本发明涉及一种真空处理系统，其中工艺气体被引入处理腔并且通过真空处理系统排气路径而排出。通过在受沉积物影响的装置的上游引入活性气体而减少或清除由排气气体形成的沉积物。通过测定受影响装置上下游排气气体成分的气相浓度而对所引入活性气体的量进...

本发明涉及用于半导体工艺中的泵装置。该装置可包括单个泵，所述泵构造成将物质流从约分子压力转换成约大气压力。

一种布置方案，该布置方案包括安装至半导体加工工具的辅助设备和远离半导体加工工具的维护中心，从而使局部空间要求最小化并有利于容易地进入以便修理。

揭示了涉及物件的真空辅助处理的方法和装置，由此在准备腔（１５）和处理腔（１１）之间引导物件，两个腔都保持基本上相等的低压以提高系统效率和产品质量，其中磁耦合的传动机构（４３）被用于在处理之前和之后定位物件。

本发明的系统和方法提供了嵌入在网络设备中的各种实施例的以太网设备。以太网设备用于在网络化环境中配置和操作网络设备。取决于实施例，该以太网设备包括以下诸项中的至少一项：１）ＤＨＣＰ服务器，２）ＤＨＣＰ客户机，３）ＤＮＳ服务器，以及４）上游...

一种加载互锁装置和干式真空泵组件，包括：一具有加载互锁外壳的加载互锁装置，该加载互锁外壳包括一配合系统，该配合系统具有一法兰状圆柱体和一相对于该法兰状圆柱体同心设置的圆柱体；一干式真空泵，该干式真空泵包括一根轴，一转子，一从转子向外延伸...

本发明是用于对多个真空加工腔室控制压力、抽真空和提供去除作用的设备和方法。该系统可以用在半导体制造中。由多台涡轮泵将多个真空加工腔室排气入一公共的去除腔室，一台初级抽气泵将该公共的去除腔室保持在低于大气压力的压力。独立地控制诸加工腔室内...

本发明提供了通过减少或基本上消除半导体加工系统的设备部件中副产物的累积来改善半导体加工系统如沉积系统的效率的系统、设备和方法。本发明还涉及改善与半导体加工系统有关的前级管道阱的效率，其中，该阱除去了来自处理室的废气中的基本上所有的副产物...

本发明涉及将具有与旁通管和阀门相关联的ＴＭＰ的整合，从而形成单体子组件。将ＴＭＰ的壳体有效地改进成可容纳构成高度真空系统所必要的相关设备。

本发明是一种用于对若干包含不相容气体的真空处理室进行抽真空的装置和方法。气体被引导至包含预调节装置的低于大气压的消减室。在消减室中处理气体以使它们相容。然后，通过前级泵将相容的气体作为单个气流而从消减室中抽走。

揭示了涉及物件的真空辅助处理的方法和装置，由此在准备腔（１５）和处理腔（１１）之间引导物件，两个腔都保持基本上相等的低压以提高系统效率和产品质量，其中磁耦合的传动机构（４３）被用于在处理之前和之后定位物件。

一种捕集器，其停留时间至少等于原子层沉积（ＡＬＤ）过程的一个完整周期时间，这种捕集器能在流出物进入前级泵之前从反应腔和反应产物中捕集气相流出物。这种捕集器可以直接连接到反应腔，或者通过一个工艺过程用泵间接连接。这种捕集器在用于原子层沉积...

本发明是用于控制真空工艺腔内工艺流率和压力的装置和方法，该真空工艺腔由涡轮分子泵抽空。控制泵和工艺腔之间的节流阀以调节压力和流率。还控制泵下游的前级阀以将节流阀的设定维持在较佳的稳定运行范围内。

一种处理含硼烷化合物的工业废水的方法，其包括使工业废水与负载着氧化催化剂的树脂接触，其中氧化催化剂能使硼烷化合物氧化为硼酸。