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杭州谱析光晶半导体科技有限公司专利技术
杭州谱析光晶半导体科技有限公司共有76项专利
一种抑制电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种抑制电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构,包括六边形元胞,六边形元胞具有P阱和N阱基本注入形貌,N阱具有P+2,P阱、N阱及P+2上贯穿形成埋沟式U槽,使得SiC VDMOSFET结构中形成具有栅源之间纵向的...
一种高容错率抑制漏源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制漏源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构,包括六边形MOS元胞具有JFET区,JFET区下方的P阱形成窄JFET区的屏蔽结构且在对应的位置采用了阶梯栅氧,屏蔽结构可以提高器件的雪崩能力,还可以大幅降...
一种高容错率抑制漏源电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制漏源电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构,包括六边形MOS元胞,六边形MOS元胞引入埋沟井槽,大幅减小元胞尺寸,增加电流密度,六边形MOS元胞的JFET区具有屏蔽结构且在对应的位置采用了阶梯栅氧,...
一种SiC功率MOSFET器件生产中的增厚光刻胶的多曝光开孔方法技术
本发明公开一种SiC功率MOSFET器件生产中的增厚光刻胶的多曝光开孔方法,包括如下步骤,S1:然后制作极限线宽光刻板备用,极限线宽光刻板的单个曝光单位内的图形曝光区域为直径0.5um的圆形;S2:在碳化硅功率MOSFET器件的衬底上均...
JFET区源极接触的抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽SiC VDMOSFET制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽SiC VDMOSFET,其包括多个并联连接的条形的六边形MOS元胞,六边形MOS元胞中引入埋沟井槽并构建N+/P+/polySi背靠背二极管,JFET区的下方具有屏蔽结构而在...
一种六边屏蔽型埋沟井槽SIC MOSFET结构制造技术
本发明公开一种六边屏蔽型埋沟井槽SIC MOSFET结构,包括多个并联的六边形MOS元胞,在六边形MOS元胞引入埋沟井槽,减小单个重复元胞尺寸增大电流密度,同时增强器件防栅源击穿性能,六边形MOS元胞中具有屏蔽结构,屏蔽结构可以提高器件...
JFET区源极接触的抑制电压过冲的埋沟U槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制电压过冲的埋沟U槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构,包括碳化硅外延层具有埋沟式U槽并在栅源之间纵向的N/P+2/polySi背靠背二极管和JFET区上方形成肖特基接触,实现钳位稳压的作用,同时将元胞的...
一种高容错率抑制电压过冲的六边井槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的六边井槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构,包括引入井槽的六边形MOS元胞并在其中构建有N+/P+/polySi背靠背二极管、屏蔽结构及阶梯栅氧,避免栅源电极在开关过程中因剧烈振荡而出现的过电压应力,...
一种具有抑制电压过冲功能的六边井槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制电压过冲功能的六边井槽SiC VDMOSFET结构,其包括多个并联连接的条形的六边形MOS元胞,六边形MOS元胞中引入井槽,六边形MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,六边形MOS元胞中具有屏蔽结构...
JFET区源极接触的抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽SiC VDMOSFET制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽SiC VDMOSFET,包括六边形元胞,六边形元胞具有P阱和N阱基本注入形貌,在栅源之间纵向的N/P+2/polySi背靠背二极管,实现钳位稳压的作用,同时将元胞的P阱与N阱...
一种平面栅六边形元胞SIC MOSFET结构制造技术
本发明公开一种平面栅六边形元胞SIC MOSFET结构,包括多个并联的六边形MOS元胞,六边形MOS元胞六个边相邻位置均分布有六边形MOS元胞,相邻六边形MOS元胞至少有一边平行,六边形MOS元胞具有多晶硅栅极,多晶硅栅极下侧具有一层栅...
一种高容错率抑制电压过冲的六边屏蔽型SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的六边屏蔽型SiC VDMOSFET结构,包括六边形MOS元胞并在其中构建有的N+/P+/polySi背靠背二极管、屏蔽结构及阶梯栅氧,避免栅源电极在开关过程中因剧烈振荡而出现的过电压应力,屏蔽结构可以...
JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构,其包括多个二维平面内分布的并联的六边形MOS元胞,六边形MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,片上集成N‑SiC/P‑SiC/pol...
JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的六边形元胞井槽SiC VDMOSFET制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的六边形元胞井槽SiC VDMOSFET,其包括六边形MOS元胞,六边形MOS元胞引入井槽或埋沟的井槽,六边形MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,片上集成N‑SiC/P‑S...
增加JFET区源极接触的具有抑制栅源电压过冲的SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开增加JFET区源极接触的具有抑制栅源电压过冲的SiC VDMOSFET结构,其包括多个并联连接的条形的MOS元胞,至少一个所述MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,实现利用MOS元胞基本结构自然加入了N+/P+...
一种高容错率抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开高容错率抑制电压过冲的六边埋沟井槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构,包括引入埋沟井槽的六边形MOS元胞并在其内构建有N+/P+/polySi背靠背二极管、屏蔽结构及阶梯栅氧,避免栅源电极在开关过程中因剧烈振荡而出现的过电压应...
JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的埋沟U槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开JFET区源极接触的抑制栅源电压过冲的埋沟U槽SiC VDMOSFET结构,包括MOS元胞,在MOS元胞中具有N/P+2/polySi背靠背二极管并引入埋沟U槽,实现钳位稳压的作用,同时将元胞的P阱与N阱同时与源区的欧姆接触由...
一种具有抑制栅源及漏源电压过冲功能的SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源及漏源电压过冲功能的SiC VDMOSFET结构,包括多个并联的MOS元胞,MOS元胞具有的栅氧层上具有一凸起段,凸起段位于MOS元胞的JFET区上方,MOS元胞还具有为P型半导体区的P+2,使得MOS元胞中形...
一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞井槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞井槽SiC VDMOSFET结构,其包括多个二维平面内分布的并联的六边形MOS元胞,所述六边形MOS元胞引入井槽,至少一个所述六边形MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,实现...
一种具有抑制栅源电压过冲功能的U槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲功能的U槽SiC VDMOSFET结构,其包括多个并联连接的条形的MOS元胞,至少一个所述MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,所述N+/P+/polySi背靠背二极管包括通过离子注入形...
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