一种A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法技术

本发明专利技术涉及一种Ａ型胶，包括下述重量份的原料：金属纳米阻光材料：５８％～７８％ｗｔ，固化剂：２０％～４０％ｗｔ，稀释剂：０．５％～２％ｗｔ，玻璃促进剂：０．１％～１％ｗｔ，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述玻璃促进剂为硅胶；还提供了一种采用上述Ａ型胶修补铬版白缺陷的方法。本发明专利技术所提供的Ａ型胶及采用该Ａ型胶修补铬版白缺陷的方法，解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用ＣＶＤ修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题，且保证了修补后的黏附力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于铬板缺陷修补
，尤其涉及一种A型胶及采用该A型胶 修补铬版白缺陷的方法。
技术介绍
铬版是掩膜版(Photomask)的一种，也称光罩，是一种用于微电子制造过程 中的图形转移工具，它使用石英玻璃或苏打制成，把电脑设计的图形通过曝光、 显影、蚀刻等工艺转移到4各板表面的挡光材料上，形成新的图形，然后用于电 子零件的批量复制生产过程。目前在铬版的生产过程中经常会产生白缺陷，该 白缺陷在行业内也称针孔类缺陷，是指在铬版生产、使用过程中受某种因素的 影响，图形有效区域内本来黑色遮光的区域出现了透光孔洞而形成的缺陷，随 着其大小、位置、形状的变化也称为凹陷或断线。现有
中修补所述白缺陷主要使用油墨、金属修补液或CVD修补 (化学气相沉积修补)，但是油墨只能修补一般的白缺陷，不能修补凹陷及断 线；而金属修补液成本较高，且耐弱碱清洗液清洗能力差，清洗后容易脱落； 采用CVD修补，成本极高，且无法修补玻璃基板造成的白缺陷，且修补工艺 稳定性差； 一旦上述三种修补方法失败，则无法再进行补救，铬版只能报废后 再重新制作，造成很大的浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Ａ型胶，其特征在于：包括下述重量份的原料：　金属纳米阻光材料：５８％～７８％ｗｔ、固化剂：２０％～４０％ｗｔ、玻璃促进剂：０．１％～１％ｗｔ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王金木，
申请(专利权)人：清溢精密光电深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]