本发明提供一种工业性且高收率的5‑炔基吡啶化合物的制造方法。一种由式(3)表示的化合物的制造方法，该由式(3)表示的化合物是在具有膦系配体的钯催化剂的存在下使用碳酸钠或碳酸氢钠使由式(1)表示的5‑氯吡啶化合物与由式(2)[式(2)中，...

本发明的课题是提供耐受过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。解决手段是一种耐受过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物，其包含：树脂；下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所示的化合物；交联剂；交联催化剂；以及溶剂，其中，相对于上述树脂，以80...

本发明的课题是提供可以形成使用于液晶显示元件、有机EL显示元件等，即使在固化后也维持良好的图像并且即使不进行等离子体处理、UV臭氧处理等，固化膜表面也具有高疏液性，此外残渣少，基板具有高亲液性的固化膜的图像的感光性树脂组合物。解决手段是...

本发明提供可获得即使在经受过度加热的情况下，使液晶垂直取向的能力也不会降低的液晶取向膜的液晶取向剂，并且提供可获得即使在膜接触任何异物而受到损伤时，使液晶垂直取向的能力也不会降低的液晶取向膜的液晶取向剂。本发明提供一种液晶取向剂，其含有...

一种液晶取向剂，其含有由具有下述式(1)所示的结构的二胺得到的聚合物。R

本发明的课题是提供对晶片的电路面、支持体的旋转涂布性优异，在与粘接层的接合时、晶片背面的加工时的耐热性优异，在晶片背面的研磨后能够容易地剥离，剥离后附着于晶片、支持体的粘接剂能够简单除去的临时粘接剂及其叠层体、使用了其的加工方法。解决手...

提供兼具高蚀刻耐性、高耐热性和良好的涂布性的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，包含下述式(1)...

本发明的课题是提供在曝光时作为防反射膜起作用，并且可以埋入狭窄空间和高长宽比的凹部，进一步相对于过氧化氢水溶液的耐性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含树脂、下述式(1a)或式(1b)所示的化合...

本发明的课题是提供形成具有对图案的填充性和平坦化性的被膜的等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物。解决手段是一种等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物，其包含化合物(E)和溶剂(F)，所述化合物(E)包含选自下述式(1‑1)～式...

液晶取向剂，其含有选自由聚酰亚胺前体及作为其酰亚胺化物的聚酰亚胺组成的组中的至少1种聚合物、和溶剂，所述溶剂含有下述溶剂A、溶剂B及溶剂C。溶剂A：选自由N‑甲基‑2‑吡咯烷酮、N‑乙基‑2‑吡咯烷酮、N‑丁基‑2‑吡咯烷酮、γ‑丁内酯...

本发明提供即使烧成时间短，液晶取向性也良好、预倾角表现能力也优异、并且能得到高的可靠性的液晶取向膜以及液晶取向剂。本发明提供一种液晶取向剂，其含有(A)成分：具有下述(A‑1)和(A‑2)的结构的聚合物；和溶剂，上述聚合物还具有(A‑3...

本发明涉及一种液晶取向剂，其含有：选自使用四羧酸二酐成分和含有下述式(1)所示的二胺的二胺成分得到的聚酰胺酸及该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少一种聚合物(A)、和选自使用四羧酸二酐成分和含有下述式(2)所示的二胺的二胺成分得到的聚酰胺...

通过将下述式[1a]的化合物用于液晶表示元件的液晶组合物，可实现本发明的目的。式中的符号的定义如说明书中所述。

本发明的课题是提供适合作为用于形成液晶显示元件、有机EL显示元件等所使用的图案状绝缘性膜的材料、像素间间壁材料，能够形成即使在固化后也维持良好的图像并且即使不进行氧气等离子体等处理也具有高疏水性和高疏油性，此外残渣少，基板具有高亲液性和...

本发明的课题是提供能够形成使用于液晶显示元件、有机EL显示元件等，在固化后也维持良好的图像并且即使不进行等离子体处理、UV臭氧处理等，固化膜表面也具有高疏水性和高疏油性，此外残渣少，基板具有高亲液性和高亲油性的固化膜的图像的感光性树脂组...

本发明提供即使在长波长区域中也为低传播损耗，并且波长1,550nm下的折射率高的光波导形成材料。解决手段是下述光波导形成用组合物和使用该组合物制作的光波导，上述光波导形成用组合物包含：(a)反应性倍半硅氧烷化合物100质量份，上述反应性...

提供剥离层形成用组合物，其含有：包含由式(1)表示的结构单元的重均分子量5,000以上的聚酰胺酸、和有机溶剂。[(式中，X

本发明的课题是提供通过晶片的研磨工序可获得晶片的中心部与周边部(激光标记部分)的高低差小的平坦研磨面的研磨用组合物、以及使用了该研磨用组合物的晶片的制造方法。解决手段是一种研磨用组合物，其包含水、二氧化硅粒子、碱性物质、和式(1)所示的...

本发明的课题是提供用于形成不进行蚀刻而仅通过化学溶液就能够将光刻后的掩模残渣除去的抗蚀剂下层膜的组合物。解决手段是一种含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，其用于形成含有硅的抗蚀剂下层膜，该含有硅的抗蚀剂下层膜为在通过光刻工艺将...

本发明提供电荷传输性清漆，其包含苯胺衍生物、噻吩衍生物等电荷传输性物质、由下述式表示的氟代烷基磷酸鎓盐和有机溶剂。