新颖的杀微生物的二肟醚衍生物制造技术

技术编号:8804755 阅读:150 留言:0更新日期:2013-06-13 08:33
本发明专利技术提供了具有化学式(I)的多种化合物其中R1、A1、X、Y6、Y7、Y8、G1、G2、G3以及p是如在权利要求中所定义的。本发明专利技术进一步提供了在这些化合物的制备中使用的中间体,提供包括这些化合物的组合物并且提供它们在农业或园艺学中用于控制或防止植物被致植物病的微生物(优选是真菌)所侵染的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新颖的杀微生物的二肟醚衍生物本专利技术涉及新颖的具有杀微生物活性、特别是杀真菌活性的环状双肟衍生物。它进一步涉及在这些化合物的制备中使用的中间体,涉及包括这些化合物的组合物并且涉及它们在农业或园艺学中用于控制或防止植物被致植物病的微生物(优选是真菌)所侵染的用途。在W008074418中说明了具有杀真菌活性的双肟。出人意料地,已经发现一些新颖的、基于二环片段的双肟衍生物具有杀微生物活性。本专利技术因此涉及具有化学式(I)的双肟衍生物

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.02 EP 10168236.7;2010.07.29 EP 10171257.8;1.一种具有化学式(I)的化合物2.根据权利要求1所述的化合物,其中R1表示氢、(C1-C4烷基W2CX1-Cltl烷基、苯基或吡啶基,其中该烷基、苯基以及吡啶基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基以及一种包含一至三个氮原子的5-或6-元杂环的基团取代; A1 表示环 A-2、Α-4、或 Α-5 ; R3> R6> R7> R8以及R9彼此独立地表示氢、卤素、CN、C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、苯基、一种包含一至三个氮原子的5-或6-元杂环、OR11、SH、C1-C8-烷硫基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、C02Rn、CON(R12)2,或其中该烷基、环烷基、链烯基、炔基、苯基以及杂环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2, NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4卤代烷氧基的基团取代; 或者R6和R7、R7和R8、R3和R8、或R3和R9连同它们附接至其上的吡啶环片段可以形成一个部分或完全不饱和的5-至7-元碳环,并且其中由R6和R7、R7和R8、R3和R8、或R3和R9形成的该环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2、NOyOHA1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4卤代烷氧基的基团取代;每个R11彼此独立地表示氢、C1-C4烷基、C3-C8链烯基、C3-C8炔基、苄基、或苯基,其中该烷基、环烷基、链烯基、炔基、苯基以及苄基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2, NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4齒代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4齒代烷氧基的基团取代;每个R12彼此独立地表示氢或C1-C8烷基。3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中A1表示环A-2、A-4、或A-5; R3、R6、R7、R8以及R9彼此独立地表示氢、卤素、CN、C1-C4烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、苯基、OR11、SH、C1-C4-烷硫基、C1-C4-烷基亚磺酰基、C1-C4-烷基磺酰基,其中该烷基、烷氧基、链烯基、炔基以及苯基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2,NO2, OH, C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4卤代烷氧基的基团取代; 或者R6和R7、R7和R8、R3和R8、或R3和R9连同它们附接至其上的吡啶环片段可以形成一个部分或完全不饱和的5-至7-元碳环; 每个Rn彼此独立地表示氢、C1-C4烷基、C3-C6链烯基、C3-C6炔基或苯基; 每个R12彼此独立地表示氢或C1-C8烷基。4.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中G^G2以及G3表示亚甲基。5.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中P是I。6.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中X表示X-3。7.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中 X表示X-3 ; Z4和Z6表示亚甲基;Z5 表示 CR14’ R15’ 或 C=CR19R20 ; 每个R14’以及R15’彼此独立地表示氢、卤素X1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或苯基,其中该苯基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、甲基、卤甲基、甲氧基以及卤甲氧基的基团取代; 或者R14IP R15’连同它们附接至其上的碳原子一起可以形成一个可任选地经卤素取代的C3-C6环烷基基团;并且 每个R19以及R2°彼此独立地表示氢、卤素、甲基或卤甲基。8.