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江苏利成精密科技有限公司专利技术
江苏利成精密科技有限公司共有4项专利
溅射成膜源和成膜装置制造方法及图纸
在溅射成膜源中,在隔着空间(20)相向配置的靶(21a、21b)的各自的背面分别设置有由永磁体(22a、23a)和磁轭(24a)构成的磁路以及由永磁体(22b、23b)和磁轭(24b)构成的磁路,用于产生屏蔽等离子体的磁感线(27)的永...
一种低损伤磁控平面阴极制造技术
本实用新型提供一种低损伤磁控平面阴极,包括基座、平面阴极组件、接地阳极和辅助阳极;所述基座任意角度放置,所述平面阴极组件固定连接在基座顶端相对位置,所述平面阴极组件相对一侧两端分别固定连接有挡板,所述挡板与平面阴极组件固定连接形成工作腔...
一种低损伤磁控旋转阴极制造技术
本实用新型提供一种低损伤磁控旋转阴极;包括底板和阳极框;底板任意位置放置,阳极框固定连接在底板顶端,阳极框内设置有与底板顶面固定连接的水冷阳极板,水冷阳极板上开设有第一通口,第一通口内设置有与底板固定连接的气路板,底板上靠近水冷阳极板一...
一种采用磁控溅射成膜的方法技术
本申请提供了一种采用磁控溅射成膜的方法,其包括以下步骤:在磁控溅射设备中靠近靶材的第一区域通入反应气体Ar,靶材连接于阴极;在磁控溅射设备中靠近底层的第二区域通入保护气体,保护气体进入第二区域前,经由正电线圈或正电极,反应生成带正电荷的...
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