一种气浮式反应腔制造技术

本实用新型专利技术适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供了一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，其特征在于：所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、静压空气轴承进气口，所述安装基座下表面对应开设有与所述预压真空抽气口贯通的预压真空节流口和与所述静压空气轴承进气口贯通的静压空气轴承节流喷嘴。与现有技术中的反应腔相比，本实用新型专利技术不需要增大反应腔的体积就可以修补大尺寸工件，降低了成本。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于用于化学反应的密闭空腔装置
，尤其涉及一种气 浮式反应腔。
技术介绍
在半导体器件、液晶、等离子、有机EL等显示器件、光掩膜制造等精密 的激光微细加工领域(微米、亚微米、深亚微米级)，在生产时，半成品往往 带有一些各种形式的缺陷，这些缺陷需要进行修补处理后才能变成合格的产品。 修补技术有聚焦离子束(FIB)修补、点胶(Dispensing)修补、激光化学气相沉 积(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)修补等。其中，激光化学气相沉积修 补成本适中而且效果也满足使用要求。现有技术中的激光化学气相沉积工艺需 要使用一个相对密闭的反应腔，以容纳生产工件(如显示器件、光掩膜)，并 使得反应在一定的化学气体浓度和压力下得以进行，同时反应腔必需留有透光 但不透气的窗口(如玻璃窗)以通激光。当加工工件(即修补对象)的面积或 体积较大时，采用现有技术的反应腔有以下技术问题1、 工件体积或面积增大，常规反应腔的体积也必须相应加大，反应腔制造时耗材较多，成本上升。2、 工件体积或面积增大，反应腔的透光窗口也必须相应加大，反应腔制造难度加大，成本上升。3、 由于l、 2两点原因，大的反应腔要实现承受一定的反应腔气压和自身 材料的重量，必需加强各部件的结构强度，否则就会变形，影响光学精度；但 透光的窗口片材料却不能随意加厚，因为随意加厚会影响激光束聚焦的光学分 辨率。4、 透光的窗口片由于激光的高能照射，会影响其透光程度，每隔一段时间就必需更换，这样的大尺寸的窗口片的消耗成本较高，而且更换不便，极易破碎。5、 工件在全密闭式反应腔的装卸非常繁瑣和费时，并且不易调整位置，无 法灵活应对不同大小的工件。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种气浮式反应腔，旨在解决现有技术中需要 增大反应腔的体积才能容纳大尺寸工件的问题。本技术是这样实现的， 一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安 装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源 气环形集中喷覆口，其特征在于所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、 静压空气轴承进气口 ，所述安装基座下表面对应开设有与所述预压真空抽气口 贯通的预压真空节流口和与所述静压空气轴承进气口贯通的静压空气轴承节流喷嘴。与现有技术中的反应腔相比，本技术不需要增大反应腔的体积就可以 容纳大尺寸工件，降低了成本。附图说明图l是本技术实施例提供的一种气浮式反应腔示意图。 图中1-安装基座；la-静压空气轴承进气口 ； lb-预压真空抽气口 ； lc-反应源气进气口 ； ld-窗口片保护气进气口； le-窗口片保护气抽气口； lf-反应废气抽气口； lg-静压空气轴承节流喷嘴；lh-预压真空节流口； li-反应废气收集口； 1 j-反应源气环形集中喷覆口 ；2- 薄膜加热片；3- 反应气体喷覆分配环；4_透明材料窗口片；5- 透镜组；6- 激光束；7- 窗口片垫圏；8- 光掩膜工件； 8a-光掩膜待加工表面。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图 及实施例，对本技术进行进一步详细说,明。