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AZ电子材料日本株式会社专利技术
AZ电子材料日本株式会社共有118项专利
光敏树脂组合物的粘合促进剂和包含它的光敏树脂组合物制造技术
一种粘合促进剂,包含下述通式(1)-(5)表示的磺酰基取代的氮化合物或下述通式(6)-(8)表示的噻重氮化合物,一种包含碱溶性树脂和光敏剂的光敏树脂组合物,包含该粘合促进剂。
光敏树脂组合物制造技术
一种含有碱溶性树脂、具有醌二叠氮基的光敏剂和固化剂的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂是丙烯酸树脂,所述具有醌二叠氮基的光敏剂是由上述通式(Ⅰ)表示的化合物与萘醌二叠氮化合物的反应产物,所述固化剂含有环氧基,和一种具有由所述光敏树脂组...
光敏树脂组合物制造技术
本发明涉及一种包含碱溶性树脂、具有醌二叠氮基的光敏剂以及固化剂的光敏树脂组合物,该碱溶性树脂是丙烯酸树脂,该固化剂是含有环氧基团的固化剂,该光敏树脂组合物进一步包含羧酸,并且涉及具有由该光敏树脂组合物形成的平面化膜或者层间介电膜的平板显...
用于光敏组合物的显影液和形成图案化抗蚀膜的方法技术
本发明提供了一种显影液,它能以简便方式显影光敏组合物,同时保持令人满意的感光度和分辨率,还提供了一种使用所述显影液形成图案的方法。这种显影液包含一种含选自由胺-N-氧化物基、磺酸根、硫酸根、羧酸根和磷酸根组成的组中的亲水基的化合物,它特...
厚膜或超厚膜响应的化学放大型光敏树脂组合物制造技术
在诸如形成磁头的磁极或形成突块之类要求形成厚抗蚀图案膜的光敏树脂组合物中,提供一种适合用于形成厚膜和超厚膜的化学放大光敏树脂组合物,它具有高灵敏度、高膜残余性能、良好涂敷性能、高分辨率和良好图案形状,并且它能给出耐热性优良的图案。一种化...
适用于无旋、缝模涂敷法的光敏性树脂组合物制造技术
本发明提供一种适用于无旋、缝模涂敷法的涂敷膜厚均匀性高的光敏性树脂组合物。光敏性树脂组合物,其特征在于包括碱可溶性酚醛树脂、感光剂、和脂肪酸与低级醇的酯,以及采用该组合物制造抗蚀剂基板的方法,以及由此制得的抗蚀剂基板。
使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法技术
本发明公开一种在衬底上形成图像的方法,其包括以下步骤:(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物;(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上;(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光;和(d)将得自步骤(c...
光致抗蚀剂组合物、其涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法技术
本发明提供涂布时不形成条斑等的LCD-TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂组合物的涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法。排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物含有:(A)碱可溶性树脂、(B)感光剂、以及(C)由含以通式(1)...
光敏性树脂组合物、耐热性薄膜的形成方法以及具有该薄膜的平板显示器和半导体装置制造方法及图纸
本发明涉及一种光敏性树脂组合物,其具有抑制膜表面白化、抑制膜剩余率下降两方面功能,该光敏性树脂组合物包含碱可溶性树脂、具有醌二叠氮基的感光剂以及固化剂,碱可溶性树脂为丙烯酸类树脂,固化剂是含环氧基的固化剂,并且该光敏性树脂组合物进一步含...
具有控制散射/透射特征的光学膜制造技术
一种光学膜,其是一种由一光散射膜和一反射偏光镜组成的层叠产品,所述光散射膜能够散射和透射光,由相互间具有不同折射率的至少两相或更多相构成,通过所述反射偏光镜,光被选择性地P/S转化。在光散射膜中折射率较大的至少一相具有在膜的厚度方向上延...
具有受控的散射特性的光扩散膜、光学元件以及采用该元件的液晶显示装置制造方法及图纸
一种光扩散膜,具有选择性光扩散性和光会聚能力,从而提供一种比现有技术中更亮的图像,该光扩散膜由两种不同折射率的用于散射/透射光的相组成,其特征在于具有较大折射率的相包括大量具有在膜厚度方向延伸的柱状结构的区域,每个柱状结构区域包括一个长...
面光源装置制造方法及图纸
面光源装置包括:单个点光源构成的发光单元(11),光导板(12),形成在光导板背面的反射面(13),和棱镜图形(15)。在光导板(12)的发光面一侧,形成由至少两种折射率构成的定向光散射膜(14),并在光透射时发生散射。较大折射率的一个...
面光源装置制造方法及图纸
面光源装置包括:单个点光源构成的发光单元(11)和光导板(12),其中反射面(13)是在光导板的背面,并且还有棱镜图形(15)。定向光漫射膜(14)至少是由两个不同折射率的光散射/透射物相构成,其中有较高折射率的一个物相包含大量柱状结构...
涂敷组合物制造技术
一种具有良好储存稳定性并能形成优良保护薄膜的涂敷组合物,该组合物包含有至少一个羧基聚合物,一个具有一个或更多苯环或杂环的及具有两个或更多环氧基的多官能化合物,一个反应促进剂以及一个溶剂。
具有低介电常数的多孔硅质膜和半导体装置及涂料组合物制造方法及图纸
一种多孔硅质膜,该膜稳定地显示低介电常数且机械强度和各种耐化学品性能均优异,可以承受CMP和其它集成电路的最新制造工艺并因此适用于中间层介电膜。此膜可通过烧制组合物的涂层而形成膜特征为相对介电常数小于2.5,该组合物包括聚烷基硅氮烷和聚...
含硅共聚物的制造方法技术
以式(I)和(II)为必要结构单元,以(III)~(VII)为选择性结构单元的、数均分子量为500~1,000,000的含硅共聚物。(其中A为NH或O,其比例具有Si-O/(Si-N+Si-O)=0.01~0.99的关系。)
用于存储和运输液体化学品的容器制造技术
本发明提供了一用于运输和/或存储液体化学品并绝热的容器。该液体化学品容器特征在于具有外圆筒和内圆筒的双层结构,其中通过外圆筒和内圆筒限定一空腔,该空腔基本是真空的或填装进绝热材料。该液体化学品容器可进一步包括一温度控制器,比如,一珀耳帖...
正性作用可光成像底部抗反射涂层制造技术
本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物,该组合物包含光酸产生剂和聚合物,该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及...
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