钢板工件喷涂涂装前处理常温磷化剂，由如下原料及质量百分比构成：８５％磷酸１２～４６％、９８％硝酸２～９％、氧化锌６～１８％、４０％氟硅酸０．２～２．８％、氢氟酸０．１～３．３％、硝酸镍０．５～５．５％、氯酸钾１～４％、柠檬酸０．１～１．...

钢铁工件喷涂涂装前常温皮膜钝化剂，原料及质量百分比为：植酸２～８％、酒石酸０．１～３％、柠檬酸０．３～２％苯甲酸钠２～６％、三乙醇胺４～８％、自来水余量。其制备方法为：将计量的自来水加到反应釜中，在常温常压下开动搅拌器，按４５０～５５０...

钢铁工件电泳涂装前常温皮膜钝化剂，原料及质量百分比为植酸３～８％、柠檬酸１～３％、氟锆酸１～３％、溴酸钠０．１～２％、苯甲酸钠２～６％、碳酸钠１～３％、三乙醇胺５～９％、自来水余量。制备方法为将自来水加入反应釜中，开动搅拌器，转速为４５...

铸铁铸钢工件周期性喷涂涂装前常温皮膜钝化剂，原料及质量百分比为：植酸３～９％、酒石酸０．１～０．６％、柠檬酸０．５～１．５％、溴酸０．１～０．４％、苯甲酸钠４～８％、苯骈三氮唑０．１～０．３％、三乙醇胺５～９％、工业酒精０．１～０．２％...

压铸铝合金工件电泳涂装前皮膜处理剂，原料及质量百分比为：氟锆酸２～１０％、硝酸１～１３％、柠檬酸１～５％、植酸１～８％、氢氟酸０．５～３％、溴酸铵０．３～１．２％、碳酸氢铵３～８％、自来水余量。制备方法为：将计量的自来水加入到反应釜中，...

机用迫击炮炮弹箱体喷涂涂装前处理复合型化锈剂，原料及质量百分比为：磷酸１０～５０、氟锆酸１～１０％、酒石酸１～５％、柠檬酸５～２０％、植酸１～１０％、自来水余量。制备方法为：将自来水加入反应釜中，在常温常压下开动搅拌器，以１５０～２５０...

炮弹弹壳电泳涂装前滚镀磷化剂，原料及配比为：８５％磷酸１８～２８％、９８％硝酸０．８～１．３％、氧化锌１．３～３．３％、碳酸锰０．２～１．０％、碳酸镍１～３％、硝酸镍０．５～３％、柠檬酸０．１～０．５％、氢氟酸０．５～３％、合成掩蔽剂０...

铸铁柴油机主机缸体常温清洗防锈剂，配方为：三聚磷酸钠２～８％、六偏磷酸钠２～８％、五水偏硅２～１０％、重碱１～４％、ＱＹＬ－２３　８～１２％、ＡＥＯ３～６％、ＪＦＣ０．１～１．２％、聚乙二醇４～６％、磺化蓖麻油３～５％、拉开粉０．２～２...

铸铁柴油机主机缸体常温钝化处理剂，原料及质量百分比为：５０％植酸４．５～７％、苯甲酸钠４～６％、三乙醇胺８～１２％、工业碳酸钠０．８～１．２％、苯并三氮唑０．１～０．１５％、工业酒精１～２％、异噻咪唑酮０．２～０．３％、自来水余量。制备...

本发明公开一种降低铜化学机械抛光粗糙度的抛光液，由研磨颗粒、含氮聚合物、螯合剂、表面活性剂、腐蚀抑制剂、氧化剂及去离子水混合后再用ＫＯＨ或ＨＮＯ↓［３］调节ｐＨ值至１．０～７．０，各原料的质量百分比为：研磨颗粒０．１％～３０％、含氮聚合...

本发明公开了一种用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液，由磨料、活性剂、分散剂、螯合剂、ｐＨ调节剂及纯水组成，ｐＨ值为９．０～１２．０，原料及质量百分比为：磨料０．１％～２０％、螯合剂０．１％～２％、分散剂０．１％～５％、活性剂０．１％～５％...

本发明公开一种高去除率、低损伤的铜化学机械抛光液，由磨料、络合剂、成膜剂、分散剂、氧化剂及纯水组成，各原料的质量百分比为：磨料０．１％～２０％、络合剂０．１％～２％、成膜剂０．０１％～２％、分散剂０．１％～３％、氧化剂０．０１％～１０％...

本发明公开一种即可均匀彻底去除污垢，又不会对铝、铜及不锈钢等零部件产生强腐蚀；省时省力、成本低、安全可靠、无污染的空调整机清洗剂及清洗方法。清洗剂所含原料是柠檬酸、无机弱酸、无机强酸中的至少两种，非离子表面活性剂或非离子表面活性剂与阴离...

本发明公开一种半导体硅片化学机械抛光用清洗液，其特征在于含有的原料及重量百分比如下：有机碱５％～２０％、表面活性剂０．１％～１％、渗透剂２％～５％、螯合剂０．１％～１％、光亮剂０．０１％～０．１％、水余量。本发明原料来源广泛，制备方法简...

本发明公开一种制备方法简单、成本低、对环境无污染且可满足直径为３００ｍｍ晶圆研磨清洗要求的晶圆研磨用清洗剂。所用原料及重量百分比是表面活性剂５％～２０％，含氟羧酸０．１％～１０％，氟化物盐０．０１～５％、ｐＨ调节剂５％～２０％，渗透剂２...

本发明提供一种制备方法简单、成本低、对环境无污染且可满足线宽尺寸９０ｎｍ甚至更小的晶圆抛光清洗要求的晶圆抛光用清洗剂。原料及重量配比是表面活性剂５％～１５％、有机碱０．０１％～１０％、ｐＨ调节剂５％～２０％、渗透剂２％～５％、螯合剂０．...

本发明公开一种制备方法简单、对衬底材料及金属配线腐蚀率低、对环境无污染的用以去除经干蚀、灰化工艺后光刻胶残留物的清洗剂。清洗剂原料及重量百分比如下：表面活性剂１％～１５％，氟化铵盐０．０１％～５％，有机磺酸５％～２０％，有机溶剂５％～２...

本发明公开一种制备方法简单、成本低、对衬底材料及金属配线腐蚀率低、对环境无污染的光刻胶灰化残留物清洗剂。其原料及重量百分比如下：表面活性剂１％～１５％、有机胺５％～４０％、有机溶剂５％～３０％、螯合剂０．１％～５％、缓蚀剂０．０１％～５...

一种乳胶手套陶瓷手模清洗剂，其特征在于含有原料及重量百分比如下：　　　　氢氧化钾　　０．５～２０％　　　　乙二胺四羧酸盐或氮川三乙酸盐　　０．５～５０％　　　　脂肪醇聚氧乙烯醚（９）　　０．１～５％　　　　脂肪醇聚氧乙烯醚（３）硫酸盐　...

本发明公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下：有机酸５％～２０％、表面活性剂２％～１０％、渗透剂１％～１０％、螯合剂０．１％～５％、去离子水余量。本发明原料来源广泛，制备方法简单、成本低，对环境无污染，各组分...