日东电工株式会社专利技术

日东电工株式会社共有8967项专利

  • 本发明提供一种包含粘合剂层的粘合片。上述粘合剂层含有:聚合物A,其为单体原料A的聚合物;以及聚合物B,其为包含具有聚有机硅氧烷骨架的单体和(甲基)丙烯酸系单体的单体原料B的聚合物。上述聚合物B的Mw为7×10
  • 粘合剂组合物含有粘合成分和分散在粘合成分中的产气颗粒。粘合剂组合物的25℃下的拉伸模量为5MPa以下。粘合剂组合物中产气颗粒产生的产气量在粘合剂组合物的固体成分中、以0℃、1013hPa下的癸烷换算为5mL/g以上。
  • 提供对基板的密合性优异的光波导、用于制作该光波导的光波导用环氧树脂感光性组合物和光波导用感光性薄膜、以及具备光波导的光电混载基板。
  • 本发明涉及一种偏振膜,其具有起偏镜、及直接形成于上述起偏镜的至少一面的功能层,上述功能层是含有氨基甲酸酯预聚物(a)及化合物(b)的形成材料的固化物,上述氨基甲酸酯预聚物(a)是异氰酸酯化合物与多元醇的反应物,上述化合物(b)具有至少2...
  • 提供具有优异的弯曲性和透明性的粘合膜。还提供具有优异的弯曲性的可折叠装置和可卷式装置。该粘合膜具有基材层和粘合剂层,其中所述粘合膜的以粘弹性测量装置的拉伸模式测量的在0.7%应变下的tanδ(0.7%)为0.1以下。该粘合膜具有基材层和...
  • 本申请的带粘合剂层的光学层叠膜依次层叠有保护膜、光学膜、粘合剂层及隔膜,其中,光学膜的厚度为80μm以下,保护膜的厚度为30μm以上,保护膜的拉伸弹性模量为1GPa以上。根据本申请的带粘合剂层的光学层叠膜,可以抑制在保管时可能产生的凹陷...
  • 阻抗匹配膜10包含氧化铟与氧化锡的混合物作为主要成分且所述混合物具有非晶态结构。阻抗匹配用阻抗匹配膜10具有5cm
  • 增强片(1)为贴合于金属面板的增强片(1),所述增强片(1)具备树脂层(3)和配置于树脂层(3)的厚度方向一侧的约束层(4),所述增强片(1)沿着第1方向和第2方向延伸,第1方向一侧的外周缘呈朝向一侧突出的一个弯曲形状。
  • 本发明的课题在于提供有助于提高剥离后的表面的洁净性的粘合片。可提供一种粘合片,其包含构成粘合面的粘合剂层,利用下式算出的清洁度为20%以上。清洁度=1‑(B/A),此处,上述式中的B为将粘合片从SiN晶片进行水剥离后的该SiN晶片的表面...
  • 本发明提供一种实现优异的反射色相及视角特性、且具有优异的机械强度的带光学补偿层的偏振片。本发明的带光学补偿层的偏振片是在有机EL面板中使用,且依次具备起偏器、光学各向异性层、第1光学补偿层和第2光学补偿层。光学各向异性层显示出nx≥ny...
  • 本发明的课题在于提供也适合于包含高温工艺的使用方式的半导体加工用粘合片。本发明的解决手段是提供包含构成粘合面的粘合剂层的半导体加工用粘合片。对于上述半导体加工用粘合片而言,在一个方式中,初始常规剥离力Fd
  • 本发明涉及一种柔性图像显示装置,其具备:窗构件、第1构件、第1层叠体或第1带触摸传感器的面板构件、以及多层的粘合构件。第1层叠体是第2构件与第3A构件(包含面板构件)的层叠体。在具备第1层叠体的情况下,第1构件及第2构件中的一者为光学膜...
  • 提供偏光件保护薄膜、偏光板和图像显示装置。提供一种加湿环境下的耐久性得以提高的偏光板。一种偏光件保护薄膜,其为含有色素的树脂薄膜,所述偏光件保护薄膜的吸水率为3.0%以下;以及,一种偏光板,其具有:偏光件、和配置于该偏光件的至少单侧的上...
  • 本发明的目的在于,提供适于覆盖保护具有弯曲部位、弯折部位等非平坦部位的保护对象面的表面保护薄膜、及带有这种表面保护薄膜的光学构件。作为本发明的表面保护薄膜的薄膜10具有包含基材薄膜11和粘合剂层12的层叠结构。基材薄膜11的130℃下的...
  • 本发明提供一种复合半透膜,至少具备:多孔质层;及分离功能层,设置在所述多孔质层上。其中,所述多孔质层单独包含含氟聚合物或含酰亚胺基聚合物,由所述多孔质层和所述分离功能层构成的部分的被进行了5.5MPa的加压后的压缩率为60%以下。缩率为...
  • 本发明提供一种复合半透膜,至少具备多孔质层和设置在所述多孔质层上的分离功能层,其中,所述多孔质层包含结晶性聚合物,所述结晶性聚合物的结晶度为30%以上且50%以下。性聚合物的结晶度为30%以上且50%以下。性聚合物的结晶度为30%以上且...
  • 本发明提供一种偏振膜,其在偏光膜的至少一面隔着粘接剂层贴合有透明保护膜,上述偏光膜是使碘吸附于聚乙烯醇类膜并进行取向而形成的,上述粘接剂层包含受阻胺类化合物,上述受阻胺类化合物是在100重量份的25℃水中能够溶解1重量份以上的水溶性受阻...
  • 本发明提供布线电路基板的制造方法和布线电路基板片。在形成导体图案(5)的工序中,一边将包含第4遮光标记(43)的第4掩模(39)和包含第6遮光标记(46)的第5掩模(40)沿长度方向依次配置,一边对光致抗蚀层(49)进行多次曝光,并进行...
  • 本发明涉及处置癌症的方法,其包括将有效量的下述配合物施予至需要其的对象,所述配合物含有:(1)包含序列号1的核苷酸序列的分子;和(2)抗癌剂。和(2)抗癌剂。和(2)抗癌剂。
  • 本发明涉及在反义链中包含序列号1的核苷酸序列的癌处置用RNAi分子、包括将有效量的所述RNAi分子施予至需要其的对象的处置癌的方法。法。