多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路，DMD集成组件的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。与现有的单工件台扫描曝光形式相比，本实用新型专利技术通过在被曝光工件两边垂直设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使用DMD器件作为投影光路的图形发生装置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z轴移动，对被曝光工件进行双面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，同时保证了产品的质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种曝光系统及方法，具体是一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光

技术介绍
直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位；利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光：即先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光；在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本技术提供一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，该系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，进一步提高工作效率，从而提高产能。 为了实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路， DMD集成组件的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。所述的DMD集成组件上部和底部均始终与被曝光工件上、底部平齐。所述的DMD集成组件底部可拆卸式固定在底座上表面，P被曝光工件在Z轴方向上移动曝光。被曝光工件和底座夹角为0-90°。与现有的单工件台扫描曝光形式相比，本技术通过在被曝光工件两边垂直设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使用DMD器件作为投影光路的图形发生装置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z轴移动，对被曝光工件进行双面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，同时保证了产品的质量。附图说明图1为本技术系统示意图。图中：1、被曝光工件，2、Z轴板， 3、Y轴板，4、底座，5、DMD器件投影光路，6、DMD集成组件。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步说明。其中，本技术以附图1为基准，附图1的左、右、上、下、底部、中心、端部为本技术的左、右、上、下、底部、中心、端部。应注意到的是：除非另外具体说明，否则本实施例中阐述的部件的相对布置、数值等不限于本技术的范围。一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，包括：垂直置于底座4上表面的DMD集成组件6以及被曝光工件1；被曝光工件1固定在Z轴板2和Y轴板3上，沿着Z轴板2的方向为z轴方向，沿着Y轴板3的方向为Y轴方向， 被曝光工件1两侧均安装有DMD集成组件6，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路5， DMD集成组件6的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。所述的DMD集成组件上部和底部均始终与被曝光工件上、底部平齐。所述的DMD集成组件底部可拆卸式固定在底座上表面，P被曝光工件在Z轴方向上移动曝光。被曝光工件1和底座4夹角为0-90°。与现有的单工件台扫描曝光形式相比，本技术通过在PCB板件两边垂直设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使用DMD器件作为投影光路的图形发生装置，DMD器件水平交叉固定，被曝光工件沿Z轴移动，对被曝光工件进行双面曝光，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，同时保证了产品的质量。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。以上所述，仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进，均应包含在本技术技术方案的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，其特征在于，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路， DMD集成组件的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。

【技术特征摘要】
1.一种多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统，其特征在于，包括：垂直置于底座上表面的DMD集成组件以及被曝光工件；被曝光工件固定在Z轴板和Y轴板上，被曝光工件两侧均安装有DMD集成组件，每个DMD集成组件两面均安装有DMD器件投影光路， DMD集成组件的Y轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路对被曝光工件的两面同时进行垂直曝光。2.根据权利要求1所述的一种多排交叉布置DMD投...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟，赵华，张伟，徐巍，王翰文，马汝治，
申请(专利权)人：江苏影速光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32