用于光诱导交联聚合物线材的单叠氮化合物制造技术

本发明专利技术涉及单叠氮化合物用于交联聚合物线材的用途，其中所述单叠氮化合物具有式(I)的结构，其中Q1和Q2各自独立地是卤素，和其中R1、R2和R3各自独立地是不含叠氮基结构部分的任何残基。另外，本发明专利技术涉及一种交联聚合物线材的方法，和涉及可从所述方法得到的交联的聚合物组合物以及包含这种组合物的电子装置。

Single azide compounds for photoinduced crosslinking of polymer wires

The invention relates to a single azide use for crosslinked polymer wire, wherein the single azide has type (I) structure, wherein Q1 and Q2 independently and halogen, wherein R1, R2 and R3 independently of any residues containing azido moieties. Further, the present invention relates to a method for crosslinking polymer wires, and to a crosslinked polymer composition obtained from the method and to an electronic device comprising such a composition.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】描述本专利技术涉及单叠氮化合物用于光诱导交联聚合物线材的用途，其中所述单叠氮化合物具有式(I)的结构：其中Q1和Q2各自独立地是卤素，和其中R1、R2和R3各自独立地是不含叠氮基结构部分的任何残基。另外，本专利技术涉及一种交联聚合物线材的方法，和涉及可从所述方法得到的交联的聚合物组合物以及包含这种组合物的电子装置。目前，聚合物的有效交联在许多应用中起到重要作用。特别是当制造电子装置时，通常需要聚合物的选择性交联。另外，制造电子装置经常另外包括多种层例如电极、半导体层、介电层和/或阻隔层的结构化(也称为图案化)。用于装置中的层的结构化的方便策略是通过溶液加工制备这些层。在这里，一种或多种聚合物通常溶解在合适的溶剂中，并且在装置部件的表面上形成所得溶液的层。这可以例如通过旋涂、喷涂和/或印刷进行。然后，蒸发溶剂并干燥聚合物层。这些方法的缺点是用于溶解一种或多种聚合物的溶剂也可以影响与之接触的装置部件(通常由聚合物组成)的表面。这可以通过选择能特定溶解具体聚合物、但不会影响装置部件的正交溶剂来防止。但是这限制了许多常规溶剂的可用性，并阻止制备包含相同类型聚合物的两个相邻层。克服此问题的合适策本文档来自技高网...

【技术保护点】
单叠氮化合物用于光诱导交联聚合物线材的用途，其中所述单叠氮化合物具有式(I)的结构：其中Q1和Q2各自独立地是卤素，和其中R1、R2和R3各自独立地是不含叠氮基结构部分的任何残基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.24 EP 14194512.11.单叠氮化合物用于光诱导交联聚合物线材的用途，其中所述单叠氮化合物具有式(I)的结构：其中Q1和Q2各自独立地是卤素，和其中R1、R2和R3各自独立地是不含叠氮基结构部分的任何残基。2.根据权利要求1的用途，其中Q1和Q2都是F。3.根据权利要求1或2的用途，其中R1、R2和R3各自是吸电子基团和/或水溶性基团，优选其中R1、R2和R3各自独立地选自卤素，-CN，-CO-O-Ra，-CO-Ra，氢，-Ra，-O-CO-Ra，-NO2，-N+RaRbRa+X-，-Rd-O-CO-Ra，-Rd-CO-O-Ra，-NRb-CO-Ra，-Rd-NRb-CO-Ra，-CO-NRb-Ra，-Rd-CO-NRb-Ra，-NRaRb，-Rd-NRaRb，-SiRaRbRc，-Rd-SiRaRbRc，-O-Ra，-Rd-O-Ra，-CO-Ra，-Rd-CO-Ra，-O-CO-O-Ra，-Rd-O-CO-O-Ra，-NRb-CO-O-Ra，-Rd-NRb-CO-O-Ra，-O-CO-NRb-Ra，-Rd-O-CO-NRb-Ra，-NRb-CO-NRc-Ra，-Rd-NRb-CO-NRc-Ra，-O-CS-Ra，-Rd-O-CS-Ra，-CS-O-Ra，-Rd-CS-O-Ra，-S-CO-Ra，-Rd-S-CO-Ra，-CO-S-Ra，-Rd-CO-S-Ra，-NRb-CS-Ra，-Rd-NRb-CS-Ra，-CS-NRb-Ra，-Rd-CS-NRb-Ra，-S-Ra，-Rd-S-Ra，-CS-Ra，-Rd-CS-Ra，-O-CS-O-Ra，-Rd-O-CS-O-Ra，-S-CO-O-Ra，-Rd-S-CO-O-Ra，-O-CO-S-Ra，-Rd-O-CO-S-Ra，-S-CO-S-Ra，-Rd-S-CO-S-Ra，-NRb-CS-O-Ra，-NRb-CO-S-Ra，-Rd-NRb-CS-O-Ra，-Rd-NRb-CO-S-Ra，-S-CO-NRb-Ra，-O-CS-NRb-Ra，-Rd-O-CS-NRb-Ra，-Rd-S-CO-NRb-Ra，-NRb-CS-NRc-Ra，-Rd-NRb-CS-NRc-Ra，-SO-Ra，-Rd-SO-Ra，-SO2-Ra，-SO2-O-Ra，-Rd-SO2-O-Ra，和-Rd-SO2-Ra，特别是其中R1、R2和R3各自独立地选自卤素，-CN，-CO-O-CH3，-CO-CH3，-CF3，-O-CF3，-NO2，-N+RaRbRa+X-，和氢，其中Ra、Rb和Rc各自独立地选自氢，卤素，或者未取代或取代的选自以下的具有不超过20个碳原子的残基：烷基，链烯基，炔基，杂烷基，杂链烯基，杂炔基，芳基，烷芳基，芳基烷基，杂芳基，杂芳基烷基，和杂烷芳基，其中Rd是具有不超过20个碳原子的二价残基，优选未取代或取代的选自以下的残基：亚烷基，亚链烯基，亚炔基，亚杂烷基，亚杂链烯基，亚杂炔基，亚芳基，亚烷芳基，亚芳基烷基，亚杂芳基，亚杂芳基烷基，和亚杂烷芳基，和其中X-是抗衡离子。4.根据权利要求1-3中任一项的用途，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·吴，F·G·布鲁内提，S·贝克尔，M·海格斯伯格，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE