【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种下式(ⅡA)代表的化合物: *** 其中L↑[1]代表单键或二价连接基团,并且R↑[21]、R↑[22]、R↑[51]、R↑[52]、R↑[53]、R↑[54]、R↑[55]和R↑[56]各自独立地代表氢原子或取代基。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:伊势俊大,五十岚达也,木下郁雄,邑上健,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[]
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