本公开涉及用于自由尺度光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质。该方法包括：以第一精度格式对第一掩模版图应用光刻模型，以生成仿真晶圆图像；以第二精度格式确定指示仿真晶圆图像与目标图像之间的差异的度量指标，其中目标图像是期望经光刻模型的光刻...

本公开涉及用于多重曝光的版图生成方法、电子设备及存储介质。用于多重曝光的版图生成方法包括：基于版图的设计参数生成无向图参数，其中无向图参数用于定义无向图；基于无向图参数生成无向图，无向图包括节点和连接节点的链接；确定无向图中是否存在冲突...

本公开的示例实施例涉及用于掩模工艺校正的方法、电子设备及存储介质。该方法包括：以第一精度格式对经光学邻近校正的目标掩模版图应用掩模光刻模型，以生成第一仿真掩模版图；将所述第一仿真掩模版图转换为第二精度格式的第二仿真掩模版图，其中所述第一...

本公开的示例实施例涉及用于模型校准的方法、电子设备及存储介质。该方法包括：对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一化处理，以获得归一化版图图像，其中模型具有初始化的模型参数；对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理，以获得仿真晶...

一种失效分析方法及装置、计算机可读存储介质、终端，所述方法包括：确定DFT诊断数据；根据所述DFT诊断数据，确定各个目标组合的分数，其中，所述目标组合包含各种疑似失效的类型和位置的组合；基于各个硬件节点的各个目标组合的分数，采用路径推理...

一种半导体器件的布局方法、装置、可读存储介质、终端，所述方法包括：确定多个半导体器件的端口信息以及各个待连接端口的初始坐标；采用各个待连接端口的序号、初始坐标、待连接的对方端口的序号作为节点信息，利用第一卷积神经网络模型输出所述各个待连...