本发明提供了一种干版、菲林显影槽清洗剂及清洗方法，清洗剂成分包括重铬酸盐、硫酸和去离子水，且重铬酸盐∶硫酸∶去离子水＝１－２０ｇ∶１－２０ｍｌ∶２５－４１６０ｍｌ。显影槽清洗方法，包括如下步骤：（１）配置上述干版、菲林显影槽清洗剂；（２...

本发明涉及一种Ａ型胶，包括下述重量份的原料：金属纳米阻光材料：５８％～７８％ｗｔ，固化剂：２０％～４０％ｗｔ，稀释剂：０．５％～２％ｗｔ，玻璃促进剂：０．１％～１％ｗｔ，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述...

本发明适用于掩膜版缺陷修补方法技术领域，提供了一种用于修补的油墨，包括下述重量份的原料：连接剂：７８％～９４％ｗｔ，颜料：５％～２０％ｗｔ，稀释剂：０．５％～２％ｗｔ，其中，所述连接剂是一种环氧树脂或酚醛树脂；所述颜料为碳粉，如石墨；所...

本发明适用于计算机直接制版技术光刻领域，提供了一种光刻机曝光系统及其控制方法，光刻机曝光系统包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；光路系统组件将光源发射的光信号进行调制处理后输出，光刻镜头将光路系统组件输出的光信号聚焦到基...

本发明涉及一种去除干版或菲林中黑缺陷的处理液，包括第一药剂和第二药剂，第一药剂按重量百分比含有无机酸：５－２０％、重铬酸盐：５－２０％、去离子水：６０－９０％，第二药剂按重量百分比含有还原剂５－２０％以及去离子水８０－９５％。本发明还涉...

本实用新型提供一种显微镜反射照明系统，包括依次设置的光源、第一透镜、第二透镜和显微物镜。光源为可见光和紫外光，第一、第二透镜之间的间距为７０ｍｍ～１００ｍｍ，第二透镜于接收光线的一侧的球面半径为１８０ｍｍ～２００ｍｍ，且第二透镜的焦距为...

本实用新型提供一种光斑指示系统，包括提供可指示激光的指示光的聚光系统和将所述指示光光轴与激光光轴重合的耦合镜，于所述指示光与激光重合后的光轴上设置有用于将所述指示光和激光整形为形状相同的整形器。指示光与激光通过耦合镜重合后，穿过整形器，...

本实用新型适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供了一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，其特征在于：所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、静压空...

本实用新型适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供了一种带有窗口片保护气路的反应腔，包括一安装基座、透明窗口片，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，所述窗口片固定于所述安装基座上...

本发明适用于清洗方法领域，提供了一种刷子清洗方法，该方法包括以下步骤：①向清洗槽中倒入５０～１００％的异丙醇清洗液，然后将刷子的刷毛完全浸没于异丙醇清洗液中，由电机带动刷子旋转，使用４０ＫＨＺ的超声波清洗１５～３０分钟后将异丙醇清洗液放...

本发明公开了一种液体树脂过滤方法及装置，所述液体树脂过滤方法是对液体感光树脂进行过滤的方法，其利用加温的方法降低液体树脂的黏度，并在压力条件下采用过滤装置对所述种液体树脂进行过滤；所述液体树脂过滤装置包括容置所述液体树脂的压力容器、与所...

本实用新型适用于清洗装置技术领域，提供了一种掩膜版清洗装置，包括一清洗槽，所述清洗槽中设有一梯形架和与所述梯形架一端连接的一平台，所述掩膜版两端分别以线接触的方式置于所述梯形架的斜面和所述平台上。在本实用新型中，掩膜版两端分别以线接触的...