本发明公开了一种用于旋转涂布玻璃的溶剂喷涂装置，包括盛有溶剂的溶剂瓶和与所述溶剂瓶通过管路连接的喷嘴，管路上设置有气动阀，气动阀上设置有用于控制气动阀开关的电磁阀，在管路上串联设置有液体流量计。本发明的溶剂喷涂装置可准确地探测溶剂的流量...

本发明实施例公开了一种离子植入机和离子植入方法，所述离子植入机包括：发射固定不动离子束的离子源和放置晶片的靶盘，所述靶盘转动使离子束沿晶片的水平方向扫描过晶片，还包括位于晶片两侧且沿水平方向对称设置的第一电极和第二电极，其中，所述第一电...

本实用新型提出一种检测探针卡试打位置的测试键，所述测试键设置有用于衡量探针卡试打位置的标尺。试打人员根据标尺标示出针痕位置清晰地判断并调整试打位置，避免了凭借试打人员的直觉试打，这样不仅降低了由于试打针痕异常导致的测试异常，还降低了试打...

本发明公开了一种离子植入机用离子束监测装置，其包括有多个法拉第杯，形成规则排列的矩阵，用以监测离子植入机腔体内多个位置的离子束。本发明可以实时监测多个位置的离子束大小，从而可以控制植入过程中的离子均匀度。此外，通过法拉第杯矩阵的联合监测...

本发明公开了一种嵌入式闪存及其制造方法，所述嵌入式闪存包括闪存单元和外围金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET单元，闪存单元为两层多晶硅栅结构，其侧壁上具有绝缘的隔离物；外围MOSFET单元为单层多晶硅栅结构，其侧壁上也具有绝缘的隔离...

本发明公开了一种含有停止层的集成电路介电层结构，包括第一介电层、金属层和第二介电层；第一介电层上设置有第一金属导孔，第二介电层上设置有第二金属导孔，第一金属导孔和第二金属导孔形成堆叠金属导孔，其中，金属层与第二介电层之间设置有停止层，该...

本发明涉及机台程序控制管理方法和系统，其中，方法包括：预设所述机台的程序和参数；将所预设的程序和参数与机台内已选定的程序和参数分别进行比较，若相同，则允许所述机台运行所选定的程序和参数，若不相同，则不允许所述机台运行所选定的程序和参数，...

本发明提出了一种降低ESD砷离子植入后进行光阻去除时Mattson机台产生的缺陷的方法，包括：使用硫酸H2SO4与双氧水H2O2的混合物进行清洗，再以氢氧化铵NH4OH、双氧水H2O2和水H2O的混合物进行清洗。硫酸H2SO4与双氧水H...

本发明涉及一种化学机械抛光自动化试生产方法和装置，方法包括：步骤1：从整批晶片中分出一个晶片，整批晶片定义为母批，分出的一个晶片定义为子批；步骤2：以预定义的子批研磨厚度研磨子批；步骤3：获取当前晶片研磨后的当前厚度值，并将其与目标厚度...

本发明公开了一种具有温度自动控制功能的晶片加工机台，其包括反应腔，所述反应腔上设置有两个watlow温控器和过温温控器，所述晶片加工机台上还设置有比较器，所述比较器的输入端分别与所述watlow温控器和过温两个温控器相连，所述比较器的输...

本发明涉及一种用于涂胶显影机的温湿度控制器，包括由多个制冷片串联形成的制冷片组，所述制冷片位于所述涂胶显影机的水冷却散热铝板和储冷铝板箱外壁之间，每个制冷片与所述水冷却散热铝板、所述储冷铝板箱外壁之间具有导热绝缘垫片。本发明可实现制冷片...

本发明提出了沟槽型功率晶体管中副产物的清洗方法，在形成沟槽后，进行第一次RCA清洗、第一次DHF清洗和第二次RCA清洗。本发明通过采用多次清洗相结合的方式，有利于彻底清除沟槽型晶体管中的副产物。可以提高栅氧化层厚度的均匀性，并有利于栅极...

本发明涉及一种制造高压NMOS管的方法，至少包括以下步骤：提供衬底，在所述衬底上形成高压P阱；在所述高压P阱上形成高压NMOS结构；在形成高压NMOS结构时，减小所述高压NMOS结构的漏极和源极附近的高压NMOS漂移区植入的掺杂浓度。本...

本发明公开了一种用于晶片加工机台的防呆计时报警方法和装置，属于半导体生产技术领域。所述方法包括：S1：在晶片加工过程中通过所述机台上的信号输出端子，判断所述机台是否无动作；S2：当判断出所述机台无动作时，发出报警。因此，本发明能够侦测到...

本发明公开了一种铝导线的形成方法，属于集成电路制造技术领域。所述方法包括：步骤(1)：在铝金属导线层的上方，设置光阻和硬膜介电层作为阻挡层；步骤(2)：不使用特殊保护性气体，直接对所述铝金属导线层进行蚀刻，形成铝导线。本发明能够得到良好...

本发明提出了一种校正镭射头的装置及其校正方法。该装置包括水平设置的横梁板，在横梁板一端的镭射头调整装置，在横梁板另一端的靶标，以及可以通过镭射光的透光装置。通过利用镭射光的单一方向性，在光轴准确的情况下定位透光孔，而校正维修好的镭射头时...

一种清洗真空吸盘定位部件的装置，包括：上盖和基板，所述上盖与基板通过合叶连接，上盖沿合叶转动，从而使上盖与基板间开启和闭合；其中，光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板上方，并且在上盖和基板闭合时，上盖完全覆盖光罩薄膜，而不覆盖真空吸盘定位...

本实用新型涉及一种避免在压力表中产生沉积物的冷却装置及机台，该冷却装置包括：位于化学气相沉积机台的排气管和压力表之间的连接管中的冷却水管，以及与所述冷却水管连接的进水管和出水管。该机台中包括该冷却装置。本实用新型提出的冷却装置及使用该冷...

本实用新型涉及一种用于涂胶显影机的温湿度控制器及包括该温湿度控制器的涂胶显影机。该温湿度控制器包括由多个制冷片串联形成的制冷片组，所述制冷片位于所述涂胶显影机的水冷却散热铝板和储冷铝板箱外壁之间，每个制冷片与所述水冷却散热铝板、所述储冷...

本发明公开了一种检测炉管温度分布的方法，包括：步骤１：准备电阻Ｒｓ控片；步骤２：将所准备的Ｒｓ控片放入炉管中进行热处理；步骤３：测量热处理后Ｒｓ控片的Ｒｓ结果；步骤４：根据所测量的Ｒｓ结果，得到炉管的温度分布状况。本发明利用Ｒｓ分布检测...