本发明涉及一种用于高速制造均一的涂敷膜的涂敷方法以及提供利用该方法的半导体元件。一种将涂层组合物通过窄缝涂层法涂敷在基板上的涂敷方法，其特征在于使在３０～１００℃范围内维持一定温度的涂层组合物接触到基板上而进行涂敷。一种根据上述方法制造...

由含光酸产生剂的聚倍半硅氮烷光敏组合物形成的图案的尺寸变化得到防止。本发明所述光敏组合物的特征在于它包括：一种改性聚倍半硅氮烷，重均分子量为５００－２００，０００，含有由通式－［ＳｉＲ↑［１］（ＮＲ↑［２］）↓［１．５］］－表示的基本结...

本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及...

制备一种抗蚀剂组合物，它包括在一种非质子传递溶剂例如乙酸丙二醇单甲基醚酯中，在一种酸催化剂存在的条件下，将具有酚羟基或羧基基团的碱溶性聚合物与乙烯基醚化合物反应，通过加入一种碱停止反应，和直接在反应溶液中加入一种光敏酸发生剂。当使用一种...

本发明涉及一种表现出对１００～４５０ｎｍ波长光线良好吸光性的抗反射涂层或吸光涂层组合物，该组合物没有沉淀和掺混，并且具有显著的储藏稳定性和步进覆盖度；本发明还涉及用于这种组合物的共聚物。所说的共聚物是丙烯酸或甲基丙烯酸共聚物，其主链具有...

一种形成具有高分辨率和高精确度的蚀刻图形的方法，该方法防止在有机抗反射膜和光敏感材料膜之间的界面中形成反应产物，并在蚀刻后减少了已蚀刻膜的残余物。在半导体基质１０上形成由多晶硅组成的可蚀刻膜１１，有机抗反射膜１２，和由化学放大抗蚀剂制成...

本发明公开了一种化学增强的抗蚀剂组合物，其显示出高敏感性、高分辨率、优异的加工适应性和优异的加工稳定性，其可形成优良的图案轮廓，适用于作为在生产集成电路元件中进行精细加工的材料。这种化学增强的抗蚀剂组合物包含至少（ａ）一种含有在酸存在下...

＊＊＊ 一种光敏树脂组合物，它具有高的敏感性和高的分辨性，能形成具有高的图形宽高比和形状好的图形，具有良好的生产率，而且对尺寸精确性的依赖较小。该组合物包含有（ｉ）一种光敏酚醛清漆树脂，它通过分馏处理已除去低分子量组份的碱溶性酚醛...

本发明提供了一种辐射敏感性树脂组合物，其具有优异的、光刻胶需要的性质，如敏感性、图案形状和耐热性，并具有这些性质优良的平衡组合。所述组合物包含碱溶性树脂和具有醌二叠氮化物基团的光敏剂，其中，碱溶性树脂包含通过薄膜蒸馏法处理选择性除去单体...

一种聚合物，当同适宜的光酸生成剂（ＰＡＧ）使用时，生成正性光刻胶。该聚合物包括酒石酸聚酐的主链、缩醛保护的１，２－二醇基团和连接于主链的稠环缩醛侧基。缩醛保护的α－羟基酐主链进行有效的光酸催化的裂解生成小分子量片段，这些片段易溶于碱的含...

本发明涉及微电子领域，如集成电路，具体地说是涉及从用于集成电路生产的基质表面上除去光阻材料或其它有机材料的组合物和方法。特别地，本发明涉及含有溶液和表面活性剂的无胺剥离组合物，它可有效地除去有机材料而不会腐蚀其下的基质，而且，本发明还涉...

本发明涉及一个敏射线树脂组合物，该组合物包含有一个碱溶性树脂，一个敏射线物质和一个具有酚式羟基，并如下列公式１所示的其参数（Ｐ）是３０或以上的化合物，［公式１］：参数（Ｐ）＝［（１３．０×添加物中的羟基数）／（添加物中的苯环数）］＋［（...

本发明涉及一种新颖的防反射涂料组合物，其中该组合物包括共聚物、热酸产生剂和溶剂组合物。本发明进一步包括将该组合物用于光刻的方法。该组合物强有力地吸收约１３０ｎｍ至约２５０ｎｍ的辐射。

本发明披露了一种重氮盐与有机聚合物的偶合方法，顺序包括如下步骤：提供于一液相中的聚合物；提供于独立液相中的重氮盐；使两独立的相接触，由此使所述聚合物和所述重氮盐进行反应。

本发明涉及一种抗反射涂料组合物，包括以下物质的混合物：ａ）由以下结构（Ⅰ）定义的聚合物，其中Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］独立地为氢、或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］烷基，Ｒ↓［３］是甲基、乙基、丙基或丁基，Ｒ↓［４］－Ｒ↓［７］独立地为氢、或Ｃ↓［１...

本发明提供了一种正型感光聚硅氮烷组合物，其包含：一种改性的聚硅倍半氮烷，其数均分子量为１００－１００，０００，并且包含由下式表示的基本组成单元：－［ＳｉＲ↑［６］（ＮＲ↑［７］）↓［１．５］］－和由下式表示的其它组成单元：－［ＳｉＲ↑［...

一种化学放大的、副作用的、辐射敏感性光刻胶组合物，该组合物可在碱性介质中显影，该光刻胶包括：ａ）含有环键合羟基的酚类成膜聚合物粘合剂树脂；ｂ）在曝露于辐射时形成酸的光酸产生剂，数量足以引发成膜粘合剂树脂的交联；ｃ）在曝露于来自步骤ｂ）通...

本发明涉及一种化学放大体系，它对３００ｎｍ和１００ｎｍ之间的波长敏感，并包含ａ）一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物，ｂ）一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃，具有侧环状部分的丙烯酸酯，和环状酸...

本发明公开了生产酸敏液体组合物的方法。该方法包括以下步骤：让含有用式ＲＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ↑［１］表示的碳酸酯（其中Ｒ和Ｒ↑［１］独立是１到大约１０个碳原子的烃基）的酸敏液体组合物通过以下两种滤片的至少一种：（ａ）包括其中固定有颗粒助滤剂和...

本发明公开了一种感光树脂组合物，其包含碱溶性树脂和含醌二叠氮化物基团的光敏剂，碱溶性树脂是酚醛清漆树脂和至少一种选自下述的混合物：（ｉ）聚丙烯酸酯，（ｉｉ）聚甲基丙烯酸酯，（ｉｉｉ）聚苯乙烯衍生物和（ｉｖ）选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和苯...