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中Y6、Y7以及Y8彼此独立地表示氢、卤素、N(R23) 2CN、N02、C1-C8 烧基、C1-C6-烧氧基-C1-C4-烧基、C3-C8 环烧基、C2-C6 链稀基、C2-C6炔基、苯基、吡啶基、OR 22、SH、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基亚磺酰基或C1-C8烷基磺酰基,其中该烧基、烧氧基、环烧基、链稀基、块基、苯基以及卩比淀基可任选地经个或多个独立地选自齒素、CN、NH2, NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4齒烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4齒代烷氧基的基团取代; 或者Y6和Y7或Y7和Y8连同它们附接至其上的吡啶环片段可以形成一个部分或完全不饱和的5-至7-元碳环,其中由Y6和Y7或Y7和Y8形成的该环可任选地经一个或多个独立地选自齒素、CN、NH2, NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4齒代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4齒代烷氧基的基团取代; 每个R22彼此独立地表示氢、C1-C4烷基、C3-C6环烷基、C3-C6链烯基、C3-C6炔基、苄基、苯基或吡啶基,其中该烷基、环烷基、链烯基、炔基、苯基、苄基以及吡啶基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2^NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烧氧基以及C1-C4-烧氧基-C1-C4-烧基的基团取代; 每个R23彼此独立地表示氢或C1-C8烷基,其中该烷基可任选地经一个或多个卤素取代; 其中当两个基团R23被附接至相同氮原子时,这些基团可以是相同的或不同的; 并且其中当两个基团R23被附接至相同氮原子时,这两个基团连同它们附接至其上的氮原子可以形成一种环B-1、B-2、B-3、B-4或B-5,其中这种形成的环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、甲基以及卤代甲基的基团取代。9.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中Y6、Y7以及Y8彼此独立地表示氢、卤素、N(R23) 2CN、N02、C1-C6 烧基、C1-C4-烧氧基-C1-C4-烧基、C3-C6 环烧基、C2-C6 链稀基、C2-C6炔基、苯基、吡啶基、C1-C4-烷氧基、C1-C4-链烯氧基、C1-C4-炔氧基、苯氧基、SH、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基亚磺酰基或C1-C8烷基磺酰基,其中该烷基、烷氧基、链烯氧基、炔氧基、苯氧基环烷基、链烯基、炔基、苯基以及吡啶基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2,Ν02、0Η、甲基以及卤代甲基的基团取代; 或者Y6和Y7或Y7和Y8连同 它们附接至其上的吡啶环片段可以形成一个部分或完全不饱和的5-至7-元碳环,其中由Y6和Y7或Y7和Y8形成的该环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2、NO2、0Η、甲基以及卤代甲基的基团取代; 每个R23彼此独立地表示氢或C1-C8烷基,其中该烷基可任选地经一个或多个卤素取代; 其中当两个基团R23被附接至相同氮原子时,这些基团可以是相同的或不同的; 并且其中当或两个基团R23被附接至相同氮原子时,这两个基团连同它们附接至其上的氮原子可以形成一种环B-1、B-2、B-3、Β-4或Β-5,其中这种形成的环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、甲基以及卤代甲基的基团取代10.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中r3、r6、r7、r8以及R9彼此独立地表示氢、C1-C4烷基、CN或C1-C4烷氧基,其中该烷基以及烷氧基可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、C1-C4烷氧基以及C1-C4卤代烷氧基的基团取代。11.根据以上权利要求中任一项所述的化合物,其中A1表示环A-2。12.根据权利要求1所述的化合物,其中R1表示氢、卤素、ClOHdHX1-C8烷硫基X1-C8烷基亚磺酰基、C1-C8烷基磺酰基、NH2、C1-C10烷基、C3-C8环烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、(C1-C4烷氧基羰基)C1-C4-烷基、(C1-C4烷基)02C、苯基或吡啶基,其中该烷基、环烷基、链烯基、炔基、苯基以及吡啶基可任选地是经一个或多个基团取代,该一个或多个基团独立地选自卤素、CN、NH2、NO2、OH、C1-C4烷基、C1-C4齒代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4齒代烷氧基、C3-C6环烷基以及含有一个至三个独立地选自O、S和N的杂原子的5元-或6元-杂环,其条件是该杂环不包含邻接的氧原子、邻接的硫原子、或邻接的硫和氧原子; A1表示环A-2 ; R3> R7> R8以及R9彼此独立地表示氢、卤素、CN、C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、苯基、一种包含一至三个氮原子的5-或6-元杂环、OR11、SH、C1-C8-烷硫基、C1-C8-烷基亚磺酰基、C1-C8-烷基磺酰基、CO2R11或CON(R12)2,其中该烷基、环烷基、链烯基、炔基、苯基以及杂环可任选地经一个或多个独立地选自卤素、CN、NH2, NO2, OH、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基以及C1-C4卤代烷氧基的基团取代;或者R7和R8、...

【专利技术属性】
技术研发人员:K·奈贝尔D·斯蒂尔利W·赞巴赫A·博托拉多
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:
国别省市:

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