应当理解，此处所描述的具体 实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请参阅图1,本技术实施例提供了一种气浮式反应腔，包括一安装基 座l，所述安装基座l中间开设有一倒锥形凹槽9，所述倒锥形凹槽9在安装基 座1下表面中间形成一反应源气环形集中喷覆口 lj,所述安装基座1两侧分别 对称开设有预压真空抽气口 lb、静压空气轴承进气口 la，所述安装基座1下表 面分别对称开设有与所述预压真空抽气口 lb贯通的预压真空节流口 lh、与所 述静压空气轴承进气口 la贯通的静压空气轴承节流喷嘴lg。当反应腔工作时， 反应腔下表面移动到光掩膜工件8的表面8a附近时，静压空气通过所述静压空 气轴承进气口 la流入并从所述静压空气轴承节流喷嘴lg进入反应腔，然后静 压空气流入所述预压真空节流口 lh并经所述预压真空抽气口 lb抽走，由于所 述静压空气节流喷嘴lg和预压真空节流口 lh的正压和负压产生推力和拉力作 用，形成带预压的静压空气轴承，反应腔便会与光掩膜工件8的表面8a保持一 定的微间隙并紧密浮动在光掩膜工件8的表面8a上。这样，两侧完全敞开的反 应腔由静压空气轴承封闭起来，反应腔与光掩膜工件8紧密结合成一个接近全 密闭的反应腔，反应腔中的气体几乎不会泄漏到外部空间，且不会因为平面定位的相对运动而刮伤光掩膜工件表面，还实现了使用同一个小尺寸反应腔来加 工不同大小的光掩膜工伴，十分灵活、性能优越、维护方便、成本低廉。进一步地，所述窗口片4通过其下面的一窗口片垫圏7固定于安装基座1 上表面中间，用以密封所述倒锥形凹槽9;所述安装基座1上表面覆盖有一层 薄膜加热片2,可以对安装基座1进行加热，以使反应腔可以在某一温度下进 行反应；所述窗口片4上方设有一透镜组5，所述透镜组5安装于某一合适高 度，以使激光通过透镜组5后可以将焦点集中到反应腔内；所述倒锥形凹槽9 中设有呈锥形排列的若干反应气体喷覆分配环3，所述反应气体喷覆分配环3 可以使反应气体均匀、稳定的流动；所述安装基座1两侧对称开设有与所述反 应源气环形集中喷覆口 lj贯通的反应源气进气口 lc，反应源气/人反应源气进气 口 lc进入，在所述反应气体喷覆分配环3的作用下，反应气体可以均匀、稳定 地通过所述反应源气环形集中喷覆口 lj并喷覆到光掩膜工件8的表面8a上； 所述安装基座1两侧还分别对称开设有反应废气抽气口 lf,所述安装基座下表 面对称开设与所述反应废气抽气口 lf贯通的反应废气收集口 li,在反应腔中产 生的废气通过反应废气收集口 li并经反应废气抽气口 lf抽走。另外，所述安装基座l两侧还分别对称开设有窗口片保护气进气口 ld和与 所述窗口片保护气进气口横向贯穿窗口片保护气抽气口 le，窗口片保护气(如 氮气)从窗口片保护气进气口 ld进入倒锥形凹槽9，然后从窗口片保护气抽气 口 le排出，这种保护气路可以使透明窗口片4在保护气的保护下免受反应腔中 反应产生的沉积物的污染，使得激光的能量不会因为窗口片的污染而迅速减弱， 这样连续性的激光化学气相沉积得以实现。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术， 凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应 包含在本技术的保护范围之内。权利要求1、一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，其特征在于所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、静压空气轴承进气口，所述安装基座下表面对应开设有与所述预压真空抽气口贯通的预压真空节流口和与所述静压空气轴承进气口贯通的静压空气轴承节流喷嘴。2、 如权利要求1所述的一种气浮式反应腔，其特征在于所述安装基座上 表面固设有用以封闭所述倒锥形凹槽的透明窗口片。3、 如权利要求2所述的一种气浮式反应腔，其特征在于所述窗口片下面 设有一窗口片垫圈。4、 如权利要求1或2所述的一种气浮式反应腔，其特征在于所述安装基 座上表面覆盖有一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，其特征在于：所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、静压空气轴承进气口，所述安装基座下表面对应开设有与所述预压真空抽气口贯通的预压真空节流口和与所述静压空气轴承进气口贯通的静压空气轴承节流喷嘴。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林琳，
申请(专利权)人：清溢精密光电深圳有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]