一种用于薄膜沉积设备的内部材料，包括：用于薄膜沉积设备的腔室结构，其具有位于其中的反应空间；和涂层结构。该腔室结构包括其上放置对象的对象支撑单元、和用于支撑靶材的靶材支撑单元，该靶材包括用于对该对象进行薄膜沉积的第一金属物质。在该腔室结...

一种升降销，其在对晶片进行外延工艺的工艺室内部贯穿放置有所述晶片的衬托器的孔以支撑所述晶片并且具有由玻璃碳材料形成的表面。

一种用于薄膜沉积设备的内部材料，包括：用于薄膜沉积设备的腔室结构，其具有位于其中的反应空间；和涂层结构。该腔室结构包括其上放置对象的对象支撑单元、和用于支撑靶材的靶材支撑单元，该靶材包括用于对该对象进行薄膜沉积的第一金属物质。在该腔室结...

一种摩擦辊，包括：主体，以碳纤维增强复合材料(下文中称为CFRP)制成且呈圆柱形；粘结涂层，涂覆在所述主体的外周面并且以碳材料制成；以及金属层，附着在所述粘结涂层的外周面。

根据一种气溶胶涂覆方法，对具有第一平均粒径(D50)的初级陶瓷颗粒的实施热处理工艺，从而形成具有第二平均粒径(D50)的陶瓷颗粒，其微单元大于第一平均粒径。其后，将陶瓷颗粒与载气混合而形成气溶胶。朝向基底喷射该气溶胶从而在基底上形成陶瓷...

本发明公开的静电卡盘，包括：基底基材；陶瓷绝缘层，形成于所述基底基材上；电极层，形成于所述陶瓷绝缘层上来用于发生静电力；电介质层，形成于所述电极层上，具有载置衬底的表面；及凸起部，从所述电介质层的表面凸起，所述电介质层是由氧化铝构成，所...

在静电吸盘（ESC）中包括用于吸收热应力的缓冲层，所述静电吸盘包括具有穿透孔的主体以及设置在所述主体上的基板。所述基板具有与所述主体的穿透孔对应的插入部分以及被定位于所述基板之内并通过所述插入部分被暴露出来的电极。所述ESC包括端子单元...

在用于等离子施放装置的静电吸盘中，制备一基体且将具有非晶体结构的第一绝缘层设置在该基体上。将用于产生静电力的电极层设置在该第一绝缘层上。介电层定位在该电极层上。从而使在静电吸盘中的漏电流和由该漏电流导致的电弧最小化，从而提高了静电吸盘的...

基板载置用托盘，可以包括：主体、引导部等。所述主体可以具有具备了载置基板的第一面的平板结构，并且可以由碳-碳复合材料构成。所述引导部，可以引导所述基板向着所述主体，从而使所述基板载置于各自规定的位置。在太阳能电池基板上形成薄膜时，所述基...

本发明涉及一种接地结构、以及具有所述接地结构的加热器和化学气相沉积设备。接地座具有壳体，用于容放接地连接器，接地连接器用于将电流导向接地蓄电器；位于壳体中的接地夹，所述接地夹为圆筒状以使接地夹内外相通，所述接地夹保持住所述接地连接器使得...

制造具有空腔的多层陶瓷基片的方法包括，第一加压步骤，其中第一和第二未烧结片堆叠体各自通过加压多个未烧结陶瓷生片而形成；形成穿透第二片堆叠体的孔的步骤；通过将其上形成了所述孔的第二未烧结片堆叠体设在该第一未烧结片堆叠体上形成初步第三未烧结...

在升降销和具有所述升降销的基底处理装置中，所述升降销包括本体和接触部件，所述本体插入基底位于其上的基座的穿孔并且以垂直于所述基座上表面的方向沿所述穿孔上下移动，所述接触部件紧固至所述本体的上部并且包括硬度小于所述基底的硬度的软材料。由此...

在静电吸盘和制造该静电吸盘的方法中，所述静电吸盘包括具有穿透孔的主体；具有与所述主体的穿透孔对应的插入部分以及被定位于所述基板之内并通过所述插入部分被局部暴露出来的电极的基板；具有通过所述穿透孔和所述插入部分与所述电极接触的端子以及将所...

在静电吸盘（ＥＳＣ）中包括用于吸收热应力的缓冲层，所述静电吸盘包括具有穿透孔的主体以及设置在所述主体上的基板。所述基板具有与所述主体的穿透孔对应的插入部分以及被定位于所述基板之内并通过所述插入部分被暴露出来的电极。所述ＥＳＣ包括端子单元...

在用于等离子处理设备的耐等离子陶瓷涂覆体中，所述陶瓷涂层包括要被执行等离子工艺的物体和覆在所述物体上并具有０．１％至１．０％的孔比例的陶瓷层。所述陶瓷层在于８００Ｗ的电能下产生的等离子环境中具有１３ｎｍ／ｍｉｎ至２５ｎｍ／ｍｉｎ的蚀刻速...

一种基板处理装置的基板支撑单元，包括第一支撑部件、第二支撑部件、缓冲部件和管子。所述第一支撑部件具有内置的电极和加热器并且支撑基板。所述第二支撑部件设置在所述第一支撑部件之下，以支撑所述第一支撑部件。所述缓冲部件设置在所述第一支撑部件和...

一种用于支撑基板的装置，包括对所述基板进行支撑的上板；设在所述上板之下的下板；位于所述上板与所述下板之间的绝缘部件；电极，其位于所述上板与所述绝缘部件之间以将等离子体指向由所述上板支撑之基板上；及加热器，其位于所述绝缘部件与所述下板以加...

一种离子注入机，包括处理室和涂层。处理室容纳基板，并且提供用于在基板上进行离子注入处理的空间。涂层设在处理室的内壁上以减小基板的污染，并且包括与基板相同的材料。

一种传送晶片的装置，包括陶瓷托片、电极、多个垫块、涂层以及自动臂。所述托片支撑所述晶片，并且所述电极设在所述托片内。电力施加至所述电极以生成用于保持所述晶片的静电力。所述垫块设在所述托片上，由此所述晶片与所述垫块之间具有摩擦力。所述涂层...

在喷涂工艺用喷涂粉末中，所述喷涂粉末包括平均直径为约２０μｍ至约６０μｍ的颗粒，所述喷涂粉末由包含第一浆体和第二浆体的浆体混合物生成。所述第一浆体含有直径为约０．０１μｍ至约２μｍ的氧化钇颗粒、均匀分散所述氧化钇颗粒的第一分散剂、粘结所...