本发明涉及一种能够在低温下封装半导体元件、且耐酸性优异、玻璃管成型时不易析出结晶的半导体封装用无铅玻璃和半导体封装用外套管。其特征在于，作为玻璃组成，以摩尔%计含有SiO245～58%、Al2O30～6%、B2O314.5～30%、Mg...

本发明的无碱玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO258～70％、Al2O315.5～20％、B2O30～1％、MgO0～5％、CaO3.5～16％、SrO0.5～6.5％、BaO5～15％，基本上不含有碱金属氧化物，应变...

本发明提供具有优异耐久性的光学用罩部件。本发明的光学用罩部件（1），其具备：壳体（20）、透镜（30）和将透镜（30）与壳体（20）固定的固定件（40）。壳体（20）包括：沿着一个方向延伸的筒状的壳体主体（21）；从壳体主体（21）的内...

本发明的无碱玻璃的特征在于，作为玻璃组成以mol％计，含有SiO250～70％、Al2O39～15％、B2O311～20％、CaO8～12％，摩尔比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3的值为0.8～1.2，密度为2.37g/c...

一种高折射率玻璃，其特征在于，作为玻璃组成含有SiO2+Al2O3+B2O3?0.1～60质量％，质量比(BaO+La2O3+Nb2O5+TiO2+ZrO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.1～50，质量比(MgO+CaO+S...

本发明的强化玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有45～75％的SiO2、0～30％的Al2O3、0～30％的Li2O+Na2O+K2O，并且β-OH值为0.3～1/mm。

本发明提供一种通过下拉法直接制造可以用于低温p-SiTFT基板用途的玻璃基板的方法、以及利用该方法得到的玻璃基板。该玻璃基板的制造方法包括下述工序：成型工序，其利用下拉法将熔融玻璃成型为带状；退火工序，其对玻璃带进行退火；以及切割工序，...

本发明提供一种通过下拉法直接制造可以用于低温p-SiTFT基板用途的玻璃基板的方法、以及利用该方法得到的玻璃基板。该玻璃基板的制造方法包括下述工序：成型工序，其利用下拉法将熔融玻璃成型为带状；退火工序，其对玻璃带进行退火；以及切割工序，...

提供不会使制造生产线无益地大型化，而能够由带状玻璃膜来获得高品质的产品玻璃部的玻璃膜的制造方法。玻璃膜的制造方法中，执行将带状玻璃膜G沿着长度方向输送，并利用热应力沿着割断预定线连续地割断玻璃膜G，由此将玻璃膜G分割为产品玻璃部Ga和无...

本发明涉及一种半导体封装用防护玻璃及其制造方法，该防护玻璃具有适于塑料封装的热膨胀系数，且能够通过图像检测正确检测是否存在杂质和尘埃等，且其α射线的放射量通常很少。该防护玻璃的特征在于，以质量%计含有SiO258～75%、Al2O31....

本发明涉及Sb2O3含量减少的同时，仍能维持可见区域的高透射系数的光学玻璃。该光学玻璃的特征在于，作为组成，以质量%计含有SiO235%以上、Sb2O3低于50ppm、Fe2O3低于30ppm，其中，（Fe2O3含量/Pt的总含量）之值...

本发明的玻璃基板的特征在于，基板尺寸为1100mm×1250mm以上，且在路径长度50mm下的波长500～800nm的透射率为80％以上。

本发明提供能够抑制光源使用中的波长变换元件破损、从具备波长变换元件的光源射出的光的强度降低的波长变换元件。波长变换元件（20）具备波长变换基板（21）和反射层（24）。波长变换基板（21）在射入激发光（L0）时，吸收激发光（L0）的一部...

本发明的强化玻璃是在表面具有压缩应力层的强化玻璃，其特征在于，作为玻璃组成以摩尔％计，含有SiO250～75％、Al2O33～13％、B2O30～1.5％、Li2O0～4％、Na2O7～20％、K2O0.5～10％、MgO0.5～13％...

一种晶化玻璃，其特征在于，作为玻璃组成以质量％含有SiO2?55～73％、Al2O3?17～25％、Li2O?2～5％、TiO2?2.5～5.5％、ZrO2?0～2.3％、SnO2?0.2～0.9％、V2O5?0.005～0.09％，实...

本发明的电极形成用玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计，含有Bi2O365.2～90％、B2O30～5.4％、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+CuO+Fe2O3+Nd2O3+CeO2+Sb2O3(MgO、CaO、SrO、B...

本发明的无碱玻璃的特征在于，基本上不含有碱金属氧化物，形变点高于680℃，30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为40～55×10-7/℃，液相温度低于1200℃。另外，本发明的无碱玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计，含有Si...

本发明提供具有期望的光学特性并且耐失透性优异、批量生产性优异的光学玻璃。该光学玻璃的特征在于，由折射率（nd）为1.75～1.95、阿贝数（νd）为15～35的SiO2-Nb2O5-TiO2类玻璃构成，操作温度范围（ΔT）＝（100.5...

在玻璃板的制造工序包含的退火区域(3)中，使玻璃带(G)在宽度方向上弯曲而形成弯曲部(5)，并且在玻璃带(G)的宽度方向的至少局部区域的上下，使弯曲部(5)的表背方向的凹凸的方向反转，由此增大玻璃带(G)的上下方向及宽度方向上的折弯阻力。

该玻璃膜(G)的割断方法将玻璃膜(G)沿着规定的方向传送，并同时借助沿着在传送方向(a)上延伸的割断预定线(8)进行局部加热并对局部加热区域(H)进行冷却而产生的热应力，沿着割断预定线(8)将玻璃膜(G)连续地割断，将玻璃膜(G)沿着宽...