本发明公开了具有减少的渗气的抗反射涂料组合物，该抗反射涂料组合物包含：（ａ）包含一种或多种官能团的聚合物，该官能团能够进行一种或多种选自共价键、离子键和氢键的相互作用；和（ｂ）在加热时离解成组成部分的热酸产生剂，该组成部分能够进行一种或...

一种聚合物，它包含（ｉ）两个或更多个选自以下的重复单元其中Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３和Ｒ６５中的每一个单独地选自氢或Ｃ１－４烷基；Ｒ６４是Ｃ１－４烷基；和（ｉｉ）至少一种附加的选自以下的重复单元其中Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４和Ｒ６５各自...

描述了形成具有高ｎ值的膜的抗反射涂料组合物。

本发明涉及能够被交联的底层涂料组合物，其包含聚合物、能够产生强酸的化合物和任选的交联剂，其中该聚合物包含至少一个吸收性发色团和至少一个选自环氧基、脂族羟基和其混合物的结构部分。本发明进一步涉及使该底层涂料组合物成像的方法。

在器件上形成光致抗蚀剂图案的方法，包括：ａ）在基底上从第一光致抗蚀剂组合物形成第一光致抗蚀剂层；ｂ）成像式曝露该第一光致抗蚀剂；ｃ）将第一光致抗蚀剂显影以形成第一光致抗蚀剂图案；ｄ）用包括至少２个氨基（ＮＨ２）基团的硬化化合物处理第一光...

一种在器件上形成光致抗蚀剂图案的工艺，其包括：ａ）在基材上由第一光致抗蚀剂组合物形成第一光致抗蚀剂层；ｂ）使第一光致抗蚀剂成像式曝光；ｃ）使第一光致抗蚀剂显影以形成第一光致抗蚀剂图案；ｄ）用包含至少２个氨基（ＮＨ２）的硬化化合物处理第一...

本发明公开了抗反射涂层和有关的聚合物。

本发明公开了抗反射涂层组合物和有关的聚合物。

本发明涉及包含聚合物、交联剂和热酸产生剂的抗反射涂料组合物，其中所述聚合物包含至少一种结构（１）的单元、至少一种结构（２）的单元和至少一种结构（３）的单元，其中Ｒ１－Ｒ９独立地选自Ｈ和Ｃ１－Ｃ６烷基，Ｒ′和Ｒ″独立地选自Ｈ和Ｃ１－Ｃ６烷...

本发明涉及包含聚合物的有机可旋涂抗反射涂料组合物，该聚合物包含至少一个在聚合物主链中的含３个或更多个稠合芳族环的单元和至少一个在聚合物主链中的含脂族结构部分的单元。本发明进一步涉及使用本发明组合物成像的方法。

本发明涉及抗反射涂料组合物。

本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含结构（１）的内酰胺基团的聚合物，其中Ｒ↓［１］独立地选自氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基醇、羟基（ＯＨ）、胺（ＮＨ↓［２］）、羧酸和酰胺（ＣＯＮＨ↓［２...

提供了一种聚合物，其包含具有至少一个Ｓｉ－ＯＨ基团和至少一个Ｓｉ－ＯＲ基团的硅氧烷聚合物，其中Ｒ是任选地具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物，当被放入溶剂中时，在４０℃老化一周之后由ＧＰＣ测定的重均分子量增量小于或等于５...

本发明涉及用于制备硅氧烷聚合物的方法，该聚合物包含至少一个Ｓｉ－ＯＨ基团和至少一个Ｓｉ－ＯＲ基团，其中Ｒ是不同于氢的结构部分，该方法包括在水／醇混合物中或者在一种或多种醇中使一种或多种硅烷反应物在水解催化剂的存在下一起反应以形成硅氧烷聚...

本发明涉及一种包含硅聚合物的能够在光致抗蚀剂层之下形成交联涂层的抗反射涂料组合物，其中该硅聚合物包含至少一种具有结构１的单元，其中Ｒ↓［１］选自Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基。本发明还涉及一种使该组合物成像的方法。

本发明涉及一种组合物，其包含：（ａ）具有至少一种式（Ⅰ）的重复单元的聚合物，其中Ｒ↑［１］是不可水解基团和ｎ是１－３的整数；和（ｂ）交联催化剂。该组合物可用于形成低ｋ介电常数材料以及光刻工业用的具有抗反射性能的硬掩模和底层材料。

本申请涉及包含以下组分的组合物：ａ）含酸不稳定基团的聚合物；ｂ）选自（ｉ）、（ｉｉ）和它们的混合物的化合物，其中（ｉ）是Ａｉ　Ｘｉ　Ｂｉ，（ｉｉ）是Ａｉ　Ｘｉ１；和ｃ）通式Ａｉ　Ｘｉ２的化合物，其中Ａｉ、Ｂｉ、Ｘｉ、Ｘｉ１和Ｘｉ２在本文...

本发明涉及能够涂覆在光致抗蚀剂层下面的抗反射涂料组合物，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中该溶剂混合物包含至少一种主要有机溶剂和至少一种选自结构１、２和３的任一种的辅助有机溶剂其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］...

本申请涉及具有右式的聚合物，其中Ｒ↓［３０］、Ｒ↓［３１］、Ｒ↓［３２］、Ｒ↓［３３］、Ｒ↓［４０］、Ｒ↓［４１］、Ｒ↓［４２］、ｊｊ、ｋｋ、ｍｍ和ｎｎ如本文中所述。该化合物可用于形成光致抗蚀剂组合物。

本发明涉及除去硅基抗反射涂层／硬掩模层的组合物和方法。