巴斯夫欧洲公司专利技术

巴斯夫欧洲公司共有8980项专利

  • 包含叶黄素或叶黄素酯的微胶囊
    本发明涉及微胶囊,其包含至少一种选自叶黄素和叶黄素酯的活性物质,所述叶黄素和叶黄素酯被包埋在包含鱼明胶和任选的一种或多种其它基质组分的基质中,其中计算为游离叶黄素的所述至少一种活性物质的含量为微胶囊总重量的0.5‑25%,并且该微胶囊不...
  • 本发明涉及式(I)和(IA)的化合物,其中X为‑O(CO)‑;R1为C1‑C12卤代烷基或C6‑C10卤代芳基;R2位于香豆素基环的7位且为OR8;R2a、R2b和R2c彼此独立地为氢;R3为C1‑C8卤代烷基或C1‑C8卤代烷基;R4...
  • 用于光诱导交联聚合物线材的单叠氮化合物
    本发明涉及单叠氮化合物用于交联聚合物线材的用途,其中所述单叠氮化合物具有式(I)的结构,其中Q1和Q2各自独立地是卤素,和其中R1、R2和R3各自独立地是不含叠氮基结构部分的任何残基。另外,本发明涉及一种交联聚合物线材的方法,和涉及可从...
  • 本发明涉及在阴离子催化剂和己内酰胺封端的多异氰酸酯的存在下通过内酰胺的阴离子聚合制备聚酰胺、优选交联聚酰胺的方法,其中所述异氰酸酯包含超过3.5个封端的异氰酸酯基团。
  • 本发明涉及模塑组合物,其包含(A)29重量%至89重量%的至少一种聚亚芳基醚砜,所述聚亚芳基醚砜每条链具有的酚端基的平均数为0至0.2,(B)0.5重量%至20重量%的热致性聚合物,(C)0.5重量%至10重量%的主要含有OH端基的聚亚...
  • 本发明涉及邻氨基苯甲酰胺化合物及其立体异构体、盐、互变异构体和N-氧化物以及包含其的组合物。本发明还涉及邻氨基苯甲酰胺化合物或包含该化合物的组合物在防除无脊椎动物害虫中的用途。此外,本发明涉及施用该化合物的方法。
  • 提供了一种制造半导体器件的方法,其包括在化学机械抛光(CMP)组合物存在下化学机械抛光硼磷硅酸盐玻璃(BPSG)材料,所述组合物包含:(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物,(B)至少一种作为分散剂或电荷反转剂的阴离子磷酸盐或膦酸盐...
  • 磁热级联和制造磁热级联的方法
    本发明涉及一种包含具有不同居里温度TC的磁热材料层序列的磁热级联,其中:‑磁热材料层包括冷侧外层、热侧外层以及介于冷侧外层与热侧外层之间的至少三个内层,‑对于磁热级联的每个下一相邻磁热材料层对,存在相应的交叉温度,在该交叉温度下,两个相...
  • 磁热级联和制造磁热级联的方法
    本发明涉及一种磁热级联,其包含具有不同居里温度TC的磁热材料层的序列,其中:‑磁热材料层包括冷侧外层、热侧外层以及介于冷侧外层与热侧外层之间的至少三个内层,且磁热级联的每个下一相邻磁热层对在其各自的居里温度之间具有各自的居里温度差量ΔT...
  • IR反射膜
    本发明涉及半透明或透明膜或片,其包含覆盖有介电高折射率材料层(4)的基底(1),所述介电高折射率材料层(4)包含嵌入所述材料中的薄金属层(3),和覆盖所述介电高折射率材料层(4)的另一半透明或透明材料层(5),所述嵌入金属层(3)周期性...
  • 测定水性介质中聚丙烯酸浓度的方法
    本发明涉及一种测定水性介质(AM)中聚丙烯酸(PAA)浓度(C)的方法,其中所述测定在染料(I)的存在下光度进行。此外,本发明涉及一种测定水性介质(AM)中的聚丙烯酸(PAA)的浓度(C)的方法,其中使用至少两种不同的波长测量至少两个不...
  • 本发明涉及一种从混合物中去除放射性元素的方法,所述混合物用至少一种链烷磺酸和至少一种其它酸处理,以及至少一种链烷磺酸和至少一种其它酸用于从包含放射性元素的混合物中去除放射性元素的用途。
  • 润滑剂组合物中的烷氧基化酰胺、酯和抗磨剂
    本公开提供包括烷氧基化酰胺、酯和含磷、钼或其组合的抗磨剂的用于润滑剂组合物的添加剂包。本公开还提供包括基础油、所述烷氧基化酰胺、所述酯和所述含磷、钼或其组合的抗磨剂的润滑剂组合物。本公开还提供用于改进燃料经济性的润滑内燃机的方法。
  • 本公开涉及具有改进的与含氟聚合物密封件的相容性的润滑剂组合物。该润滑剂组合物包括基础油和磺酸酯。本公开还涉及润滑剂组合物的添加剂套装,其提供改进的与含氟聚合物密封件的相容性。该添加剂套装包括磺酸酯。本公开还涉及改进润滑剂组合物与安置在内...
  • 包含至少一个式(1)的单元的聚合物及其作为半导体材料的用途。
  • 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
    本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途,其中该CMP组合物(Q)包含:(A)无机颗粒,(B)作为腐蚀抑制剂的具有至少一个羧酸官能团的经取代芳族化合物,(C)至少一种...
  • 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
    本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途,其中该CMP组合物(Q)包含:(A)无机颗粒,(B)具有通式(I)的三嗪衍生物,其中R
  • 化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途
    本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途,其中该CMP组合物(Q)包含:(A)无机颗粒,(B)具有通式(I)的经取代四唑衍生物,其中R
  • 经磷酸酯改性的丙烯酸多元醇
    本发明提供一种组合物,其包括经聚磷酸改性的丙烯酸多元醇,其中所述经聚磷酸改性的丙烯酸多元醇具有大于零但小于1.0wt%的聚磷酸改性剂。
  • 本发明涉及一种涂料组合物,包含:一种或多种根据下式(I)的化合物(A),其中R1、R2和R3各自独立地选自‑OR4,其中R4独立地为氢或任选含有杂原子的C1‑C24烃基;或任选含有杂原子的C1‑C24烃基;n为2、3、4或5;o为2、3...