AZ电子材料日本株式会社专利技术

AZ电子材料日本株式会社共有118项专利

  • 本发明涉及在深紫外区域敏感的新颖光刻胶组合物和加工光刻胶组合物的方法,其中光刻胶包括新颖的共聚物,光活性组分和溶剂。新颖的聚合物包括衍生自烯属不饱和化合物的单元和衍生自不饱和环状非芳族化合物的单元,该烯属不饱和化合物包含至少一个氰基官能度。
  • 本发明涉及新颖的聚合物,该聚合物包括至少一个衍生自烯属不饱和化合物的单元和至少一个非芳族环状单元,该化合物包含至少一个氰基官能度。当用于在深紫外区域中敏感的光刻胶组合物时,新颖聚合物是特别有用的。
  • 本发明涉及一种包含聚乙烯醇缩醛聚合物,水溶性光活性化合物,和交联剂的新型负性的水性光刻胶组合物。所述水溶性光活性化合物优选锍盐。本发明还涉及由该新型光刻胶组合物形成反像的方法。
  • 本发明涉及一种能在含水碱性溶液中显影并包含氟化聚合物、光活性化合物和交联剂的新型负性作用深紫外光刻胶。该光刻胶组合物特别可用于用193nm和157nm的曝光波长形成图案。
  • 本发明涉及新型负性作用、可光成像且可水性显影的抗反射涂料组合物和它们的通过在反射衬底和光刻胶涂层之间形成此新型抗反射涂料组合物的薄层而用在图像处理中的用途。该负性、底部、可光成像的抗反射涂料组合物能够在碱性显影剂中显影且其涂覆在负性光刻...
  • 本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物,其中,含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后,在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物,包括:...
  • 本发明公开一种在衬底上形成图像的方法,其包括以下步骤:(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物;(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上;(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光;和(d)将得自步骤(c...
  • 本发明涉及对深紫外中的辐射敏感的光刻胶组合物,特别是在100-200纳米(nm)范围中敏感的正性光刻胶组合物。光刻胶组合物包括a)不溶于碱性水溶液和包括至少一个酸不稳定基团的聚合物,和此外其中聚合物基本是非酚类的;b)在辐射时能够产生酸...
  • 本发明提供了生产适合用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的方法,包括下列步骤:(a)提供成膜树脂在溶剂中的溶液,所述成膜树脂通过将含有环烯烃或酸不稳定丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的至少一种单体聚合来制备;(b)提供以下两种滤片的至少一种:(i)...
  • 本发明公开了一种碱溶性成膜线性酚醛清漆树脂混合物,其包含至少两种线性酚醛清漆树脂,每种线性酚醛清漆树脂包含由至少一种酚类化合物与至少一种醛源生成的加成缩合反应产物,其中用于第一线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含90-100摩尔%间甲酚,和...
  • 本发明公开了一种光刻胶组合物,其包含:a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂;b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂;和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组...
  • 本发明涉及一种新型光刻胶组合物,该光刻胶组合物可以采用碱性水溶液显影,并能够在深紫外中的曝光波长下成像。本发明也涉及将该新型光刻胶成像的方法以及新型光酸产生剂。
  • 一种化学增强正性光敏树脂组合物,包含(A)碱溶性酚醛清漆树脂,(B)碱溶性丙烯酸树脂,(C)缩醛化合物和(D)产酸剂。
  • 一种用于感光树脂组合物的涂敷性能改善剂,包含由下述通式(1)表示的聚(二甲基硅氧烷-二苯基硅氧烷)共聚物硅油:    ***  ---(1)    其中,R↓[1]、R↓[2]、R↓[3]、R↓[4]、R↓[5]和R↓[6]独自表示氢原...
  • 一种图案形成方法,其特征在于它包括以下步骤:    [1]涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤,该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂,    [2]透过...
  • 本发明的水溶性树脂组合物至少包含水溶性树脂、加热时能够产生酸的酸产生剂和含水溶剂。该水溶性树脂组合物被施覆在由抗蚀剂例如ArF易感应放射线敏感树脂组合物形成在基底1上的高抗水性抗蚀图形3上,而在其上形成涂覆层4。将抗蚀图形3和涂覆层4进...
  • 本发明用保护基团保护的改性聚乙烯醇(PVA)是一种这样的聚乙烯醇:其中改性聚乙烯醇中,根据凝胶渗透色谱法由聚乙二醇标准测定的重均分子量为250,000或更高的改性聚乙烯醇的高分子量主体成分的数量为1000ppm或更少。用离子交换处理,然...
  • 本发明提供了一种用于光敏树脂组合物的附着力促进剂,其由通过右面的通式(1)表示的N-苯基-2H-苯并三唑化合物组成。该促进剂被加入到例如含有碱溶性树脂和光敏剂的光敏树脂组合物中,其中,R↑[1]-R↑[4]各自独立地表示氢原子,卤原子或...
  • 本发明的光敏树脂组合物包含碱溶性树脂、含醌二叠氮基的光敏剂、具有环氧基的固化剂和由通式(Ⅰ)表示的酚化合物,其中碱溶性树脂是利用无氰基偶氮聚合引发剂或者同时组合使用含氰基偶氮聚合引发剂和无氰基偶氮聚合引发剂作为聚合引发剂合成的丙烯酸树脂...
  • 本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂,其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异,本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微...