【技术实现步骤摘要】
本公开的实施例主要涉及半导体领域，并且更具体地，涉及用于模型校准的方法、电子设备及存储介质。
技术介绍
1、随着半导体工艺的发展，设计尺寸越来越小。由于光的衍射和干涉现象，通过对掩模版进行曝光而在硅片上实际形成的晶圆图像与掩模版上的电路版图（简称为掩模版图）之间存在一定的差异。例如，晶圆图像可能出现线条宽度变窄、窄线条短点收缩、图形拐角处变圆滑等现象。
2、光学邻近校正（optical proximity correction，opc）技术被广泛用于半导体制造过程中减小晶圆图像与目标图像之间的差异。具体地，为了减小光学衍射造成的图像错误，尽可能使晶圆上产生的电路与给定的电路一致。opc通过修改掩模版图来补偿成像，以使所获得晶圆图像更接近目标图像。然而，opc过程需要消耗大量时间和计算资源。
3、此外，掩模过程中非线性效应会导致电子束模糊化、光阻扩散、横向刻蚀偏差等不良结果。为此传统方案中采用掩模过程校正（或称掩模工艺校正，mask processcorrection, mpc），以减少上述非线性效应所造成的影响，尽可能使掩模上的电路版图与经过opc校正后的掩模版图一致。与opc校正类似，mpc校正过程中也需要消耗大量时间和计算资源。
技术实现思路
1、根据本公开的示例实施例，提供了用于模型校准的方案，以至少部分克服上述或者其他潜在缺陷。
2、在本公开的第一方面，提供一种用于模型校准的方法。该方法包括：对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一
3、在本公开的第二方面，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器以及与处理器耦合的存储器，存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使设备执行动作。该动作包括：对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一化处理，以获得归一化版图图像，其中模型具有初始化的模型参数；对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理，以获得仿真晶圆图像，其中第二精度格式的精度低于第一精度格式的精度；使用第一精度格式确定指示仿真晶圆图像与目标图像之间的差异的度量指标；对模型参数进行迭代更新；以及响应于度量指标满足预定标准，将对应于满足预定标准的度量指标的模型确定为最优模型。
4、在一些实施例中，对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一化处理包括：用模型参数中的归一化系数对掩模版图进行处理，以缩小掩模版图的图像像素值的范围。
5、在一些实施例中，对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理包括：响应于在对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理期间第二精度格式的数据越界，调整归一化系数以进一步缩小掩模版图的图像像素值的范围。
6、在一些实施例中，用模型参数中的归一化系数对掩模版图进行处理包括使用以下公式进行处理：
7、其中normalization为归一化处理函数，表示归一化处理后的掩模版图的图像；（xi,yi）表示第i个像素点的坐标；normalization (xi,yi)表示坐标（xi,yi）处的归一化处理后的像素； w表示掩模版图，表示坐标（xi,yi）处的掩模版图的像素；表示归一化系数，是根据掩模版图的像素取值范围以及掩模版图的大小而被确定的。
8、在一些实施例中，gamma = 1/max(x, (max(y) – min(y))), 其中x表示掩模版图的图像尺寸，y表示掩模版图的图像像素的取值; beta = -min(y)/gamma; 其中max表示取最大值，min表示取最小值。
9、在一些实施例中，模型中包括用于执行仿真处理的多个模块，其中对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理还包括：分别确定多个模块中的各个模块在仿真处理期间是否存在第二精度格式的数据越界；以及响应于确定相应模块中存在第二精度格式的数据越界，禁用与相应模块对应的开关参数以停止在相应模块中应用第二精度格式的仿真处理；以及在相应模块中对归一化版图图像应用第一精度格式的仿真处理。
10、在一些实施例中，对归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理包括使用第二精度格式进行至少以下运算之一：卷积运算；以及傅里叶变换。
11、在一些实施例中，第一精度格式包括以下至少一项：32位单精度浮点数格式fp32；以及64位双精度浮点数格式fp64；并且第二精度格式包括以下至少一项：16位脑浮点数格式bf16；以及16位半精度浮点数格式fp16。
12、在一些实施例中，度量指标包括以下至少一项：边缘放置误差，以及关键尺寸。
13、在一些实施例中，迭代地更新模型参数包括更新以下参数中至少一项：光学相关的以及光刻胶相关的物理参数；归一化系数；以及用于控制模型中的相应模块的计算精度的开关参数。
14、在一些实施例中，度量指标满足预定标准包括满足以下中至少一项：度量指标小于预定阈值；或者迭代的次数达到预定阈值。
15、在一些实施例中，模型为光学邻近校正模型或掩模工艺校正模型。
16、在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的方法。
17、本公开实施例的方案，能够提高掩模校正过程中的计算速度并且能够减少或者防止数据溢出，从而满足精度要求。
18、应当理解，
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键或重要特征，亦非用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的描述变得容易理解。
【技术保护点】
1.一种用于模型校准的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一化处理包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其中对所述归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理包括：
4.根据权利要求2所述的方法，其中用所述模型参数中的归一化系数对所述掩模版图进行处理包括使用以下公式进行处理：
5.根据权利要求4所述的方法，其中:
6. 根据权利要求1所述的方法，其中所述模型中包括用于执行所述仿真处理的多个模块，其中对所述归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理还包括：
7. 根据权利要求1所述的方法，其中对所述归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理包括使用所述第二精度格式进行至少以下运算之一：
8. 根据权利要求1所述的方法，其中：
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述度量指标包括以下至少一项：
10.根据权利要求1所述的方法，其中对所述模型参数进行迭代更新包括更新以下参数中至少一项：
11.根据权利要求1所述的方法，其中
12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，其中：
13. 一种电子设备，包括：
14.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，程序被处理器执行时实现根据权利要求1-12中任一项所述的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种用于模型校准的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中对输入到模型中的第一精度格式的掩模版图进行归一化处理包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其中对所述归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理包括：
4.根据权利要求2所述的方法，其中用所述模型参数中的归一化系数对所述掩模版图进行处理包括使用以下公式进行处理：
5.根据权利要求4所述的方法，其中:
6. 根据权利要求1所述的方法，其中所述模型中包括用于执行所述仿真处理的多个模块，其中对所述归一化版图图像应用第二精度格式的仿真处理还包括：
7. 根据权利要求1所述的方法，其中对所述归一化版图图像应...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全智芯上海技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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