【技术实现步骤摘要】
用于针对高反应性材料执行样品提取的系统和方法
技术介绍
[0001]在扫描及传输带电粒子显微镜中,带电粒子束用于对样品上的所关注区进行成像或以其它方式进行研究。在许多状况下,在可对所关注区进行成像和/或研究之前,通常有必要制备和/或操控所述系统内的样品以允许暴露或以其它方式制备所关注区。在当前系统中,此类制备通常包含一个或多个方式:使用带电粒子束从较大样本制备样品、将所述样品附接到操控探针以允许所述样品在显微镜系统内平移,及将所述样品附接到样品固持器使得所述样品上的所关注区可被处理、成像和/或以其它方式研究。
[0002]在当前系统中,所述样品使用前驱气体或沉积液体附接到探针和/或样品固持器。具体来说,在一些附接方法中,前驱气体被引入到围绕所述样品的体积,其中气体分子在被带电粒子束照射时在所述样品、探针和/或样品固持器上形成沉积物。在另一当前附接方法中,液体首先被引入到样品、探针和/或样品固持器,且所述液体运用带电粒子束被照射,使得其被固化,从而在样品与探针和/或样品固持器之间形成附接结合。然而,虽然这些系统适用于许多通用应用,但它们各自都有 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种非暂时性计算机可读介质,其存储指令,所述指令在由处理器执行时使得所述处理器启动执行步骤:使样品操控器平移,使得其靠近样品,其中所述样品操控器的靠近所述样品的部分是由高溅射产率材料构成;及运用带电粒子束对所述高溅射产率材料进行铣削,使得所述高溅射产率材料的部分从所述样品操控器去除,且其中被去除的高溅射产率材料中的至少一些再沉积以在所述样品操控器与所述样品之间形成附接。2.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质,其中所述样品操控器包括涂布有所述高溅射产率材料的探针,且其中照射所述高溅射产率材料包括铣削掉涂层的靠近所述样品的部分。3.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质,其中所述样品操控器包括附接到探针的中间主体,且其中所述中间主体是由所述高溅射产率材料构成。4.根据权利要求3所述的非暂时性计算机可读介质,其中所述中间主体通过包括以下各项的过程附接到所述样品操控器的探针部分:使所述探针部分平移,使得其靠近所述中间主体;及运用所述带电粒子束对所述中间主体的靠近所述探针的部分进行铣削,且其中被去除的中间主体中的至少一些再沉积以在所述探针部分与所述中间主体之间形成附接。5.根据权利要求3所述的非暂时性计算机可读介质,其中所述中间主体通过气体沉积附接到所述样品操控器的所述探针部分。6.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质,其中用于在所述样品操控器与带电粒子系统内的所述样品之间创建附接的方法相比于...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。