本发明涉及适合于作为负型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的负型光敏性组合物，所述组合物包含负型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5μm。所述负型光致抗蚀剂组...

本发明涉及适合于作为正型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的正型光敏性组合物，该组合物包含正型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5微米。所述正型光致抗蚀剂组合...

本发明涉及新的中性层组合物和使用该中性层组合物来对定向自组装嵌段共聚物(BCP)的微畴进行对准的方法。该组合物和方法可用于制作电子装置。该中性层组合物包含至少一种无规共聚物，其具有至少一个结构单元(1)、至少一个结构单元(2)和至少一个...

本发明涉及抗反射涂料组合物，包含交联剂、含有至少一个发色团基团和至少一个羟基和/或羧基基团的聚合物、和添加剂，进一步地其中该添加剂具有结构(1)并包含至少一个亚芳基-羟基部分，其中Y选自羧酸根阴离子或磺酸根阴离子，R1、R2和R3独立地...

本发明涉及包括聚合物、有机钛酸酯化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中该聚合物包括至少一个氟代醇基和至少一个环氧基。本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或图案转移用硬掩模的方法。

本发明涉及抗反射涂层组合物，包含交联剂和能够通过该交联剂交联的可交联的聚合物，其中该可交联的聚合物包含结构(1)表示的单元，其中A是稠合芳环，B具有结构(2)，以及C是结构(3)的羟基联苯，(2)和(3)，其中R1是C1-C4烷基且R2...

本发明涉及包括聚合物的底层涂料组合物，其中该聚合物包含在该聚合物主链中的至少一个具有包含氟或碘部分的侧基的羟基芳香族单元和至少一个包含氨基塑料的单元。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法，尤其用于EUV。

本发明涉及抗反射涂料组合物，其包含（i）热致酸产生剂；（ii）包含至少一种芳族基团的可交联聚合物；和（iii）包含至少一种结构（6）单元的聚合物型交联剂，其中R11-R13独立地选自H、（C1-C6）烷基和芳族基团，R14和R15独立地...

本发明涉及一种用于在光刻胶图案上涂覆的水性组合物，包括含有至少1个硅部分和至少1个氨基的水溶性化合物，和含有至少1个羧基的第二化合物。本发明进一步涉及使用该新型发明的方法。

本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含第一聚合物和第二聚合物的混合物以及热酸产生剂，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分、至少一个脂肪族羟基部分和至少一个不同于氟代醇的pKa范围在约8-约11的酸部分；其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包...

本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致...

本发明提供了新型抗反射涂料组合物，所述抗反射涂料组合物包含a）式1的化合物，b）热酸产生剂，（c）至少一种聚合物，（式1）（I），其中U1和U2独立地是C1-C10亚烷基；V选自C1-C10亚烷基、亚芳基和芳族亚烷基；W选自H、C1-C...

本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含氨基的聚合物。本发明还涉及微电子元件的制造方法，包括：提供具有光致抗蚀剂图案的衬底，用新型涂料涂覆所述光致抗蚀剂图案，让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应，和将没有与移除...

本发明涉及一种抗反射涂料组合物，含有交联剂和能够通过所述交联剂被交联的可交联聚合物，其中所述可交联聚合物含有结构式(1)所表示的单元，其中A是稠合的芳环，B具有结构式(2)，其中R1是C1-C4烷基，R2是C1-C4烷基。本发明进一步涉...

本发明涉及用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构1单元，(结构式I)(I)其中，X是连接部分，其选自非芳族的(A)组成部分，芳族(P)组成部分及其混合物，R′是结构(2)的基团，R...

本发明涉及正性底部可光成像抗反射涂料组合物，其能在含水碱性显影剂中显影，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种具有发色团的重复单元以及一种具有羟基和/或羧基的重复单元，结构(7)的乙烯基醚封端交联剂，还任选，光致酸产生剂...

本发明涉及能够通过在碱性水溶液中显影而形成图案的可光致成像抗反射涂料组合物，其包含(i)可溶于涂覆溶剂并包含发色团、交联性结构部分和任选的可断裂基团的聚合物A，该可断裂基团在酸或热条件下产生有助于所述聚合物在碱性水溶液中的溶解性的官能团...

本发明涉及在器件上形成反色调图像的方法，包括：ａ）在基材上形成任选的吸收性有机底层；ｂ）在所述底层上方形成光致抗蚀剂的涂层；ｃ）形成光致抗蚀剂图案；ｄ）在所述光致抗蚀剂图案上方由聚硅氮烷涂料组合物形成聚硅氮烷涂层，其中所述聚硅氮烷涂层比...

本发明公开了形成双重光致抗蚀剂图案的方法。

本发明涉及新型光敏性组合物，其包含ａ）有机聚合物，ｂ）结构（１）的光碱产生剂，和ｃ）任选地，光酸产生剂，（＋Ａ１－Ｏ２Ｃ）－Ｂ－（ＣＯ２－Ａ２＋）Ｘ，其中Ａ１＋和Ａ２＋独立地是阳离子，ｘ是大于或等于１的整数，Ｂ是非氟化烃结构部分。所述光...