日本曹达株式会社专利技术

日本曹达株式会社共有417项专利

  • 本发明提供能够在低温的反应条件下、在短时间内、以高收率得到式(1-Ⅲ)所示的N-(2-氨基-1,2-二氰基乙烯基)亚氨酸酯类的制造方法。还提供非常适合用于制造AICN或AICA等的环化反应且收率高的式(2-Ⅱ)所示的N-(2-氨基-1,...
  • 本发明涉及作为具有cGMP特异的磷酸二酯酶抑制作用等的医药有用的通式(1)表示的噻吩并[2,3-d]嘧啶化合物及其制备方法,式中,Q表示a和b连接的式(CH↓[2])↓[n]-N(r↓[1])-C(r↓[2])(r↓[3])、CH=CH...
  • 一种生产热敏纸无色染料显色剂的通式(II)表示的化合物的方法,该方法有优秀的生产能力、经济性和安全性,且能从可稳定得到的原料制得该化合物。该方法的生产能力、经济性和安全性有所提高,与现有技术相比,通过使用比现有技术所用的烷基溴更具反应性...
  • 本发明提供对于用现有的草坪用除草剂难以防除的阔叶多年生杂草、和/或对现有除草剂具有抗药性的杂草也显示出高除草效果,并且对草坪草类显示出充分的安全性的草坪用阔叶多年生杂草防除剂,以及将该防除剂施用于土壤或茎叶的草坪阔叶多年生杂草的防除方法...
  • 作为向水洗式马桶的冲洗水箱等水槽内定期地分配清洗液等药液的装置,例如已知将填充了药液的药液罐设于水槽外,在水槽内的水被排出之时利用水面的下降将药液吸入水槽内的装置。但是,为了消除一次的吸入量的波动,必须设定为每一次都吸入比较大量的药液,...
  • 本发明涉及聚合物的制造方法,本发明的目的是提供制造高分子量、且分子量分布狭窄、单峰性的聚合物,特别是有利于在工业上制造阴离子聚合性单体与丙烯酸类单体的嵌段共聚物的方法。通过在式(1):(R1)nM(式中,R1表示C1~C20的烷基或C6...
  • 本发明提供分子结构受控的窄分散的星形聚合物以及能够简易地制造该星形聚合物的星形聚合物的制造方法。本发明涉及星形聚合物的制造方法,其具有:(A)使具有阴离子末端的聚合物的阴离子末端与核结合,形成臂(I)的工序;和(B)采用活性自由基聚合从...
  • 本发明涉及成型用模具或电铸母模,其特征在于,使模具或母模与含有式[1]Rn-Si-X4-n……[1](式[1]中,R表示可以具有取代基的C1~20烃基、可以具有取代基的C1~20卤代烃基、含有连接基的C1~20烃基或含有连接基的C1~2...
  • 本发明涉及多分支聚合物及其制造方法。提供下述式(Ⅰ)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中,A表示具有3个以上分支链的有机基团,X↑[a]表示含有周期表第14~16族的任一原子的连接基团,Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能...
  • 本发明的目的是提供一种可以稳定地得到粒状或厚板状的、且容积密度高、品质好的蛋氨酸结晶的蛋氨酸的制备方法。该蛋氨酸的制备方法是在包括用选自金属氢氧化物、金属碳酸盐、金属碳酸氢盐中的至少1种金属化合物水解5-(2-甲基巯基乙基)乙内酰脲得到...
  • 本发明的目的是提供在控制烯醇双键的立体构型的同时高收率地得到具有式(Ⅰ)(式中,E表示C(=X)R↑[4]基,S(O)nR↑[4]基,P(=X)R↑[4]R↑[5]基等)所示的烯醇结构的乙烯衍生物的方法,该方法是将式(Ⅱ)所示的化合物与...
  • 本发明提供通式[I]所表示的4-氰基乙酰基吡唑的制备方法,(式中,R#+[1]表示C#-[1]~C#-[6]烷基,R#+[2]表示C#-[1]~C#-[6]烷基或C#-[1]~C#-[6]卤代烷基,X表示氢原子或C#-[1]~C#-[6...
  • 一种在热性能、物理性能和离子导电性方面十分出色并且接近实际应用水平的聚合物固体电解质;尤其是完全固体电解质和生产该固体电解质的组合物。具体而言,聚合物固体电解质用组合物的特征在于所述组合物含有共聚物和电解质盐,所述共聚物具有式(Ⅰ)的重...
  • 本发明提供以B、A、B的配置顺序具有由含有重复单元(Ⅰ)、(Ⅱ)的无规共聚物构成的嵌段链A、和具有重复单元(Ⅲ)的嵌段链B的高分子,由该高分子与交联剂的反应而得到的交联高分子,含有这些高分子和电解质盐的高分子固体电解质用组合物,高分子固...
  • 本发明,通过加大曝光部和未曝光部的溶解度差,以提供用于高感度下高解像性的细微图形形成的光刻胶等中的组合物为目的。本发明涉及一种酸分解性组合物,特征在于包含具有式(Ⅰ)表示的重复单元的聚合物以及酸或通过外部刺激产生酸的化合物。式中,R↓[...
  • 本发明提供一种形成薄层电阻值和透明性极其均匀的透明导电膜的透明导电膜形成液。本发明还提供透明导电膜附着基体的制造方法,所述透明导电膜附着基体带有薄层电阻和透明性极其均匀的透明导电膜。具体地,提供具有如下特征的透明导电膜形成液和利用该透明...
  • 透明导电膜形成液,其特征在于:包含下式[1]表示的铟化合物和下式[2]表示的锡化合物:    In(R↑[1]COCHCOR↑[2])↓[3]  [1]    其中,R↑[1]和R↑[2]分别独立地表示碳原子数为1-10的烷基或苯基; ...
  • 本发明以提供热特性、物理特性和离子传导度优良、接近实用水平的高分子固体电解质,特别是全固体电解质,以及成为用于制造该电解质的基质的共聚物组合物为目的。该高分子固体电解质含有共聚物和电解质盐,该共聚物中具有以式(Ⅰ)表示的重复单元的嵌段链...
  • 本发明的目的是提供充分高透明的、带有透明导电膜的透光性基板,其是在透光性基板上形成有膜厚为12~2nm的连续的透明导电膜的带有透明导电膜的透光性基板,透明导电膜优选为柱状单晶的集合体,透明导电膜的最大表面粗糙度为1~20nm,透明导电膜...
  • 本发明涉及一种新的酚性化合物及含有该化合物并具有优异保存稳定性的记录材料。该酚性化合物由式(Ⅰ)表示:(Ⅰ)其中m是0~2的整数,R↑[1]和R↑[2]分别独立地表示C1~C6烷基、C1~C6烷氧基等,p和q分别独立地是0~4的整数,t...