本发明公开了一种对渐变图元对象进行陷印处理的方法及装置，以解决现有技术中对渐变图元对象进行陷印处理的准确性较差的问题。该方法包括：将渐变图元对象与其他图元对象相交形成的相交路径划分为多条折线段；为所述渐变图元对象生成三角形网格，并确定出...

本发明公开了一种对小样文件的处理方法及装置，用于解决从小样文件中提取信息不方便的问题。主要技术方案包括：确定待处理小样文件对应排版文件中每页内容对应的不同属性对象在所述小样文件中的位置信息以及所述每页内容对应的页码；根据确定的所述位置信...

本发明公开了一种支持在线以及离线文档编辑的客户端装置及方法。该文档编辑方法包括：通过客户端装置下载服务端的文档内容以及文档状态信息；在服务端标记该文档为锁定状态以禁止他人对文档内容进行修改；对文档内容进行编辑；以及提交经编辑后的文档内容...

本发明公开了一种确定光刻机之间套刻精度匹配的方法及系统，用以解决配备的套刻精度测量设备无法对光刻机之间的套刻精度进行分析确定的问题。该方法当第一光刻机对硅片进行第一层曝光，根据第一层曝光后的硅片上每对测量区域内基准点之间的坐标差，移动第...

本发明公开了一种物理气相沉积设备备件清洗方法，对铝腔备件使用含有磷酸和去离子水的混合溶液去除铝膜层，然后使用硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液浸泡并冲洗或者喷砂的方式进行后处理，对钛腔备件使用含有双氧水和氢氧化铵混合溶液去除钛膜层，然后使...

本发明公开了一种检索结果三段式有序收集方法及系统，属于检索技术领域。现有收集方式当检索结果较多时需要占用大量的内存空间，而且排序性能低。本发明所述方法及系统首先根据检索请求进行检索并获得检索结果；然后根据预先确定的头段、尾段和中间段的容...

本发明公开了一种印刷电路板及其制作方法，涉及印刷电路板及其制造领域。为消除电路板本身热应力效应而发明。所述印刷电路板，包括至少一层印刷电路层和至少一层绝缘层，每层印刷电路层和绝缘层均包括连接片、折断边和位于折断边内部的至少一个外型区，折...

本发明公开了一种清洗半导体中的聚合物的方法，属于半导体制作领域，为解决目前在半导体制作过程中清洗聚合物时，铝片上产生白色痕迹现象而发明。所述方法包括：将残留有聚合物的半导体放入冲洗槽中，由所述冲洗槽底部向上喷水，直到溢水，使得所述水持续...

本发明属于计算机信息处理技术，具体涉及一种古琴减字谱字符输入的计算机处理方法。该方法实现了古琴减字谱字符的输入、编辑、排版等处理，结合古琴减字谱字符自身的特点，将其各组成部分左手指法、右手指法、徽分、弦序等各类指法的读音序列作为一个单独...

本发明涉及一种文字的笔画拆分排版方法及系统，属于排版技术领域。现有技术中，对文字笔画的排版一般都是通过把文字转成曲线后进行编辑的方式，文字有多少画就得需要手动的把文字转曲多少次、编辑多少次，效率低下、且后期制作、维护麻烦。本发明所述的方...

本发明公开了一种用于可以将程序界面提示框与公式输入法映射字符串相互对应的方法和系统，属于排版技术领域。在交互式的公式排版软件中使用公式输入法，由于公式分类比较多，各人对公式的命名又不统一，使得公式输入法的学习变得很困难。本发明所述方法对...

本发明公开了一种通过公式输入法输入公式编辑命令的方法和系统，属于排版技术领域。目前，在交互式的公式排版软件中需要对公式输入很多编辑命令，通常这些编辑命令的操作需要使用鼠标点击版面上的按钮或者通过鼠标的右键实现，从而使得排版效率降低。本发...

本发明公开了一种通过公式输入法输入公式模板的方法及系统，属于印刷排版技术领域。在交互式公式排版软件中，通常会在程序中预设一些出厂时已经编辑好的公式模板供用户调用，并且提供用户添加、修改自定义模板的方法，供用户之后进行调用。但由于在调用公...

本发明公开了一种错字输入方法及系统，属于计算机文字输入技术领域。现有技术中错字输入的效率和效果较差。本发明首先构建错字字库；然后建立错字字库中每个错字与正确字之间的对应关系，存入错字与正确字对应关系文件中；在输入正确字时，查找错字与正确...

本发明公开了一种基于压缩方式构造节省油墨字库的方法及系统，属于文字信息处理技术领域。现有节省印刷油墨字库的数据量较大。本发明所述方法及系统将白点的定义数据存储在现有轮廓字库的公共数据区中；在现有轮廓字库的每个轮廓字形数据中，添加用于在轮...

本发明公开了一种索引库的建立方法、检索方法和索引库的更新方法，其中，该索引库的建立方法包括：在索引库中为每一个资源单元建立一个权限索引字段，其中，一个权限索引字段由多个权限信息构成。根据本发明，使用了包括了多个权限信息的权限索引字段来对...

本发明公开了一种电路板绝缘层厚度的控制方法及系统，其中方法包括：在电路板上除电路之外的区域中确定多个需要测量绝缘层厚度的位置；在确定出的位置钻孔；通过测量钻孔的深度确定该位置绝缘层的厚度；根据确定出的厚度及绝缘层所需达到的厚度，对绝缘层...

本发明公开了一种半圆型细线路制作方法，包括：对已增加涂覆层的电路板进行曝光显影；对经曝光显影后从所述涂覆层中显示出来的部分进行蚀刻；褪去经曝光显影后未显示出来的区域上的涂覆层，对褪去涂覆层后生成的细线路进行微蚀操作，生成半圆型细线路。本...

本发明公开了一种PETEOS沉积设备清洗方法，包括：向PETEOS沉积设备的各反应腔中通入C2F6和O2作为清洗气体，施加射频交流电，对各反应腔依次进行近距离清洗和远距离清洗，通入的C2F6气体流量为380～420scc；O2的气体流量...

本发明公开了一种IGBT芯片制造方法：在对硅衬底中已研磨或抛光的正面进行半导体杂质注入或扩散操作，在背面研磨或抛光后的硅衬底的背面增加电阻率不高于预设电阻率值的衬底支撑片或支撑层；对背面增加有衬底支撑片或支持层的硅衬底的正面进行腐蚀处理...