由中间聚合物印模获得金属印模的方法与工艺包括下述步骤：在第一聚合物层之上提供第一压印层，压印结构，获得中间印模。若压印的聚合物是非传导的，则在该结构之上提供传导层，获得种子层，在中间聚合物印模之上电镀，获得金属印模，然后从金属印模中分离...

在刻蚀具有导电材料的表面层（３）的基板（１）的方法中，通过电化学刻蚀使电路图形转移到基板（１）的中心表面区域部分（４）中的表面层（３）。为防止在电化学刻蚀步骤期间在中心表面区域部分（４）的周边形成过量的电流密度，在中心表面区域部分（４）...

在刻蚀中，用于刻蚀基板（１）的刻蚀剂（４）按给定图形施加。在刻蚀之前，在基板（１）上按所述图形涂覆抗蚀剂层（２），以限定出基板（１）的至少一个露出部分（３）。为了使底蚀最小，在刻蚀之前，在基板（１）上设置钝化物质也限定所述图形，即在露出...

本发明通过在阴极（１０２）和卡（４２）之间施加电压，借此使卡（４２）构成阳极，实现对卡上的铜的腐蚀。阴极（１０２）和卡（４２）浸没在电解液中，该电解液包括第一组分，其可以从处于离子态的第一状态，该离子具有第一正氧化数的金属原子，还原为处...

本发明涉及一种用于执行把图案从模板（１）转印到基片目标表面上的两步骤过程的压印装置。该装置通过在第一压印单元（２００）内由模板进行压印，例如由柔性聚合物模具（１０）生成中间盘状件。然后，操纵给料装置（４１０）以输送中间模具至第二压印单元...

在用于制作光存储介质的基体的制造方法中，形成一个盘状基体主体。然后通过在基体主体上从基体主体中心部分开始旋涂聚合物而将抗蚀剂涂覆层施加到基体主体的一个面上，以形成一个用于基体的坯件。最后，较佳地通过对基体主体中心部分冲孔，在基体主体中形...

一种在可以绕轴（５）转动的基本平坦基片（３）的表面层（４）中借助于预定曝光量的光刻射束（２）曝光制成材料槽（６）的方法，其特征是，在基片（３）绕轴转动期间，光刻射束（２）与轴（５）之间的相对位置受到控制，使部分槽（６）接受光刻射束（２）...

一种用于将图案转印到物体（２）上的设备（４）。本发明特别地涉及微结构和毫微结构的生成。该设备包括对准装置（１０），它设置成与第一接触装置（７）连接，以控制第一印模（８）沿垂直于推压方向（Ａ）的方向上的运动，和具有第二印模（１２）的第二接...

一种用于物体（Ｏ）均匀加热的设备，包括用于支撑物体（Ｏ）的支撑表面（２），和布置在支撑表面（２）上的加热层（３）。加热层（３）至少部分吸收从来源（４）接收的能量和至少部分释放这样吸收的能量到支撑在支撑表面（２）上的物体（Ｏ）。层（３）由...

将一个微米或纳米结构的图案从印模（１）转移到物体（２）上的装置，它包括带有印模（１）的接受面（１３）的第一接触装置（１１）和带有物体（２）的接受面（２３）的第二接触装置（２０）。一个压力装置（１０）能够操纵至少一个接触装置（１１，２０）...

公开了一种用于超微压印平版印刷、更具体地用于在基片上提供纳米尺寸图形的改进方法。根据这种改进，提供了模型（１００）和基片（１１５），其中，在将模型（１００）和基片（１１５）压在一起而将图形从模型（１００）转移到基片（１１５）以前，为基片...

用于在物体（２４）上形成结构化纳米级图案并带有相对于该物体（２４）减粘的层（１６）的模型工具（１）制造方法。印模原坯（２）在其表面（８）上具有结构化图案（４）。图案化的表面（８）涂有具有稳定氧化数并能形成机械稳定氧化物膜的金属层（６）。...

从具有构造表面的模板（１０）将图案转印到带有辐射可聚合流体（１４）的表面层的基片（１２）的装置和方法。所述装置包括：具有相对表面（１０４；１０５）的第一主件（１０１）和第二主件（１０２）；用于调整所述主件之间的间距（１１５）的装置；用于...

一种从具有结构化的表面的模板向承载可辐射聚合的流体表面层的衬底转移图案的设备，所述设备包括具有相对的表面的第一主体部分和第二主体部分、调节所述主体部分之间间隔的装置、在所述结构化的表面面向所述表面层的情况下在所述间隔中以互相平行的接合方...

一种用于分离夹层结构中两个相互连接的物体（２７，２８），如在压印工艺中压在一起的印模和基片的装置和方法。该装置包括支撑结构（１），其携带有：第一固定装置，其具有基面（３）和用于支撑和保持第一物体（２８）的第一抓持装置；第二固定装置（６）...