公开了用于容器盖的装置和方法，适用于用于透射电子显微镜样本或类似的轻或薄物体的薄片载体的可靠自动化处理和运输。一种用于容器的盖，该容器具有一个或多个可以通过容器的顶部表面触及的空腔。该盖可以包括具有平坦表面的刚性构件。附接到该刚性构件的...

本发明题为“用于制备楔形薄片的方法和系统”。楔形薄片可通过从样品的至少一侧铣削多个样品切片来制备。基于在移除一个或多个样品切片之后获得的SEM图像来监测铣削。可响应于沿经铣削样品的高度的第一结构与第二结构之间所估计的距离不大于阈值距离而...

一种根据本公开的处理图像数据的计算机实施的方法包括：接收该图像数据，其中该图像数据是表示在第一焦点深度处获得的扫描透射带电粒子显微镜(STCPM)扫描的STCPM图像数据；以及处理将该图像数据表示为来自样品在多个焦点深度处的多个切片的贡...

根据本公开的一种处理图像数据的计算机实现方法包括：接收图像数据，其中所述图像数据是扫描透射带电粒子显微镜(STCPM)图像数据，表示在第一焦深处获得的STCPM扫描；和处理方程组，所述方程组将图像数据表示为在多个焦深处样本的多个切片的贡...

本发明描述了在聚焦离子束装置上或包括聚焦离子束和扫描显微术能力两者的双束装置上的粒子诱导X射线发射(PIXE)的实际具体实施。因此，分析方法包括：将包括质子和非氢离子的混合物的离子引导到样本上，其中该混合物的离子的动能不大于50千电子伏...

基于第一表面的第一样品图像和第二表面的第二样品图像来分析样品中的多个特征部。所述第一表面包括所述多个特征部的横截面，并且所述第二表面包括所述多个特征部在相对于所述第一表面的不同样品深度处的横截面。所述第二表面是通过铣削所述样品以去除所述...

补偿显微镜系统中的干涉。本发明涉及用于补偿带电粒子束显微镜系统中的干涉的方法和系统。可以实现在采样持续时间内捕获从样本的辐照获得的数据的步骤。在该系统中，提供了用于捕获和/或存储该数据的相应数据存储装置。可以实现将采样持续时间的至少代表...

公开了用于使用从参考样品获取的数据来确定从活动样品的切割面到目标平面的距离的方法和设备。该活动样品和参考样品具有全等结构，允许将参考数据用作索引。将该切割面的SEM图像与该参考数据进行比较来确定该活动样品内的位置，从而确定到该目标平面的...

本发明涉及一种样本处置和存储系统。该系统用于存储和处置被布置成在带电粒子显微镜中使用的样本，该样本可以是低温样本，诸如在低温透射电子显微镜中使用的低温电子显微镜样本。该系统包括用于存储多个样本的存储设备，和位于远离该存储设备的位置处的带...

带电粒子束显微术中的光学像差的测量和校正。带电粒子束显微镜系统以透射成像模式操作。在操作期间，带电粒子束微系统将带电粒子束引导至样本以产生图像。将束倾斜的时间序列以图案应用于被引导到样本的带电粒子束以产生图像的序列。在带电粒子束在束倾斜...

提供了用于将惰性气体环境内的样本转移到射束系统和从射束系统转移样本的各种方法。在一个示例中，一种样本转移舱包括：容器，该容器被配置为在传送期间储存样本，其中该容器能够在闭合构型和开启构型之间进行调节；惰性气体储存室，该惰性气体储存室耦接...

本文公开了用于执行用于增强扫描电子显微镜(SEM)图像的混合机器学习方法的方法和系统。方法包括以下步骤：采集样本的区域的多个图像，该多个图像各自通过用脉冲式带电粒子束照射该样本而生成；放大每个单独图像以生成该样本的该区域的多个放大图像；...

方法包括：获取模型样本的体积的一系列图像或光谱；使用一系列图像重建模型样本的体积的3D图像；通过形成重建的3D图像的分割并且将一个或多个原始几何形状拟合到分割来构建模型样本的体积的3D模型；获取测试样本图像或光谱；以及使用构建的3D模型...

本发明提供了用于自动聚焦粒子束以进行SPA的各种方法。在一个示例中，一种方法包括：基于来自样本的至少一个相邻区域的至少一个散焦测量结果来确定该样本的区域的焦点调整以实现目标散焦；以及使得利用该焦点调整在该区域处采集该样本的图像。以这种方...

基于深度学习的样品定位。本文公开科学仪器支持系统，以及相关的方法、计算装置和计算机可读介质。举例来说，在一些实施例中，一种用于由显微镜确定样品位置和相关联的载物台坐标的方法至少包括：使用导航相机获取装载在夹具上的多个样品的图像，所述图像...

用于控制带电粒子显微镜检查系统的计算机实现的方法包括：基于图像序列来估计该带电粒子显微镜检查系统的载物台的漂移，以及基于该漂移估计值来自动调整载物台稳定等待持续时间。带电粒子显微镜检查系统包括：成像系统；移动载物台；以及处理器和被配置有...

本文中公开用于在样品操控器与带电粒子系统内的样品之间创建附接的方法和系统。方法包含使样品操控器平移使得其靠近样品，及对所述样品操控器的部分进行铣削使得去除部分。所述样品操控器的靠近所述样品的所述部分是由高溅射产率材料构成，且所述高溅射产...

本文公开了用于在带电粒子显微镜系统内对高反应性材料执行样品提取和保护盖放置的方法和系统。所述方法包含在支撑结构中制备嵌套空隙；将样品的至少一部分转移到所述嵌套空隙中；以及研磨来自限定所述嵌套空隙的所述支撑结构的区域的材料。研磨来自所述支...

根据本公开，静电镜色像差（Cc）校正器包括本身包括多极子的静电电子镜。所述静电电子镜定位在所述校正器内，使得当所述校正器在使用中时，穿过所述校正器的电子束不会沿着所述镜的光轴入射在所述静电电子镜上。所述静电镜的镜物距等于所述静电镜的镜像...

用于确定多个子束的位置的方法和系统包括：通过使所述子束在第一样本区域上进行扫描来执行第一扫描并获取多个单元图像；以及通过使所述子束在第二样本区域上进行扫描来执行第二扫描并获取多个单元图像。每个单元图像对应于一个子束，并且所述第一样本区域...