日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有988项专利

  • 本发明提供一种零面锚定膜的制造方法的工业制造方法、以及使用其的良好的液晶显示元件和液晶显示元件的制造方法。一种零面锚定膜的制造方法,其包括以下步骤:在使含有液晶、手性掺杂剂和自由基聚合性化合物的液晶组合物与自由基产生膜接触的状态下,给予...
  • 提供由下述式(1)表示的磺酸酯化合物。(式中,R
  • 本发明公开了一种电荷传输性清漆,其包含苯胺低聚物、特定的磺酸酯化合物、金属氧化物纳米粒子以及有机溶剂;本发明还公开了由所述电荷传输性清漆所制成的电荷传输性薄膜、具有所述电荷传输性薄膜的电子器件和有机电致发光元件、使用所述电荷传输性清漆的...
  • 本发明提供一种耐半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物,其包含分子内含有至少1组彼此相邻的2个羟基的化合物、或其聚合物、以及溶剂,其是在半导体制造中的光刻工艺中,用于形成对半导体用湿蚀刻液的耐性优异、并可以通过干蚀刻迅速除去的保护膜的组合...
  • 本发明提供一种耐半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物,其包含:分子内包含至少1个缩醛结构的化合物、或其聚合物;以及溶剂,其是在半导体制造中的光刻工艺中,用于形成对半导体用湿蚀刻液的耐性优异的保护膜的组合物,并提供应用了该保护膜的带有抗蚀...
  • 包含含有式(1)的聚苯胺衍生物的电荷传输性物质、氟系表面活性剂、金属氧化物纳米粒子和溶剂的有机光电转换元件的空穴捕集层用组合物给予与有机光电转换元件的活性层的密合性优异的薄膜。{R
  • 一种液晶取向剂,其含有选自聚合物主链末端具有下述式(1)的结构的聚酰亚胺前体和聚酰亚胺中的至少一种聚合物。R
  • 提供能够抑制因布线结构、C/H的影响而产生的取向膜的涂布不良、能够抑制液晶表示元件的表示不均匀的不良的液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件。一种液晶取向剂,其特征在于,含有:选自由具有式[1]的结构的聚酰胺酸、聚酰胺酸酯和作为其酰亚胺化...
  • 提供过滤性和印刷性优异的液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向性优异的液晶取向膜、以及具备该液晶取向膜的液晶表示元件。一种液晶取向剂,其特征在于,含有:选自由具有下述式[1]的结构的聚酰胺酸或聚酰胺酸酯和作为其酰亚胺化物的聚酰亚胺组成...
  • 本发明提供:具有高效地赋予了取向控制能力、源自液晶取向偏移、残留DC的残影特性优异的、横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板和具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。本发明提供一种液晶取向剂,其含有:(A‑a)选自使用包含下述式(...
  • 本发明的目的是提供可获得在维持耐热性优异,延迟低,柔软性优异,进一步透明性也优异这样的优异性能的同时,能够从玻璃载体容易剥离的具有作为柔性显示器基板等柔性器件基板的基膜的优异性能的塑料薄膜的树脂薄膜叠层体的形成方法。一种方法,是树脂薄膜...
  • 本发明是在支持体与被加工物之间具有以能够剥离的方式粘接的中间层、用于通过切断等分离被加工物、或是用于进行晶片的背面研磨等加工的层叠体,该中间层至少含有与支持体侧接触的剥离层,剥离层含有能够吸收隔着支持体照射的190nm~600nm的光而...
  • 提供作为树脂组合物的可获得介电常数、介质损耗角正切被进一步降低了的固化体的感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物制造固化浮雕图案的方法、以及具备该固化浮雕图案的半导体装置。一种负型感光性树脂组合物,其包含:(A)具有特定的单元结构的聚...
  • 含有三嗪环的聚合物,其特征在于,含有由下述式(1)表示的重复单元结构。{式中,R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基、或者芳烷基,Ar表示选自由式(2)和(3)表示的组中的至少一种。[式中,W
  • 一种液晶配向剂,其含有聚酰亚胺,所述聚酰亚胺为四羧酸二酐物衍生物成分与二胺成分的反应产物,所述四羧酸二酐物衍生物成分包含选自脂肪族四羧酸二酐物及脂环式四羧酸二酐物中的至少1种,二胺成分含有选自下述式[A]的二胺中的至少1种,聚酰亚胺的酰...
  • 一种液晶取向剂,其特征在于,该液晶取向剂含有选自作为四羧酸衍生物与二胺的反应产物的聚酰亚胺前体和作为其酰亚胺化物的聚酰亚胺中的至少1种的聚合物、以及有机溶剂,上述有机溶剂含有下述成分:A成分:选自γ‑丁内酯、γ‑戊内酯中的至少1种;B成...
  • 本发明的课题是提供可以形成光学特性优异,压印后的支持体的翘曲量远小于以往的固化物(成型体),并且通过热处理而该固化物(成型体)的上层的防反射层不产生裂缝的光固化性组合物。解决手段是一种压印用光固化性组合物,其包含:(a)脂环式(甲基)丙...
  • 本发明涉及下述通式(1)所示的二胺化合物。此处式(1)中,R
  • 本发明的课题是提供使用具有高蚀刻速度且在基板加工后能够通过药液除去的抗蚀剂下层膜形成用组合物的半导体装置的制造方法。解决手段是一种半导体装置的制造方法,其包含下述工序:在使用包含在强酸的存在下在非醇溶剂中将水解性硅烷进行水解并缩合而获得...
  • 本发明的课题是提供用于形成具备优异的光反应效率和耐溶剂性,且使聚合性液晶固化后能够从该聚合性液晶层剥离的固化膜的固化膜形成用组合物、取向材、相位差材。解决手段是下述固化膜形成用组合物、使用该组合物而获得的取向材、相位差材,上述固化膜形成...