本发明公开了一种控制平台出板位置的激光直写曝光系统及曝光方法，属于激光直写曝光技术领域。所述系统根据板材资料输入装置输入的待曝光板材资料计算工件台出板距离，并根据计算出的出板距离控制工件台将待曝光板材运输至相应的曝光位置，以便曝光设备对...

本发明公开了一种电子图形资料自动检索和应用的装置及方法，属于印刷电路板制造和检测领域。本发明提供了一种典型的图形应用部件就是激光直接成像设备，该设备通过在实现曝光区精确定位的前提下，将数字化的图形资料通过激光扫描的形式转印在PCB板件上...

本实用新型公开了一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间...

本发明公开了一种DMD结构XY多轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本发明的DMD结构XY多轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为...

本实用新型公开了一种多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分...

本实用新型公开了一种DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为...

本实用新型公开一种柔性电路板曝光装置，包括曝光平台和曝光光路，曝光平台为roll to roll平台，曝光光路设置在曝光平台的上方，曝光光路由排成一列的子光路组成，子光路包括支撑板、二维震镜、激光器和f‑theta镜，二维震镜、激光器和...

本实用新型公开一种静止平台LDI曝光机，包括曝光平台（1）和曝光光路（2），曝光光路（2）设置在曝光平台（1）的两侧面，曝光光路（2）由若干子光路（3）组成，子光路（3）包括支撑板（34）、二维震镜（31）、激光器（32）和f‑thet...

本实用新型公开一种激光直写双面曝光装置，包括曝光平台（1）、激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4），激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4）设置在曝光平台（1）的两个侧面，光转折器件（3）位于激光器（2）和二次...

本实用新型公开了一种直写式曝光机光源系统，包括光源光路、传导光纤以及分光光路；所述的光源光路采用UVLED作为光源、UVLED发出的光束通过传导光纤接入分光光路进行分光，分光后的光路利用光纤接入各个曝光光路；光源光路中的述UVLED发射...

本实用新型公开了一种直写式曝光机中用于激光一分N的系统，包括：单个激光器以及n个分光单元；其中，分光单元包括处于同一平行线的分光镜和呈45°角的反射镜；所述单个激光器发出光束照射到分光单元的分光镜上，一束光经过反射镜反射、另一束穿过分光...

本实用新型公开了一种双面曝光机的自动调焦系统，从左到右依次为左DMD、左成像镜筒、左物镜镜筒、右物镜镜筒、右成像镜筒和右DMD，PCB板竖直放置于右物镜镜筒和左物镜镜筒之间，所述的右物镜镜筒安装在微型电动旋转平台上，所述的右DMD安装在...

本实用新型公开了一种DMD结构XY多轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构XY多轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气...

本发明公开了一种DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本发明的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、...

本发明公开了一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本发明的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周...

本发明公开了一种DMD投影光路激光直写垂直双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。包括设置于基座(3)上的步进轴(2)和扫描轴(4)；以及固定于所述基座(3)两侧的DMD器件投影光路(5)。本DMD投影光路激光直写垂直双面曝...

本实用新型公开了一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投...

本实用新型公开一种激光直写倾斜双面曝光装置，包括底座（4）和曝光装置（2），曝光装置（2）有两组，均倾斜设置在底座（4）的上表面，在两组曝光装置（2）的中间位于底座（4）上表面设置滑移座（5），曝光装置（2）为多棱镜集成组件，多棱镜集成...

本实用新型公开了一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座(4)两端上的DMD投影光路(2)；以及交叉分布于所述DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)，...

本实用新型公开了一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座(4)两端上的DMD投影光路(2)；以及交叉分布于所述DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)，...