本发明涉及一种固体氧化物电解池ＹＳＺ－ＬＳＭ氧电极粉体的制备方法，属于高温蒸汽电解制氢和固体氧化物电解池领域。本发明采用低温自蔓延原位合成法，以５～５０ｗｔ％硝酸镧、硝酸锶和硝酸锰溶液作为金属离子源合成ＬＳＭ作包覆层，ＹＳＺ粉（日本Ｔｏ...

一种高温电解制氢固体氧化物电解池密封装置及其密封方法，该密封装置包括一个固体氧化物电解池、阴极气室陶瓷管和高温合金卡套，其密封件为金环和玻璃材料。卡套分为上、下两部分，通过螺钉紧固并与阴极气室陶瓷管连接。金环放置在电解池两面的边缘，用于...

本发明属废水处理领域，适用于钢材或加工部件经盐酸清洗所产生的废酸处理。特征是对萃取法分离游离盐酸后得到的氯化亚铁萃残液用焙烧法进一步处理，制成ＦｅＣｌ↓［２］.２Ｈ↓［２］Ｏ粉料，在３００－４００℃下焙烧，炉气经三段吸收系统吸收得到再生...

本发明公开了属于计算机存储器硬盘制造技术领域的一种用于硬盘盘基片的抛光组合物。一种用于硬盘盘基片的抛光组合物，包含磨料和水，还包含抛光促进剂和润滑剂，按重量百分含量为，磨料：０．５～２０％、抛光促进剂：０．０１～１０％、润滑剂：０．００...

本发明涉及一种高铝微晶玻璃内衬复合钢管制备方法，首先将粉状铝热剂装入待涂覆的钢管中，将钢管装入离心机，开动离心机并逐渐加速，以使铝热剂粉料均匀的贴在钢管内壁，保持匀速旋转并将玻璃熔体注入钢管，点燃铝热剂，保持恒速后逐渐减速，停机后使钢管...

本发明公开了属于光电功能材料领域的一种铜铟镓硒或铜铟铝硒太阳能电池吸收层靶材及其制备方法。是按照ＣｕＩｎ↓［１－ｘ］Ｇａ↓［ｘ］Ｓｅ↓［２］或ＣｕＩｎ↓［１－ｘ］Ａｌ↓［ｘ］Ｓｅ↓［２］太阳能电池吸收层的化学计量比将高纯度硒化亚铜粉末、...

本实用新型是利用空心阴极放电技术在高速钢刀具表面沉积涂层，采用离子镀枪与坩埚成倾斜度布置、坩埚变聚束线圈在真空室外的布置及框架式三轴自转结构的工作转动夹具，结构新颖、布置合理．采用本装置对刀具镀氮化钛涂层均匀呈黄金色，性能稳定工作可靠，...

一种平面磁控溅射靶装置，至少包含有两个电磁铁，靶板由多块异种材料拼砌而成．通过调节各个电磁铁的励磁电流的相对比值，使靶板内表面跑道磁场的各个区段的磁场强度的相对比值发生变化，从而实现所镀制的合金膜成份在一定范围内的连续调节．

高速钢表面硫氧碳氮硼共渗工艺是一种表面化学热处理工艺方法．本发明是将待处理的高速钢刀具整齐置于密封的通用井式炉内并加热至５６０°±１０℃，当不断地均匀滴注入由甲酰胺（ＨＣＯＮＨ－［２］）＇无水乙醇（Ｃ－［２］Ｈ－［５］ＯＨ）、硫脲〔（Ｎ...

一种磁控溅射靶装置，由至少两个可调场强的电磁单元拼装而成．这些单元共用一个阴极靶板和溅射电源．各个单元的靶面场强可以通过各自的电磁铁分别加以调节，从而实现各单元的功率分别调节．各个单元可以单独使用或同时使用．当各个单元分别采用异种材料的...

本发明得出了不锈钢有立体效果的一次双色（如紫—棕、蓝—黄、金黄—红等）着色工艺和有明显差别（如深蓝—浅蓝等）和明显立体效果的单色着色工艺；经多种方法和环境中试验得出着色膜具有优良的耐蚀、耐光、耐热等性能，色膜美观、稳定、工艺简单便于掌握...

造粒模具，如聚乙烯造粒模具是化工材料生产线上的关键部件之一，目前一般靠进口，用本发明的造粒模具激光合金化涂敷方法，可以修复报废的模具，也可用于制造新的模具。即通过磨面准备，混合合金粉末的配制，热涂敷，激光扫描重熔，最后磨面整理及打孔。利...

一种金刚石薄膜的制造方法，属非金属元素的制备领域。本方法是在基底上涂刷混合于苯、酚、醇等有机溶剂中的巴基管溶液，干燥后将基底放入真空室内，充入碳氢化合物气体（ＣＨ↓［４］或Ｃ↓［２］Ｈ↓［２］）与Ｈ↓［２］的混合气体，加热混合气体及基底...

一种铁－碳合金表面富勒碳涂层的激光改性方法，属材料表面工程领域。本发明方法是将富勒碳粉末涂覆于铁基合金表面，在惰性气体保护下通过连续式激光器辐照。使融熔的基底与富勒碳熔合均匀，然后对其进行热处理，在奥氏体化温度以上保持一定时间后淬入介质中。

本发明涉及一种离子氮碳共渗和中温离子渗硫复合处理方法，该方法是首先将工件置于离子轰击炉中，在一定的真空度、工作电压和温度下通入氨气和含碳介质挥发气，轰击２～６小时后，降低温度，通入含硫介质挥发气，并控制真空度、工作电压、氨气流量和含硫介...

本发明涉及一种医用植入物的离子束增强沉积羟基磷灰石镀层的制备方法，该方法用５０％羟基磷灰石的烧结陶瓷为溅射靶。首先用Ａｒ离子轰击样品进行清洗，然后在保持有水蒸汽分压下以离子束轰击溅射靶，在基底样品表面溅射成膜，同时辅以高能Ａｒ离子束轰击...

本发明涉及一种金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法，该方法是先在金属表面用等离子喷涂方法制备陶瓷涂层，然后在激光照射的同时，将陶瓷粉末喷向涂层表面，对陶瓷涂层进行二次熔覆处理。用本发明的方法制备的激光熔覆陶瓷涂层，涂层内部致密...

本发明涉及一种抗菌羟基磷灰石镀层的制备方法，该方法首先是在清洗过的样品表面溅射沉积羟基磷灰石镀层，然后将镀完膜的样品放在浓度为２０－１００ｐｐｍ的ＡｇＮＯ↓［３］溶液中，室温下浸泡２４－４８小时，即为具有抗菌羟基磷灰石镀层的样品。本发明...

本发明属于生长超大规模集成电路薄膜材料技术领域，包括外延生长室及其加热装置，预处理装片室，磁传动传送片机构，气路系统，热电偶与光测高温计，加热电源，高真空机组抽气系统，尾气处理装置以及计算机自动控制系统；加热装置由固定在该外延生长室外侧...

本发明涉及一种无压烧结法制备氮化硼复合导电陶瓷蒸发舟的方法，首先将原料粉体相混，将所配制的粉料进行球磨混料，烘干过筛，将过筛的料在氩气气氛炉中保温，进行化学反应将反应完的料再进行球磨粉碎，烘干过筛后予压成型，然后冷等静压成型最后烧结，即...