计算机硬盘基板研磨用清洗液制造技术

本发明专利技术公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下：有机酸５％～２０％、表面活性剂２％～１０％、渗透剂１％～１０％、螯合剂０．１％～５％、去离子水余量。本发明专利技术原料来源广泛，制备方法简单、成本低，对环境无污染，各组分协同作用，可彻底清洗污染物，完全能够替代现有成本高、污染严重的清洗液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洗液，尤其是一种制备方法简单、成本低、对环境污染 小且可彻底清洗污染物的计算机硬盘基板研磨用清洗液及清洗方法。
技术介绍
计算机系统中的磁记忆存储器主要由两个基本单元组成，即磁头和硬信息 盘(硬盘)。硬盘则是由基板和基板上的铬底膜、钴基合金磁性介质膜、保护膜 和润滑层等几种涂层组成，其中基板的主要材料为表面镀磷化镍的铝盘(NiP/Al 盘)。计算机硬盘在加工过程中需要对基板研磨，研磨工艺后还要对基板进行清 洗，其目的是清除基板表面残留的基板材料及研磨液等污染物，否则所存在的 污染物将影响硬盘的成品率、优良率以及可靠性。然而，由于研磨后的硬盘基 板表面处于活性状态，极易吸附金属颗粒、有机杂质、无机盐杂质及金属离子 等污染物，要除去这些污染物，就需要具有高度清洗能力的清洗剂。随着我国计算机产业和微电子加工业的飞速发展，硬盘清洗剂的需求也不 断扩大，但目前我国所采用的清洗剂全部依赖国外进口，价格居高不下，据统计，仅2007年我国对硬盘清洗剂的需求就有50亿元之多，严重制约了我国计算机产业的发展。因此，开发计算机硬盘清洗剂对推动我国经济发展具有重要的 社会效益和经济意本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下：　　　　有机酸　　５％～２０％　　　　表面活性剂　　２％～１０％　　　　渗透剂　　１％～１０％　　　　螯合剂　　０．１％～５％　　　　去离子水　　余量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：侯军，
申请(专利权)人：大连三达奥克化学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：91[中国|大连]