【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种集成电路制造过程中的清洗技术,特别是一种清洗真空吸盘定位部件的装置。
技术介绍
如图1所示,标线真空吸盘定位部件(reticle vacuum pad position)通常位于光罩薄膜面边缘的4个角(corner)上,用于提供放置真空吸盘的位置。在光罩盒的开合过程中,光罩真空吸盘定位部件会经常与光罩盒之间接触,常时间使用就会形成对真空吸盘定位部件的脏污,进一步污染机台的真空吸盘,从而对材料的品质造成影响。因此,有必要定期对真空吸盘定位部件进行清洗。但是目前的清洗方法一般是将光罩盒的上盖打开,并直接对光罩盒上方的真空吸盘定位部件进行擦拭。由于采用该方法擦拭时,光罩薄膜(pellicle)面直接向上放在光罩盒上,在擦拭真空吸盘定位部件的过程中有可能会刮伤光罩薄膜,从而对后续的工序造成影响。
技术实现思路
针对现有技术的上述缺点和不足,本技术的目的是提供一种清洗真空吸盘定位部件的装置,可以有效地清洗真空吸盘定位部件而不会刮伤光罩薄膜。本技术清洗真空吸盘定位部件的装置,包括上盖和基板,所述上盖与基板通过合叶连接,上盖沿合叶转动,从而使上盖与基板间开启和闭合;其中,光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板上方,并且在上盖和基板闭合时,上盖完全覆盖光罩薄膜,而不覆盖真空吸盘定位部件。作为上述技术方案的优选,上盖和基板的闭合面均为矩形。作为上述技术方案的优选,在上盖和基板上位于合叶相对面的位置,还包括相互配合的第一卡簧。作为上述技术方案的优选,在上盖和基板上位于合叶两个相邻面的位置,还分别包括相互配合的第二卡簧。 作为上述技术方案的优选,在所述第二卡簧上还设置有第一 ...
【技术保护点】
1.一种清洗真空吸盘定位部件的装置,其特征在于,包括:上盖和基板,所述上盖与基板通过合叶连接,上盖沿合叶转动,从而使上盖与基板间开启和闭合;其中,光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板上方,并且在上盖和基板闭合时,上盖完全覆盖光罩薄膜,而不覆盖真空吸盘定位部件。
【技术特征摘要】
1.一种清洗真空吸盘定位部件的装置,其特征在于,包括上盖和基板,所述上盖与基板通过合叶连接,上盖沿合叶转动,从而使上盖与基板间开启和闭合;其中,光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板上方,并且在上盖和基板闭合时,上盖完全覆盖光罩薄膜,而不覆盖真空吸盘定位部件。2.根据权利要求1所述的清洗真空吸盘定位部件的装置,其特征在于,上盖和基板的闭合面均为矩形。3.根据权利要求2所述的清洗真空吸盘定位部件的装置,其特征在于,在上盖和基板上位于合叶相对面的位置,还包括相互配合的第一卡簧。4.根据权利要求2所述的清洗真空吸盘定位部件的装置,...
【专利技术属性】
技术研发人员:马如贵,何如兵,凌成伟,章进东,
申请(专利权)人:和舰科技苏州有限公司,
类型:实用新型
国别省市:32
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