一种形成放射线图像拍摄板的光导层，其特征在于所述光导层由硒合金形成，所述硒合金在其中含有０．１～１０００摩尔ｐｐｍ单价金属和０．１～１０００摩尔ｐｐｍ除Ｓｅ外的硫族元素。

本发明提供一种图案形成方法，可以高精细地形成微细图案，可以提高图案形成的生产性，并且可以用高析像度在感光性组合物中形成规定图案。为此，包括：使用含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层的感光层形成工序...

本发明的放射线图像检测器通过防止与下部层的界面处、和与上部层的界面处的结晶化，改进电子行走性能、并抑制随时间带来的图像缺陷增加的情况。本发明的放射线图像检测器是在使担载放射线图像的记录用电磁波透过的第１电极（１）、通过透过该第１电极（１...

本发明的目的在于，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法通过抑制成像于图案形成材料上的像的失真，可以高清晰地、有效地形成布线图案等永久图案，而且使遮盖性和分辨率高度并存。因此，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法将至少具有感光层的图案...

一种透光性材料，其空间填充率高、光学散射少、光透射率优越。在通过液相合成而合成颗粒后，不使该颗粒干燥地替换溶液，此时，导入由从Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、钇氧化物、硅氧化物、钇.硅复合氧化物、铝.硅复合氧化物或具备具有比所述颗粒的熔点低的熔...

一种固态成像装置，包括：　　　　固态成像元件，所述固态成像元件包括固态成像元件主体；　　　　第一衬底，所述第一衬底的一个端面被粘接到固态成像元件的固态成像元件衬底的一个端面并与固态成像元件的固态成像元件衬底的一个端面集成，所述第一衬底在...

根据本发明的一个方面，提供一种用于抛光半导体集成电路的阻挡层的抛光液，所述的抛光液包括其部分表面被铝覆盖的胶体二氧化硅，和氧化剂，其中所述抛光液的ｐＨ为２至７。

本发明提供在高速研磨速度下表面凹陷少、可以对基板进行化学机械研磨的金属用研磨液。该研磨液用于半导体器件制造中的化学机械研磨，其中含有至少一种式（Ａ）表示的四唑类化合物和至少一种式（Ｂ）或式（Ｃ）表示的三唑类化合物。

一种追踪方法，其中通过在预定的扫描方向上相对于追踪面移动空间光学调制装置来执行追踪操作。空间光学调制装置包括许多追踪元件，用以根据依据追踪信息传送的控制信号调制输入光。所述方法使空间光学调制装置可快速执行所述调制以减少追踪时间。特定的调...

本发明的目的在于，提供一种感光性组合物、层叠有该感光性组合物的图案形成材料及感光性层叠体、图案形成装置、图案形成方法，其中，所述感光性组合物相对于波长４００～４１０ｎｍ的曝光光的灵敏度分布大致一定、图案重现性优良、最大地抑制图案形状的偏...

在通过相对于追踪表面沿预定方向移动各自包括空间光学调制装置和光学系统的多个追踪头执行追踪的追踪方法中，因环境温度变化而引起的追踪头的相对位置关系的变化被最小化。多个空间光学调制装置３４ａ、３４ｂ被设置在单个追踪头３０内，并且，使用共同的...

一种图像曝光装置，其能够避免由于光线行进方向上的波动而导致所曝光的图像分辨率变差，所述光线聚焦空间光调制器件的像素部分的像素图像。该装置包括空间光调制器件（５０），例如具有被二维地设置的多个像素部分的ＤＭＤ；光源（６６）；和图像聚焦光系...

本发明的目的在于，提供一种感光性组合物及图案形成方法及永久图案，所述感光性组合物的显影性、焊锡耐热性、耐折性、耐加压蒸煮性优良，固化被膜的挠性大幅度提高，适用于挠性印刷电路板的制造。因此，所述感光性组合物至少含有（Ａ）具有羧基的聚氨酯树...

提供了一种有机电致发光装置，它具有在一对电极之间的至少一个有机层。所述有机层含有式（Ⅰ）代表的化合物，Ｚ↑［１］和Ｚ↑［２］各自代表在氮原子处配位到铂原子上的含氮芳香６－元环，Ｑ代表具有一个或两个氮原子的含氮芳香５－元环，Ｌ↑［１］和Ｌ...

一种曝光设备（１０）包括光源单元（６０）、数字微镜器件（９０）、成像光学系统（５０）以及一对楔形棱镜（５４），所述光源元件（６０）用于发出曝光光线；所述数字微镜器件（９０）用于基于图像信号、对从光源发出的曝光光线进行空间光调制；所述成像...

一种用于制备具有由组成式（Ａ，Ｂ，Ｃ）（Ｄ，Ｅ，Ｆ）Ｏ↓［３］表示的组成的压电氧化物的方法，式中，Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ和Ｆ中的每一个都表示一种或多种金属元素。确定所述组成，以使满足条件（１）０．９８≤ＴＦ（Ｐ）≤１．０１、（２）ＴＦ（ＡＤ...

具有：相对于曝光头（２４ａ～２４ｈ）相对地输送计测用工件（３６ａ）的第一输送部（１００）；对计测用工件（３６ａ）通过曝光头（２４ａ～２４ｈ）连续地描绘多个测试图案图像（１１２）的第一描绘部（１０２）基于在计测用工件（３６ａ）上描绘的多个...

本发明涉及一种研磨液，该研磨液在半导体器件的化学机械平坦化方法中主要用于阻挡金属材料的研磨，所述化学机械平坦化方法中，将研磨液供给于研磨盘上的研磨垫，并且通过使该研磨垫与晶片的被研磨面接触并相对运动而进行研磨，该研磨液含有：（ａ）具有羧...

一种图像曝光设备，包括：空间光调制元件（５０），由用于独立地调制照射到其上的光的多个像素部构成；光源（６６），用于将光束Ｂ照射到空间光调制元件上；和光学系统（５１），用于聚焦由每个像素部承载的图像；以及微透镜阵列（５５），在所述微透镜阵...

在执行Ｎ元绘图的绘图设备中，安装绘图头（３０）使得二维排列的可用像素的像素列方向和绘图头（３０）的扫描方向相对于绘图面（１２Ａ）形成预定的设置倾角。待使用像素设置装置基于像素列相对于扫描方向倾角的变化，设置多个可用像素中在Ｎ元绘图中使用...