至少有两个立面，各个立面上均设有至少两个容置...

本实用新型公开了一种伞状式晶圆镀膜治具，所述镀膜治具包括治具托盘，所述治具托盘呈球形面状，所述治具托盘上容安装多个晶圆，所述治具托盘的中部设有安装孔；以及安装支座，所述安装支座安装在安装孔内，所述治具托盘通过安装支座可拆卸的安装在一旋转...

本实用新型公开了一种四孔坩埚，所述四孔坩埚包括坩埚本体，所述坩埚本体的顶部设有四个加热容腔，所述坩埚本体的底部对应其中两个加热容腔的位置设有散热腔；以及水冷底座，所述水冷底座与坩埚本体的底部可拆卸、密封连接，对其中两个加热容腔进行水冷散...

本实用新型公开了一种拼装式晶圆镀膜治具，所述镀膜治具包括治具支架，所述治具支架上设有安装通孔；晶圆托盘，所述晶圆托盘配合在安装通孔内，所述晶圆托盘上容安装多个晶圆；以及四个调节螺栓，四个调节螺栓分别位于晶圆托盘的四个角，所述调节螺栓活动...

本实用新型公开了一种粘胶喷涂设备，所述喷涂设备包括箱式底座，喷涂内箱，喷涂平台，三轴移动机构，喷涂枪，排出管，收集盒，以及喷涂控制系统。本实用新型通过喷涂控制系统控制三轴移动机构、喷涂枪、泵胶设备和抽负压风机，进而对产品零件进行均匀喷胶...