本发明公开了一种单晶硅碱抛光添加剂及其制备方法和抛光方法，所述单晶硅碱抛光添加剂包括如下质量百分含量的组分：偏铝酸钠0.5％～2％、聚乙烯醇2％～4％、表面活性剂0.5％～3％、消泡剂1％～3％、异构醇油酸皂0.5％～1％，余量为去离子...

本发明公开了一种单晶硅片制绒后的酸洗添加剂及其制备方法和使用方法，所述单晶硅片制绒后的酸洗添加剂包括如下百分含量的组分：三聚磷酸钠0.5％～1.5％、乙二胺四乙酸二钠0.1％～0.5％、甘油5％～8％、乙醇5％～10％、二甲基硅油0.2...

本发明公开了一种单晶硅片制绒添加剂及其制备方法和制绒工艺，所述单晶硅片制绒添加剂包括如下质量百分含量的组分：苯甲酸钠0.05％～0.1％、木质素磺酸钠0.01％～0.08％、磷酸乙酯0.5％～0.8％、聚乙二醇0.5％～1％、表面活性剂...