本发明属化学镀银技术领域，具体为一种非金属材料表面自组装化学镀银的方法。该方法是在非金属材料表面，以氨基为末端的硅烷类分子为自组装修饰层，以金或银的纳米溶胶颗粒为化学镀的催化中心，快速形成均一光亮的与基底结合紧密的银镀层。本发明制备的银...

本发明属薄膜制备技术领域，具体为一种直流放电活性原子束喷射制备氮化钛纳米薄膜的方法。该方法利用一台弧热等离子束源来分解甲烷和氮气，出射离子束由高密度的中性氮原子和甲基构成，强度为１０↑［１９］－１０↑［２０］原子／弧度．秒。出射束粒子达...

本发明属于微电子技术领域，具体为一种纳米尺度孪晶铜薄膜的制备方法。其步骤为先制备一种和铜不易发生互溶、扩散、反应的但具有高界面能的衬底，用常规物理气相淀积的方法沉积铜薄膜，在刚淀积的铜薄膜中即可产生纳米尺度孪晶。为增大铜晶粒尺寸并且提高...

本发明属于透明导电薄膜技术领域，具体为一种掺钨二氧化锡（ＳｎＯ↓［２］：Ｗ）多晶透明导电氧化物薄膜及其制备方法。本发明以二氧化锡和金属钨粉末经研磨混合、压片、烧结获得的块体材料为靶材；在温度为室温的石英玻璃衬底上利用脉冲等离子体沉积（Ｐ...

本实用新型涉及一种保温节能玻璃。利用金属氮化物的红外反射特性，在玻璃的表面镀敷一层金属氮化物薄膜。例如镀敷氮化钛薄膜，制作成氮化钛薄膜保温节能玻璃。这种玻璃无须另加保护膜，且耐酸碱腐蚀，时延性良好，可广泛用于各种建筑物、温室、车辆上，以...

本实用新型是一种用于反应直流磁控溅射法制备掺钼氧化铟（ＩＭＯ）透明导电氧化物薄膜的铟钼金属镶嵌靶。它由在纯度为９９．９９％的纯金属铟圆靶上均匀对称镶嵌纯金属钼丝构成，具体结构是，铟靶上有直径为２．５－３．５ｍｍ的小孔，小孔内镶嵌钼丝。本...

本实用新型属于反应直流磁控溅射技术领域，具体为一种用于反应直流磁控溅射的锌钼金属镶嵌靶。在靶以直径为６０ｍｍ，厚度为２－３ｍｍ锌金属圆靶为基础，在其磁溅射区内均匀对称的分布有６－２４个直径为０．８－２．０ｍｍ小孔，小孔内镶嵌有直径为０．...

一种等离子体和激光束联合处理材料的装置，主要由微波装置、放电装置、配气装置、真空机组、材料处理室组成，其特征是：微波装置中的微波源（１）后联接微波传输耦合装置（２），其后联放电装置；放电装置中的电子回旋共振微波放电腔（３）上端联配气装置...

本实用新型涉及一种具有自清洁功能的玻璃。它以普通玻璃为基板，其上由磁控溅射法镀有二氧化钛膜层。本自清洁玻璃具有良好的亲水性能和分解有机物的能力，因而具有很强的自清洁功能，使用寿命可长达１０年以上。该玻璃可以广泛用作房屋建筑的门窗玻璃和汽...

一种金属有机络合物Ｍ－［１－δ］（ＴＣＮＱ）及其制备，金属（Ｍ）与ＴＣＮＱ的摩尔比为（１－δ）∶１，其中０．２≤δ≤０．５。它是一种具有良好的光致变色特性和非线性电学特性的分子电子学材料。用真空镀膜工艺可制备厚度为１００－２００纳米的薄...

用人工化学气相沉积技术制备的金刚石多晶薄膜可以作为红外增透保护膜，其硬度为６０００～１００００ｋｇ／ｍｍ↑［２］，不怕酸、碱腐蚀，大气中耐温５００℃以上，可在恶劣环境条件下使用。该膜采用基板超声预处理，在优化工艺条件下人工化学气相沉积等...

本发明是一种金刚石红外增透滤光窗口及其制备方法。目前金刚石薄膜窗口透光波段的研究及应用局限在２．５－２５μｍ范围，使用中受到限制。本发明用电子束辅助热灯丝化学气相沉积方法；两步法高密度成核金刚石优化生长工艺；多光束干涉法薄膜厚度监控，克...

本发明涉及的是一种溅射制备氧化铟锡／金属／氧化铟锡多层薄膜结构透明电极的工艺。现有溅射工艺要加热，不适合有机衬底，而且基体温度过高，不利于产品性能的提高。本发明室温条件下溅射制备氧化铟锡／金属／氧化铟锡复合透明导电薄膜电极，该工艺的优点...

本发明涉及一种具有自清洁功能的玻璃及其制备方法。它以普通玻璃为基板，其上由磁控溅射法镀有二氧化钛膜层。本自清洁玻璃具有良好的亲水性能和分解有机物的能力，因而具有很强的自清洁功能，使用寿命可长达１０年以上。该玻璃可以广泛用作房屋建筑的门窗...

一种低介电常数绝缘介质α－ＳｉＣＯＦ薄膜（非晶硅碳氧氟薄膜）及其制备方法。现有该类产品介电常数较高、薄膜漏电流密度大、介电强度和电学稳定性不理想，且生产成本偏高。本发明用等离子增强化学气相淀积装置制备了低介电常数绝缘介质α－ＳｉＣＯＦ薄...

本发明是一种在常温条件下合成制备化合物薄膜材料的方法。现有技术尚无把电子回旋共振微波放电技术和脉冲激光沉积技术结合起来制备薄膜材料的方法。本项发明的方法是：在电子回旋共振条件下对特定的工作气体进行微波放电产生微波等离子体，在微波等离子体...

本发明涉及一种具有微型管状晶体结构的金属有机配合物及其制备方法。用本发明有望制备金属有机配合物纳米管。制备步骤如下：将ＴＣＮＱ溶入分析纯的乙腈中制成饱和溶液；在清洗好的基板上用真空镀膜方法生长一层金属膜（Ｍ）；将金属膜浸入ＴＣＮＱ的乙腈...

一种常温下微波等离子体和激光联合处理材料表面的方法，其特征是将电子回旋共振微波等离子体和激光束同时引入材料处理室，共同作用于材料表面对材料表面进行联合处理； 具体步骤是：被处理材料固定在材料处理室中样品架上，把材料处理室和微波放电...

一种多元复合镀层切削刀具，其特征在于在切削刀具基体上首先镀覆有一过渡层钛膜，然后依次镀覆有ｎ层氮化钛（ＴｉＮ）膜和碳氮化钛（ＴｉＣＮ）膜的复合层；其中，过渡层钛膜的厚度为５０－１００ｎｍ，复合层中，氮化钛膜的厚度为１００－３００ｎｍ，碳...

一种类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于以碳氢化合物气体甲烷作为碳源，采用等离子体分解结合高能离子轰击技术，在经过清洗的待镀基体表面沉积类金刚石薄膜。