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本发明公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液,其特征在于原料及重量百分比如下:有机酸5%~20%、表面活性剂2%~10%、渗透剂1%~10%、螯合剂0.1%~5%、去离子水余量。本发明原料来源广泛,制备方法简单、成本低,对环境无污染,各组分协同...该专利属于大连三达奥克化学股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过大连三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液,其特征在于原料及重量百分比如下:有机酸5%~20%、表面活性剂2%~10%、渗透剂1%~10%、螯合剂0.1%~5%、去离子水余量。本发明原料来源广泛,制备方法简单、成本低,对环境无污染,各组分协同...