潜酸及其用途制造技术

本发明专利技术涉及式(I)和(IA)的化合物，其中X为‑O(CO)‑；R1为C1‑C12卤代烷基或C6‑C10卤代芳基；R2位于香豆素基环的7位且为OR8；R2a、R2b和R2c彼此独立地为氢；R3为C1‑C8卤代烷基或C1‑C8卤代烷基；R4为氢；且R8为C1‑C6烷基；其适合作为制备光致抗蚀剂组合物(例如用于例如制备间隔件、隔离层、层间介电膜、绝缘层、平坦化层、保护层、外涂层、电致发光显示器和液晶显示器(LCD)的储存单元)中的光敏性酸供体。

Latent acid and use thereof

The present invention relates to type (I) and (IA) compounds, including X O (CO); R1 C1 C12 C6 C10 halogenated alkyl or aryl halide; R2 is located in the coumarin ring position 7 and OR8; R2a, R2b and R2c are independently hydrogen; R3 C1 C8 halogenated alkyl halides C8 or C1 base; R4 is hydrogen; and R8 C1 C6 alkyl; which is suitable for use as a preparation of photoresist composition (for example, for example the preparation of spacers, isolation layer, interlayer dielectric film, an insulating layer, a planarization layer the protective layer, the outer coating, electroluminescent display and liquid crystal display (LCD) storage unit) photosensitive acid donor.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及具有特定杂芳基发色团的新的肟衍生物、包含所述化合物的化学增幅型(chemicallyamplified)光致抗蚀剂组合物和所述化合物作为潜酸在碱溶性树脂组合物中，尤其是用于显示器应用(例如绝缘层、液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED))的光致抗蚀剂配制剂中的用途。LCD器件、OLED器件等安装有图案化层间绝缘膜。在形成该层间绝缘膜中，广泛使用光敏性树脂组合物，这是因为获得图案形状所需的步骤数少，且此外其产生足够的平坦性。除固化膜物理特性如良好绝缘性、耐溶剂性、耐热性、硬度和氧化铟锡(ITO)溅镀适用性以外，显示设备中的层间绝缘膜仍需要具有高透明度。LCD和OLED的背板中用于保持层间绝缘特征的绝缘层通过光刻通过使用包含碱溶性光致抗蚀剂、产生潜酸的化学增幅型催化剂和溶剂的正型或负型光致抗蚀剂制造。钝化层中的接触包(contacthall)通过曝光经由图案化掩模图案化且例如在约230℃下烘烤。对于绝缘层，要求透明性、热稳定性、粘附性、残余膜速率和储存稳定性。LCD和OLED的平坦化层用于在彩色滤光片(CF)或电极上形成平坦表面。作为平坦化层的基底材料，通常使用丙烯酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式(I)化合物，其中X为‑O(CO)‑；R1为C1‑C12卤代烷基或C6‑C10卤代芳基；R2位于香豆素基环的7位且为OR8；R2a、R2b和R2c彼此独立地为氢；R3为C1‑C8卤代烷基或C1‑C8烷基；R4为氢；和R8为C1‑C6烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.02 EP 15153404.71.一种式(I)化合物，其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素基环的7位且为OR8；R2a、R2b和R2c彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8烷基；R4为氢；和R8为C1-C6烷基。2.根据权利要求1的式(I)化合物，其具有式(IA)，其中R1、R2和R3具有如权利要求1中所列的定义。3.根据权利要求2的式(IA)化合物，其中R1为C1-C4卤代烷基，尤其是CF3；R2为OR8；R3为C1-C4卤代烷基或C1-C4烷基，尤其是CH3或CF3；和R8为C1-C4烷基，尤其是甲基。4.一种式(IA)化合物，其为5.一种化学增幅型光敏性树脂组合物，包含(a)在酸作用后固化的化合物，或其溶解性在酸作用后提高的化合物；和(b)作为光敏性酸供体的至少一种根据权利要求1的式I化合物或至少一种根据权利要求2的式IA化合物。6.根据权利要求5的化学增幅型光敏性树脂组合物，其为正型。7.根据权利要求6的化学增幅型正型光敏性树脂组合物，其包含(a1)至少一种具有酸不稳定基团的聚合物，该酸不稳定基团在酸存在下分解以提高于碱性显影剂水溶液中的溶解性；和/或(a2)至少一种具有酸不稳定基团的单体或低聚溶解抑制剂，该酸不稳定基团在酸存在下分解以提高于碱性显影剂水溶液中的溶解性；和/或(a3)至少一种碱溶性单体、低聚或聚合化合物；和(b)作为光敏性酸供体的至少一种根据权利要求1的式I化合物或至少一种根据权利要求2的式IA化合物。8.根据权利要求5的化学增幅型光敏性树脂组合物，其为负型。9.根据权利要求8的化学增幅型负型光敏性树脂组合物，其包含(a4)作为粘合剂的碱溶性树脂；和/或(a6)作为粘合剂的溶剂可显影树脂；和/或(a5)可用阳离子方式或酸催化方式自身和/或与其他组分聚合或交联的组分；和(b)作为光敏性酸供体的至少一种根据权利要求1的式I化合物或至少一种根据权利要求2的式(IA)化合物。10.根据权利要求5-9中任一项的光敏性树脂组合物，其除组分(a)和(b)或组分(a1)、(a2)、(a3)、(a4)、(a5)、(a6)和(b)以外，还包含其他添加剂(c)、其他光敏性酸供体化合物(b1)、其他光引发剂(d)和/或敏化剂(e)。11.一种制备涂层的方法，包括以下步骤：(1)将根据权利要求5-10的组合物施用于基材；(2)在60℃至140℃的温度下施用后烘烤该组合物；(3)用200nm至450nm的波长的光进行成图象辐照；(4)任选地在60℃至140℃的温度下暴露后烘烤该组合物；和(5)用溶剂或用碱性显影剂水溶液来显影；...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中庆太，由己裕征，国本和彦，朝仓敏景，仓久敏，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE