本发明提供一种新型的废气处理装置，所述废气处理装置通过将处理对象废气的高温分解气体成分预热，对于大风量的处理对象废气利用小容量的等离子体发生装置就能够应对。废气处理装置(10)，在水分的存在下，利用来自于电加热器(15)或者热交换器(1...

本发明提供一种可以确保充分的传热面积，并且可以容易地进行内部的清扫或维修的热交换器、和利用该热交换器的排气处理装置。即，本发明的热交换器(10)配备有传热板(22)，所述传热部(22)将双重管结构的本体外壳(16)的内部空间划分成在其整...

本发明为废气处理用喷燃器及使用了该喷燃器的废气处理装置，具备前端(12a)开放的外管(12)、前端(12a)开放并且其前端部被从外管(12)的后端(12b)插入到了外管(12)的内部的内管(14)和从内管(14)的后端(14b)插入到了...

提供一种气体处理装置，该气体处理装置容易管理，维修的频率低，而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理，通用性高。气体处理装置(10)具有反应器(12)，该反应器(12)围绕大气压等离子体(P)和朝大气压等离子体(...

提供一种通过热分解对氨进行除害时能够避免产生氮氧化物的氨除害装置。即，由电加热器（14）、氨分解室（24）、热分解气体燃烧室（26），和空气供给单元（16）构成氨除害装置（10）。氨分解室（24）接受含氨的处理对象气体（F），并且由来自...

本发明提供一种气体处理装置，即使氢气等可燃气体以高浓度流入，也能够安全且可靠地一并对包含其在内的各种处理对象气体进行除害处理。气体处理装置（10）从处于竖立设置在水槽（18）上的筒状的反应器（12）的上部的入口端口（28）供给处理对象气...

提供一种气体处理装置，该气体处理装置容易管理，维修的频率低，而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理，通用性高。气体处理装置（１０）具有反应器（１２），该反应器（１２）围绕大气压等离子体（Ｐ）和朝大气压等离子体（...

本发明提供一种气体处理装置，其采用将氮用作工作气体的大气压等离子体，能够热分解处理对象气体而不副产氮氧化物。对于围绕大气压等离子体Ｐ及向大气压等离子体Ｐ供给的处理对象气体Ｆ、其内部具有进行处理对象气体Ｆ的热分解的反应器２２、使用氮气作为...

本发明提供ＨＣＤ气体的除害方法及其装置。通过使含有六氯化二硅的废气（Ｌ）在不含有水分的情况下导入反应处理区域（Ｋ），向保持在六氯化二硅的分解温度的反应处理区域（Ｋ）供给含有若干水分的有氧气体（Ｇ），将六氯化二硅分解成盐酸、二氧化硅和水，...

本发明提供一种半导体排放气体处理装置，该半导体排放气体处理装置可以高效而且可靠地将半导体排放气体分解使其无害化，而且维护保养性优异。其特征在于，设有反应炉（１４），反应炉（１４）由筒状的反应炉本体（３０）、电加热器（３２）和气体导入管（...

本发明提供一种半导体排放气体处理装置，其可以把包含ＰＦＣｓ的半导体排放气体高效而且安全可靠地进行分解、使其无害化。本发明的半导体排放气体处理装置设有湿式的入口洗涤器（１２）、反应炉（１４）、湿式的出口洗涤器（１６）和排气扇（１８）；所述...

提供了一种能够在尽可能低的温度下（消耗的热能少），以高除害率分解除去ＰＦＣ成分的方法。一种全氟化碳或全氟化物的除害方法，其特征在于在制造设备排出的含有全氟化碳或全氟化物的被处理气体中，混合烃气体或氨气中一种或两种以上气体后，在非氧化性气...

一种废气处理塔，当进行半导体废气的高温热分解反应时，该废气处理塔可确保废气分解处理室中使用的电加热器的供电部的绝缘性良好，且可尽可能地降低电加热器通电时的负荷，并将热损耗降至最低。解决的方案是由如下所述部件构成废气处理塔：（ａ）内部形成...

一种废气处理塔，当进行半导体废气的高温热分解反应时，该废气处理塔可确保废气分解处理室中使用的电加热器的供电部的绝缘性良好，且可尽可能地降低电加热器通电时的负荷，并将热损耗降至最低。解决的方案是由如下所述部件构成废气处理塔：（ａ）内部形成...