气体处理装置制造方法及图纸

提供一种气体处理装置，该气体处理装置容易管理，维修的频率低，而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理，通用性高。气体处理装置（１０）具有反应器（１２），该反应器（１２）围绕大气压等离子体（Ｐ）和朝大气压等离子体（Ｐ）供给的处理对象气体（Ｆ），在其内部进行处理对象气体（Ｆ）的热分解；其中特征在于：在反应器（１２）设置用于由水（Ｗ）覆盖其内面的水供给装置（１６）。按照该构成，大致在反应器（１２）的内面整体形成所谓的“润湿壁”。为此，可防止处理对象气体（Ｆ）中的固体成分接触在反应器（１２）的内面而产生附着、堆积，同时，可使该内面的劣化延迟。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及分解处理包含对人体有害的气体、地球气候变暖气体、 臭氧层破坏气体的气体，特别是从半导体、液晶等的制造过程排出的 气体的装置。
技术介绍
现在，作为制造或处理物质的工业过程，开发、实施多种多样的 工业过程，从这样的多种多样的工业过程排出的气体(以下称"处理对 象气体")的种类也非常多。为此，相应于从工业过程排出的处理对象气体的种类，分别使用 各种气体处理方法和气体处理装置。例如，以半导体制造过程的一个过程为例，使用硅烷(SiH4)、氯 气、PFC (全氟化物)等各种各样的种类的气体，在硅烷包含于处理 对象气体的场合，使用热分解式、燃烧式、吸附式或化学反应式等的 处理装置，在氯气包含于处理对象气体的场合，使用由药液实现的湿 式、吸附式等处理装置，在PFC包含于处理对象气体的场合，使用催 化剂式、热反应式、热分解式、燃烧式、等离子式的气体处理装置。当相应于这样从工业过程排出的各种处理对象气体逐一准备气体 处理装置时，对于某些使用者，装置的管理变得复杂，同时，维修所 需时间、成本增大。结果使产品成本增大，导致产品成本竟争力下降。从工业过程排出的处理对象气体中可在高温下热分解的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体处理装置，具有反应器，该反应器围绕大气压等离子体和朝上述大气压等离子体供给的处理对象气体，在其内部进行上述处理对象气体的热分解；其特征在于：　在上述反应器设置用于由水覆盖其内面的水供给装置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤利明，今村启志，
申请(专利权)人：康肯科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]