一种６自由度微动工作台，属于超精密加工和检测设备技术领域。该微动工作台具有３组布置在水平面内的电磁力驱动单元，驱动微动工作台在水平面内Ｘ、Ｙ、θ↓［ｚ］３个自由度的运动；同时还具有３个沿竖直方向布置的电磁力驱动单元，用于实现驱动微动工作...

一种高反差高温栅的制造工艺及应用技术，其具体方法是在试件表面用光刻胶光刻法制成胶栅，再用电刷镀法镀上栅线金属。当要测量材料高温时的内部应变时，可将试件剖分，在剖分面上制成金属栅线，然后在栅线表面涂以防护涂料，再将试件合成一体，并沿其周边...

本发明涉及一种激光散斑接触网屏及制造用的光学系统，属彩色印刷和印染领域的重要技术。本发明设计出一个光学系统，能制造随机网目结构的接触网屏，从而将胶印和随机网目印刷二者的优点集于一体。这种随机网目的接触网屏，其网目是激光散斑，它由相干光从...

本发明涉及新型的数字式接触网屏，是彩色印刷与印染领域的重要技术，接触网屏用作彩色图象制版与复制中的编码元件，本发明在已有技术的基础上发展了三种不同类型的数字式接触网屏：母子形、棱形和砌砖形，采用本发明制备的数字式网屏对彩色原稿进行照相制...

一种无显影气相光刻胶，属于光刻技术领域。本发明光刻胶由成膜物质，光敏剂、具有光敏性的刻蚀促进剂和溶剂组成，所说的成膜物质为可紫外光固化的光敏树脂如肉桂酸酯类树脂、丙烯酸类树脂。所说的光敏剂可用５－硝基苊，安息香二甲醚、二苯酮等；光敏性刻...

本发明涉及一种适用碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺，无显影光刻胶由成膜物质、增感剂、有机碱、溶剂组成，各组分的配比为∶成膜物质∶增感剂∶有机碱∶溶剂为（８－９）∶（０．５－１．０）∶（０．８－１．０）∶９０。采用上述光刻胶刻蚀氮...

本发明属于微电子光刻技术和印刷制版技术领域。本发明由基体成膜物质、交联剂、增感剂、光敏产酸物、溶剂组成。本发明中的光刻工艺包括：负性光刻工艺流程为：匀胶、前烘、曝光、中烘、显影、后烘、蚀刻、去胶；正性光刻工艺流程为：匀胶、前烘、曝光、显...

本发明属于微细加工技术领域，包括由ｎ个短波长微光源组成的线阵光源和对该光源实现小视场和近场技术的微型成像系统，所说的线阵光源由ｎ个相邻微光源排成直线得到的，每个微光源的开关可进行独立控制。本发明提高了系统光刻分辨率，可实现集成电路最小尺...

一种阵列式集成电路光刻系统的版图编码方法，属于阵列式集成电路光刻系统中线阵光源扫描所需版图的编码技术领域，其特征在于：对于一个大小为ｍ×ｎ个象素的二色（黑白）版图，当扫描装置使用的是ｐ×１的线阵光源时，采用按扫描宽度逐组逐列编码的方法：...

阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域，其特征在于，它含有：微动转台，与该转台同轴连接的转台底座，固定在该底座上的转台推动架，与该转台相连且Ｘ、Ｙ向各贴有平面镜的Ｘ向往复运动小工作台，以导轨气垫支撑该Ｘ向...

一种光探针扫描集成电路光刻系统中振动刻写方法，属于集成电路光刻技术领域，其特征在于：在根据电路图形或掩膜图形生成待光刻的图形线条的控制数据后，在光探针沿着主运动Ｘ方向作扫描运动时，辅以Ｙ方向的小幅振动型的步进幅值。Ｙ方向的小幅振动的振幅...

激光光绘机负压式全自动上下片装置，属于激光光绘机的辅助设备技术领域。本发明公开了一种可大幅度提高光绘机工作效率低和成品率，使工作人员摆脱恶劣环境的激光光绘机负压式全自动上下片装置。该装置通过立柱和角铁架固定在激光光绘机的平台上面，所述立...

带有平衡块消振装置的超精密硅片定位系统，该系统运用动量守恒原理，将硅片承载装置及其驱动导向装置放置在一个由气浮轴承支撑的、具有Ｘ、Ｙ两自由度的平衡块上，当硅片承载装置沿一个方向运动时，平衡块反方向运动，消除由于运动反力引起的振动；该系统...

本发明涉及一种在普通实验室条件下制作玻璃芯片的方法。本发明针对普通实验室的条件，优化了设计和加工玻璃微流控芯片的程序，实现了在普通实验室即可进行的玻璃芯片制作的目的。本发明主要包括：优化调整芯片加工键合的顺序，有效地保护玻璃表面，减少机...

一种高密度光栅的制作方法，属于光学器件的制造、光测力学技术领域。本发明是在成熟商品仪器激光扫描共聚焦显微镜的操作环境中，利用其照明光源所发出的波长在光刻胶感光敏感波长范围内的聚焦激光点，对光栅基底材料表面的光刻胶进行扫描曝光，通过调整激...

本发明涉及一种制作聚合物自支撑纳微米线的方法，属于聚合物微结构材料技术领域。首先制作具有起伏条纹微图案表面的母板；将聚二甲基硅氧烷的硅胶预聚体和硅胶交联剂混合均匀，浇注到上述母板表面上，固化后揭去母板，得到聚合物软印章；聚合物溶解在溶剂...

一种制作高温微米尺度散斑的方法，属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在电子束曝光机这一成熟商品仪器环境下，完成高温微米尺度散斑的制作，该方法操作简单、灵活，容易实现。通过改变电子束光学曝光系统的放大倍数、束流强度和刻蚀时间，制作出可...

本实用新型提出了一种新型三维立体成像系统，采用双Ｘ射线源和双探测器，两个Ｘ射线源分别沿两条成一定角度且错开布置的直线导轨运动，探测器阵列固定，而被检测物体则沿垂直于Ｘ射线源和探测器所在平面的直线运动。该成像系统能够实现真正的三维立体成像...

本实用新型涉及一种用一台像机一次拍出被摄对象多视角图象的装置，该装置包括像机和平面反射镜。像机与被摄对象置于同一垂直面，平面反射镜置于与像机相对的另一垂直扇面上。平面反射镜为有ｍ组，成纵向排列，每组有ｎ块，成横向排列。该装置可以一次拍出...

一种多曲面反射光源，包含一个点光源和反射器件，其特征在于所述的反射器件至少含有２个反射曲面，所述反射器件的反射曲面的焦点重合并与所述点光源位于同一处。