本发明提供一种抛光一衬底的方法，其包含：（ｉ）将一包含一贵金属层的衬底与一化学－机械抛光系统接触，所述系统包含（ａ）抛光组分、（ｂ）氧化剂和（ｃ）液体载剂；和（ｉｉ）研磨所述贵金属层的至少一部分以抛光所述衬底。所述抛光组分是选自由研磨剂...

本发明提供一种化学－机械抛光组合物，其包含：（ａ）二氧化硅颗粒、（ｂ）以所述抛光组合物总重量计约５×１０↑［－３］至约１０毫摩尔／千克的至少一种选自由钙、锶、钡及其混合物组成的群组的碱土金属、（ｃ）约０．１至约１５重量％的氧化剂、及（ｄ...

一种形成一具有至少一个光学透射区的化学机械抛光垫的方法，其包含：（ｉ）提供一包含一孔径的抛光垫；（ｉｉ）将一光学透射窗嵌入所述抛光垫的所述孔径中；和（ｉｉｉ）通过超音波焊接将所述光学透射窗结合到所述抛光垫。

本发明针对一种用于化学机械抛光的多层抛光垫（１０），其包含一抛光层（１２）和一底层（１４），其中所述抛光层和底层未使用一粘合剂而结合在一起。本发明还针对一种包含一光学透射多层抛光垫材料的抛光垫，其中所述抛光垫材料的所述各层未使用一粘合剂...

本发明提供一种抛光垫，其包含一具有一顶部表面（１０）和一底部表面的主体，所述顶部表面（１０）包含一具有一第一深度和第一宽度的第一组凹槽（１２），所述底部表面包含一具有一第二深度和第二宽度的第二组凹槽（１６），其中所述第一组凹槽（１２）与...

本发明提供一种用于化学机械抛光的抛光垫，所述抛光垫包含（ａ）一第一抛光层（１０），其包含一抛光表面（１２）和一具有一第一长度和一第一宽度的第一孔隙；（ｂ）一第二层（２０），其包含一本体和一具有一第二长度和一第二宽度的第二孔隙，其中所述第...