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杭州美迪凯微电子有限公司专利技术
杭州美迪凯微电子有限公司共有8项专利
一种嵌入式芯片封装结构制造技术
本技术涉及芯片封装技术领域,公开了一种嵌入式芯片封装结构,包括内部构造有空腔的封装外壳以及设置于其空腔内的芯片,封装外壳的外表面均匀固定有多个连接条,芯片的外表面均匀构造有多个芯片连接条,多个芯片与多个芯片连接条适配,封装外壳的顶部设置...
一种快速拆卸镀膜夹具制造技术
本实用新型公开了一种快速拆卸镀膜夹具,包括底座,底座的上表面设置有伸缩杆支撑架,伸缩杆支撑架的内壁螺纹套接有支撑杆螺钉,支撑杆螺钉的外表面与底座的内壁螺纹连接,底座的正面和侧面内壁均贯通连接有呈对称分布的连接螺栓,底座的四周设置有呈圆周...
干法刻蚀制作正梯形胶形的工艺制造技术
本发明公开了一种干法刻蚀制作正梯形胶形的工艺,其工艺步骤为:S1、取出基板,在基板上涂覆一层非光敏底层胶达到设定的目标厚度;S2、在非光敏底层胶上层再涂覆一层光刻胶,光刻胶的厚度大于非光敏底层胶;S3、两层胶涂覆完毕后采用曝光显影坚膜的...
多尺寸基板的镀膜夹具制造技术
本实用新型公开了一种多尺寸基板的镀膜夹具,包括夹具体,夹具体正面上包括有三圈结构,外圈、中圈和内圈,外圈、中圈和内圈呈由高到低的梯度依次分布,所述内圈为一个镂空扇形,镂空扇形的大小为产品基板镀膜的膜层覆盖面,中圈为镀膜的产品基板的扇形安...
一种干湿法结合去胶工艺制造技术
本发明公开了一种干湿法结合去胶工艺,其工艺步骤为:S1、基板准备:选取尺寸4寸
非光敏胶图形化加工工艺制造技术
本发明公开了一种非光敏胶图形化加工工艺,其工艺步骤为:S1、取出基板,在基板上涂覆一层非光敏胶达到设定的目标厚度;S2、在非光敏胶上层再涂覆一层光敏胶;S3、在光敏胶上覆盖上掩膜版,掩膜版为部分镂空设计,镂空的部分为图形化加工的产品图案...
一种大尺寸硅晶元基板镀膜夹具制造技术
本实用新型公开了一种大尺寸硅晶元基板镀膜夹具,包括底座,底座内设置有用于安置待加工基板的安置槽,底座外沿一圈设置圆环状的凸台,凸台上沿圆周均匀设置有压块,压块为凹形,压块压紧在凸台上,压块的内支撑壁压紧待加工基板,凸台上紧靠压紧有压片,...
一种封装芯片制作工艺制造技术
本发明公开了一种封装芯片制作工艺。本发明通过设计新的封装芯片制作工艺,使工艺所需要的设备价格更加便宜,节省了成本支出;不需要做模具,节省了生产时间;通过真空印刷更好的保护了产品,良率更高。解决现有常规的SAW滤波器制造工艺设备成本高、制...
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